[發(fā)明專利]一種陣列基板及顯示裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710285719.8 | 申請日: | 2017-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN106896607A | 公開(公告)日: | 2017-06-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙凱祥 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1368 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11372 | 代理人: | 吳大建,何嬌 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 陣列 顯示裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種陣列基板及顯示裝置。
背景技術(shù)
膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD)是一種常見的顯示方式。在TFT-LCD進行圖像顯示時,每一幀圖像的切換是通過柵線掃描的方式實現(xiàn)。柵線為金屬線,有金屬線存在一定的電阻,隨著傳輸距離的增大,掃描線上的電壓會降低,這種現(xiàn)象稱之為壓降(Feedthrough)。現(xiàn)有液晶顯示面板中的柵線壓降(Feedthrough)的表達式為:
其中,△Vp表示壓降值,Cgs表示柵線與開關(guān)元件的源極/漏極之間的電容,Clc表示液晶電容,Cs表示存儲電容,Vghl表示理想輸入電壓與實際輸入電壓的差值。沿柵線輸出近端至輸出遠端的方向(即距離掃描信號驅(qū)動電路由近及遠方向),柵線實際輸入電壓逐漸降低,理想輸入電壓不變,因此Vghl逐漸增大。即壓降值沿柵線輸出近端至輸出遠端的方向逐漸增大。在液晶面板上△Vp的變化,會造成靠近柵線輸入端的畫面較亮,遠離柵線輸入端的畫面較暗,影響面板顯示均一性。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有技術(shù)中,由于壓降的變化導(dǎo)致的面板顯示不均勻的問題,本發(fā)明提供一種陣列基板及顯示裝置,相對于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明中的陣列基板及顯示裝置的顯示均一性較好。
本發(fā)明提供一種陣列基板,所述陣列基板包括設(shè)置于底層的玻璃基板,在所述玻璃基板上設(shè)置有柵線,陣列基板上還設(shè)置有多對源極/漏極,所述源極/漏極與所述柵線之間設(shè)置至少一個絕緣層,其中,沿所述柵線的輸出近端至輸出遠端的方向,所述源極/漏極與所述柵線的正對面積逐漸減小。
本發(fā)明中的所述源極/漏極與所述柵線的正對面積逐漸減小,從而使得△Vp在整個面板上較為均一,保證了面板的顯示均一性。
作為對本發(fā)明的進一步改進,還包括有源層,所述有源層包括導(dǎo)電溝道,所述源極與所述漏極通過所述導(dǎo)電溝道進行連接,從垂直陣列基板的方向看,所述源極/漏極與所述柵線的正對面積為所述導(dǎo)電溝道與所述柵線之間的正對面積。
進一步的,所述玻璃基板上依次設(shè)置所述有源層、第一絕緣層、所述柵線、第二絕緣層和第二導(dǎo)電層,所述第二導(dǎo)電層包括所述源極/漏極。
進一步的,所述第一絕緣層和所述第二絕緣層上設(shè)置有過孔,所述源極/漏極通過不同的過孔與所述導(dǎo)電溝道連接。
進一步的,所述有源層還包括位于所述導(dǎo)電溝道兩側(cè)的源極區(qū)和漏極區(qū),所述源極區(qū)與所述源極連接,所述漏極區(qū)與所述漏極連接。
進一步的,沿所述柵線的輸出近端至輸出遠端的方向,所述柵線寬度逐漸減小。
進一步的,所述柵線的寬度階梯性減小。
進一步的,所述柵線關(guān)于沿傳輸方向的中心線對稱,所述柵線在所述中心線的兩側(cè)均為階梯結(jié)構(gòu)。
通過改變柵極線的寬度的方式,使得所述源極和漏極與所述柵線的正對面積逐漸減小,該方法簡便實用。
進一步的,沿所述柵線的輸出近端至輸出遠端的方向,所述導(dǎo)電溝道沿傳輸方向的寬度逐漸減小。
本發(fā)明的另一方面,還提供一種顯示裝置,其特征在于,包括以上所述的陣列基板。
本發(fā)明通過改變所述源極/漏極與所述柵線的正對面積,使得柵線上各處的壓降相等,從而提升面板顯示的均一性。
附圖說明
在下文中將基于實施例并參考附圖來對本發(fā)明進行更詳細的描述。其中:
圖1是現(xiàn)有技術(shù)中的一種陣列基板布線示意圖;
圖2是本發(fā)明實施例中的陣列基板結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是本發(fā)明一個實施例中的陣列基板布線示意圖;
圖4是本發(fā)明一個實施例中的的陣列基板布線示意圖;
在附圖中,相同的部件使用相同的附圖標記。附圖并未按照實際的比例。
具體實施方式
下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步說明。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





