[發明專利]磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的裝置

在審

• 申請號: 201710284561.2
• 申請日: 2017-04-26
• 公開（公告）號: CN107190293A
• 公開（公告）日: 2017-09-22
• 發明（設計）人: 張鵬;林敏;徐利軍;張衛東;陳義珍;羅瑞;夏文
• 申請（專利權）人: 中國原子能科學研究院
• 主分類號: C25D7/00
• 分類號: C25D7/00;C25D17/00;C25D17/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的裝置，其特征在于：包括二維定位支架(1)和設置在二維定位支架上的永磁體調控臺面(2)，所述的永磁體調控臺面(2)中部設有盛裝沉積液的沉積槽(3)，在沉積槽(3)的兩側設有用于固定永磁體(4)的磁鐵固定板和用于調節永磁體位置的位移傳動裝置；在所述二維定位支架(1)的上部設有與電源正極相連的電極，電極的下端安裝陽極絲，陽極絲從沉積槽(3)的頂部伸入到沉積液中；在沉積槽底部設有緊密接觸的陰極沉積源片(31)和陰極導出墊片(32)，在所述陰極導出墊片(33)底部連接陰極導出線(7)，所述陰極導出線(7)連接電源負極。

2.如權利要求1所述的磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的裝置，其特征在于：所述的用于調節永磁體位置的位移傳動裝置包括軸承座(23)、絲杠(21)和滑塊(22)，絲杠(21)設置在軸承座(23)上，滑塊(22)與絲杠(21)螺紋連接，磁鐵固定板固定在滑塊(22)上。

3.如權利要求1或2所述的磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的裝置，其特征在于：位于沉積槽(3)兩側的位移傳動裝置對稱設置。

4.如權利要求1所述的磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的裝置，其特征在于：所述的二維定位支架(1)包括底板和垂直固定架，永磁體調控臺面(2)安裝在所述底板上，垂直固定架上設有呈水平狀的垂直升降臂(6)，垂直升降臂(6)通過電動調節絲杠螺母傳動裝置實現上下移動，所述電極以及用于控制電極的電極旋轉電機均設置在垂直升降臂上。

5.如權利要求1所述的磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的裝置，其特征在于：所述的二維定位支架(1)和永磁體調控臺面(2)均采用無磁性材料；永磁體(4)材料選擇釹鐵硼，永磁體的N-S極方向垂直于沉積槽的軸線方向。

6.如權利要求1所述的磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的裝置，其特征在于：所述沉積槽(3)的底部通過螺紋底蓋(33)進行密封，螺紋底蓋(33)的中心開孔，在沉積槽底部螺紋底蓋(33)內從下向上依次設置陰極導出墊片(32)和陰極沉積源片(31)，所述陰極導出線(7)從螺紋底蓋(33)的開孔引出。

7.如權利要求6所述的磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的裝置，其特征在于：所述沉積槽(3)的頂部設有倒圓錐形的防濺裝置(34)，圓錐形的頂端設有供陽極絲穿過的開口。

8.如權利要求7所述的磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的裝置，其特征在于：所述沉積槽(3)設置在沉積槽支架(5)上，沉積槽支架(5)安裝在永磁體調控臺面(2)中部；所述沉積槽支架(5)為上部設有凹槽的柱形結構，沉積槽(3)置于所述凹槽內，在沉積槽支架(5)的一側設有供陰極導出線(7)引出的小口。

9.如權利要求8所述的磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的裝置，其特征在于：所述的沉積槽(3)、螺紋底蓋(31)、防濺裝置(34)和沉積槽支架(5)均可采用聚四氟乙烯材料或者玻璃材料。

10.如權利要求1或6所述的磁流體動力學電沉積法制備高分辨率α放射源的裝置，其特征在于：所述的陰極導出墊片(32)采用不銹鋼材料；所述的陰極沉積源片(31)采用304不銹鋼或銀材料。