[發明專利]磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的調控裝置

有效

• 申請號: 201710284563.1
• 申請日: 2017-04-26
• 公開（公告）號: CN107059096B
• 公開（公告）日: 2019-06-18
• 發明（設計）人: 張鵬;林敏;徐利軍;張衛東;陳義珍
• 申請（專利權）人: 中國原子能科學研究院
• 主分類號: C25D17/00
• 分類號: C25D17/00;C25D21/12;C25D17/10
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1.一種磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的調控裝置，其特征在于：包括二維定位支架和設置在二維定位支架上的永磁體調控臺面，所述的永磁體調控臺面包括底座(1)，所述底座(1)上設有用于固定沉積槽的孔，在孔的兩側設置用于固定永磁體的磁鐵固定板(5)和用于調節永磁體位置的位移傳動裝置；在所述二維定位支架的上部設有電極(3)和電極旋轉電機，并外置調整電極高度和旋轉速度的控制器，電極(3)的下端安裝陽極絲(4)，所述電極(3)的中心位于永磁體調控臺面底座上沉積槽固定孔中心的正上方。

2.如權利要求1所述的磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的調控裝置，其特征在于：所述的用于調節永磁體位置的位移傳動裝置包括軸承座(8)、絲杠(6)和滑塊(7)，絲杠(6)設置在軸承座(8)上，滑塊(7)與絲杠(6)螺紋連接，磁鐵固定板(5)固定在滑塊(7)上。

3.如權利要求1所述的磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的調控裝置，其特征在于：所述永磁體調控臺面的底座(1)上設有用于讀取永磁體軸向端面中心與沉積槽中陰極沉積源片中心之間距離的刻度線。

4.如權利要求1-3中任意一項所述的磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的調控裝置，其特征在于：位于沉積槽固定孔兩側的位移傳動裝置對稱設置。

5.如權利要求1所述的磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的調控裝置，其特征在于：所述的二維定位支架包括底板(2)和垂直固定架(9)，永磁體調控臺面安裝在所述底板(2)上，垂直固定架(9)上設有呈水平狀的垂直升降臂(10)，所述電極(3)和電極旋轉電機均設置在垂直升降臂(10)上，垂直升降臂的升降由外置的控制器進行操作，并通過電動調節絲杠螺母傳動裝置來實現其上下移動。

6.如權利要求1所述的磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的調控裝置，其特征在于：所述的二維定位支架和永磁體調控臺面均采用無磁性材料。