[發(fā)明專利]真空蒸鍍裝置以及蒸發(fā)源的冷卻方法

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• 申請日: 2017-04-27
• 公開（公告）號: CN107338410A
• 公開（公告）日: 2017-11-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 渡邊一弘
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能特機(jī)株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11127
• 代理人: 李輝,劉暢

1.一種真空蒸鍍裝置，其在真空槽內(nèi)具有使收納的成膜材料蒸發(fā)的蒸發(fā)源，從設(shè)置于所述蒸發(fā)源的蒸發(fā)口部射出蒸發(fā)的成膜材料，由此在設(shè)置于與所述蒸發(fā)源對置的位置的基板上形成蒸鍍膜，其特征在于，

該真空蒸鍍裝置具有隔熱容器體，該隔熱容器體容納所述蒸發(fā)源和對該蒸發(fā)源進(jìn)行加熱的加熱部，并隔絕來自所述蒸發(fā)源和所述加熱部的熱量，

該真空蒸鍍裝置設(shè)置有向該隔熱容器體與所述蒸發(fā)源之間的空間中導(dǎo)入制冷劑氣體的制冷劑氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)，該制冷劑氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)由制冷劑氣體導(dǎo)入孔和制冷劑氣體配管構(gòu)成，該制冷劑氣體導(dǎo)入孔設(shè)置于所述隔熱容器體，該制冷劑氣體配管連接于該制冷劑氣體導(dǎo)入孔的入口側(cè)，用于從所述真空槽的外部向所述制冷劑氣體導(dǎo)入孔輸出所述制冷劑氣體。

2.一種真空蒸鍍裝置，其在真空槽內(nèi)具有蒸發(fā)源，該蒸發(fā)源具有收納成膜材料的收納部和使蒸發(fā)的所述成膜材料擴(kuò)散的擴(kuò)散部，從設(shè)置于所述擴(kuò)散部的蒸發(fā)口部射出所述蒸發(fā)的成膜材料，由此在設(shè)置于與所述蒸發(fā)源對置的位置的基板上形成蒸鍍膜，其特征在于，

該真空蒸鍍裝置具有隔熱容器體，該隔熱容器體容納所述蒸發(fā)源和對該蒸發(fā)源進(jìn)行加熱的加熱部，并隔絕來自所述蒸發(fā)源和所述加熱部的熱量，

該真空蒸鍍裝置設(shè)置有向該隔熱容器體與所述蒸發(fā)源之間的空間中導(dǎo)入制冷劑氣體的制冷劑氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)，該制冷劑氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)由制冷劑氣體導(dǎo)入孔和制冷劑氣體配管構(gòu)成，該制冷劑氣體導(dǎo)入孔設(shè)置于所述隔熱容器體，該制冷劑氣體配管連接于該制冷劑氣體導(dǎo)入孔的入口側(cè)，用于從所述真空槽的外部向所述制冷劑氣體導(dǎo)入孔輸出所述制冷劑氣體。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述隔熱容器體具有用于使所述蒸發(fā)口部露出的開口部，并且構(gòu)成為，從所述制冷劑氣體導(dǎo)入孔導(dǎo)入到了所述隔熱容器體與所述蒸發(fā)源之間的空間的制冷劑氣體從所述開口部的所述蒸發(fā)口部的周圍流出到所述隔熱容器體的外部。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述制冷劑氣體導(dǎo)入孔設(shè)置于其出口側(cè)與所述蒸發(fā)源的收納所述成膜材料的收納部面對的位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述制冷劑氣體導(dǎo)入孔設(shè)置于所述隔熱容器體，并設(shè)置于用于使所述蒸發(fā)口部露出的開口部的相反側(cè)位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

在所述隔熱容器體的與所述蒸發(fā)源對置的內(nèi)側(cè)面?zhèn)龋O(shè)置有提高紅外區(qū)域的輻射率的吸熱面部。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述吸熱面部設(shè)置于與所述蒸發(fā)源的收納所述成膜材料的收納部面對的位置。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

在所述吸熱面部上形成有多個具有深度的1/2以下的直徑的盲孔或者貫穿孔。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述吸熱面部的與所述蒸發(fā)源對置的對置面是提高紅外區(qū)域的輻射率的鍍層、噴涂層或氧化覆膜，或者是規(guī)定粗糙度的凹凸面。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

在所述加熱部上設(shè)置有制冷劑循環(huán)路徑，構(gòu)成為制冷劑在該制冷劑循環(huán)路徑中循環(huán)。

11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

在所述隔熱容器體的與所述蒸發(fā)源的使蒸發(fā)的所述成膜材料擴(kuò)散的擴(kuò)散部面對的位置，設(shè)置有降低紅外區(qū)域的輻射率的保溫板部。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述保溫板部設(shè)置于所述蒸發(fā)口部的附近位置。

13.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

所述蒸發(fā)源具有收納室和擴(kuò)散室，該收納室形成收納所述成膜材料的收納部，該擴(kuò)散室形成使蒸發(fā)的所述成膜材料擴(kuò)散的擴(kuò)散部，所述收納室與所述擴(kuò)散室用連結(jié)管連結(jié)。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，

在所述隔熱容器體上設(shè)置有板狀的分隔部，該分隔部將所述收納部與所述擴(kuò)散部隔開，并具有貫插孔，所述連結(jié)管貫插到該貫插孔中。