[發(fā)明專利]一種減壓干燥腔及真空減壓干燥設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710282366.6 | 申請日: | 2017-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN107062812B | 公開(公告)日: | 2019-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙德江 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | F26B5/04 | 分類號: | F26B5/04;G09F9/00 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭潤湘 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 擴散裝置 承載部件 真空減壓干燥 整流裝置 待干燥 蓋板 基板 腔室 密封圈 室內(nèi) 抽氣孔 均一性 支撐物 成膜 通孔 像素 申請 密封 承載 垂直 | ||
本申請?zhí)峁┝艘环N減壓干燥腔及真空減壓干燥設(shè)備,用以提高像素內(nèi)成膜的均一性,本申請?zhí)峁┑囊环N減壓干燥腔,包括:腔室、設(shè)置于所述腔室內(nèi)的承載部件和設(shè)置于所述腔室上的抽氣孔,還包括設(shè)置于所述腔室內(nèi)的整流裝置;所述整流裝置包括:面向所述承載部件承載待干燥基板一側(cè)的擴散裝置和位于所述擴散裝置背向所述承載部件一側(cè)的蓋板;所述擴散裝置與所述蓋板之間通過支撐物連接且存在第一間隙,所述擴散裝置中設(shè)有均勻分布的垂直所述待干燥基板的多個通孔,所述擴散裝置上設(shè)有朝向所述承載部件且用于密封所述擴散裝置與所述承載部件的密封圈。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種減壓干燥腔及真空減壓干燥設(shè)備。
背景技術(shù)
真空減壓干燥(Vacuum Dry,VCD)是制作薄膜工藝中的一道重要工序,通常情況下,所呈薄膜是面狀薄膜,對真空減壓干燥設(shè)備要求不高。結(jié)合圖1、圖2所示,現(xiàn)有VCD設(shè)備包括腔室01和承載部件02,其中,承載部件02位于腔室01內(nèi),將抽氣孔03開設(shè)在腔室01的底部或者側(cè)面。該VCD設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單,對于滿足普通的整面成膜是沒有問題的。但是,如果薄膜最終要沉積在像素級尺寸上,由于各像素間存在阻擋層,每個像素的表面張力變成了一個不可忽略的因素,導(dǎo)致現(xiàn)有VCD設(shè)備無法保證像素內(nèi)成膜的均一性,成膜后會出現(xiàn)各種不良(mura)。
基于此,如何提高像素內(nèi)成膜的均一性,是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問題。
發(fā)明內(nèi)容
本申請實施例提供了一種減壓干燥腔及真空減壓干燥設(shè)備,用以提高像素內(nèi)成膜的均一性。
本申請實施例提供的一種減壓干燥腔,包括:腔室、設(shè)置于所述腔室內(nèi)的承載部件和設(shè)置于所述腔室上的抽氣孔,還包括設(shè)置于所述腔室內(nèi)的整流裝置;所述整流裝置包括:面向所述承載部件承載待干燥基板一側(cè)的擴散裝置和位于所述擴散裝置背向所述承載部件一側(cè)的蓋板;所述擴散裝置與所述蓋板之間通過支撐物連接且存在第一間隙,所述擴散裝置中設(shè)有均勻分布的垂直所述待干燥基板的多個通孔,所述擴散裝置上設(shè)有朝向所述承載部件且用于密封所述擴散裝置與所述承載部件的密封圈。
本申請實施例提供的減壓干燥腔,由于擴散裝置與蓋板之間存在第一間隙,擴散裝置與承載部件通過密封圈密封,且擴散裝置中設(shè)有均勻分布的垂直待干燥基板的多個通孔,可以使得待干燥基板上揮發(fā)出的氣體均勻地擴散到第一間隙中,然后通過抽氣孔將擴散到第一間隙的氣體迅速的抽走,從而不會影響到待干燥基板上像素中的成膜形貌,進而提高像素內(nèi)成膜的均一性。
較佳地,所述擴散裝置包括:面向所述承載部件承載待干燥基板一側(cè)的第一擴散板和位于所述第一擴散板與所述蓋板之間的第二擴散板;所述第一擴散板與所述第二擴散板相連,且所述第一擴散板與所述第二擴散板之間存在第二間隙,所述第一擴散板上設(shè)有均勻分布的垂直所述待干燥基板的多個第一通孔,所述第二擴散板上設(shè)有均勻分布的垂直所述待干燥基板的多個第二通孔,所述密封圈設(shè)置在所述第二擴散板上。
通過設(shè)置第一擴散板和第二擴散板,第二擴散板、第一擴散板與承載部件通過密封圈密封,并在第一擴散板和第二擴散板上設(shè)置均勻分布的垂直待干燥基板的通孔,這樣可以逐級改變待干燥基板上揮發(fā)出的氣體的均勻性,使得待干燥基板上揮發(fā)出的氣體均勻地擴散到第一間隙中,且使得擴散的氣體的擴散方向盡可能地保持垂直待干燥基板,從而使得揮發(fā)出的氣體的擴散速度盡可能地一致,進而提高像素內(nèi)成膜的均一性。
較佳地,所述第二擴散板的厚度大于所述第一擴散板的厚度。
由于第二擴散板的厚度大于第一擴散板的厚度,使得擴散的氣體的擴散方向盡可能地保持垂直待干燥基板,從而使得揮發(fā)出的氣體的擴散速度盡可能地一致,進而提高像素內(nèi)成膜的均一性。
較佳地,所述第二通孔的孔徑大于所述第一通孔的孔徑。
由于第二通孔的孔徑大于第一通孔的孔徑,這樣可以加快氣體流速,從而減少真空減壓干燥處理時間,進而可以縮短生產(chǎn)周期,增加產(chǎn)量。
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