[發明專利]一種簡單快速圖案化鈣鈦礦量子點的方法

在審

• 申請號: 201710282494.0
• 申請日: 2017-04-26
• 公開（公告）號: CN107145039A
• 公開（公告）日: 2017-09-08
• 發明（設計）人: 陳軍;李曉明;吳曄;曹菲;曾海波
• 申請（專利權）人: 南京理工大學
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 南京蘇創專利代理事務所(普通合伙)32273
• 代理人: 張學彪

技術領域

本發明涉及一種簡單快速圖案化鈣鈦礦量子點的方法。

背景技術

量子點材料是一種準零維的納米材料，它具有獨特的光電特性，比如顏色大范圍可調，較窄的發射帶寬，和高的光致發光量子效率。因此吸引了很多領域的關注，尤其是顯示照明領域。目前，研究的量子點材料有很多，包括CdS,CdTe,ZnO,InAs等等。最近，鈣鈦礦量子點材料的研究非常引人注目，因為這種材料光致發光效率、電致發光效率和亮度都非常高。隨著鈣鈦礦量子點材料制備方法的不斷改進，以及發光器件制作技術的提高，鈣鈦礦量子點材料一定會在不久的將來應用于實際顯示器件中。

為了實現量子點材料在顯示中的應用，對量子點薄膜進行圖案化是非常重要的。目前，可以實現量子點圖案化的方法很多，比如模板法，轉移印刷法，噴墨打印法，光刻法，3D打印法等等。然而，每個方法都有自身的不足與缺點，比如精度、產率、費用等。例如，轉移印刷法，它是一種基于彈性印刷版的方法，可以實現高分辨圖案化，但是較難實現大面積圖案化并且會產生接觸污染。噴墨打印法是一種基于商業噴墨打印設備的方法，可以實現量子點的圖案直寫，不需要模板，而且可以使用任何基底，但是噴墨設備昂貴并且噴嘴容易堵塞。光刻法是一種基于光刻技術的方法，它有一套詳細的制備過程，并且產率較高，但是制備過程步驟較多，使用的溶劑可能會破壞量子點材料。

因此，需要一種簡單快速圖案化鈣鈦礦量子點的方法以解決上述問題。

發明內容

本發明針對現有技術存在的問題，提供一種簡單快速圖案化鈣鈦礦量子點的方法。

一種簡單快速圖案化鈣鈦礦量子點的方法，包括以下步驟：

一、清洗基片；

二、將步驟一清洗完之后的所述基片放在勻膠機上旋涂制膜，所述膜的材料為鈣鈦礦量子點；

三、利用激光掃描步驟二得到的所述基片表面繪制圖案；

四、利用有機溶劑對步驟四得到的繪制圖案后的所述基片進行清洗，將圖案之外的鈣鈦礦量子點清洗干凈，得到圖案化鈣鈦礦量子點。

更進一步的，所述基片為石英玻璃片。

更進一步的，步驟五中所述有機溶劑為正己烷。

更進一步的，步驟三中采用激光直寫裝置在所述基片表面繪制圖案，所述激光直寫裝置包括激光器、光快門、反射鏡、聚焦物鏡和位移臺，所述激光器和光快門均位于反射鏡的入射光路上，所述光快門設置在所述激光器和反射鏡之間，所述聚焦物鏡和位移臺均位于所述反射鏡的反射光路上，所述聚焦物鏡設置在所述反射鏡和位移臺之間。本發明使用的設備便宜，搭建的光路簡單易懂。

更進一步的，所述清洗機為超聲清洗機。

更進一步的，所述位移臺為三維電動位移臺。

更進一步的，步驟一中清洗基片包括以下步驟：

1)、超聲清洗基片；

2)、將步驟1)清洗后的基片烘干并放入UVO₃清洗機中進行二次清洗。

更進一步的，步驟二中將步驟一清洗完之后的所述基片放在勻膠機上旋涂制膜包括以下步驟：

3)、將所述基片放置在勻膠機轉子上并打開勻膠機的吸附按鈕，將所述基片需要制膜的一面向上；

4)、在所述基片上滴上鈣鈦礦量子點溶液；

5)、打開勻膠機旋涂按鈕旋轉制膜。

更進一步的，步驟三中采用激光直寫裝置在所述基片表面繪制圖案為通過控制平移臺的移動和光快門的開與關，繪制出設計的圖案。

更進一步的，步驟三中采用激光直寫裝置在所述基片表面繪制圖案包括以下步驟：

6)、將表面制膜的所述基片設置在所述移動所述平移臺上；

7)、關閉光快門，移動所述平移臺至連續部分的初始位置；

8)、打開光快門，移動所述平移臺完成圖案中連續部分的繪制；

9)、重復步驟7)和步驟8)，直至完成全部圖案的繪制。

有益效果：本發明的簡單快速圖案化鈣鈦礦量子點的方法過程簡單，速度快，可以根據需求，制備各種圖案，并且無需模板，可以實現大面積圖案化量子點，并能在常溫常壓下圖案化鈣鈦礦量子點。

附圖說明

圖1為本發明的流程圖；

圖2為激光直寫裝置的結構示意圖；

圖3為本發明實施例中圖案化鈣鈦礦量子點實物圖。

具體實施方式

下面結合附圖和具體實施例，進一步闡明本發明，應理解這些實施例僅用于說明本發明而不用于限制本發明的范圍，在閱讀了本發明之后，本領域技術人員對本發明的各種等價形式的修改均落于本申請所附權利要求所限定的范圍。

實施例1