[發明專利]一種寬光譜高反光鏡

在審

• 申請號: 201710282344.X
• 申請日: 2017-04-26
• 公開（公告）號: CN107092046A
• 公開（公告）日: 2017-08-25
• 發明（設計）人: 毛書正
• 申請（專利權）人: 上海默奧光學薄膜器件有限公司
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及光學儀器與光譜分析儀領域，具體是一種寬光譜高反光鏡，主要用來提高從紫外到紅外光線的光譜的反射率。

背景技術

科研與實際生活中經常使用分析儀器，在很多分析儀器中，如：分光光度計，是將成分復雜的光分解為光譜線的科學儀器，要求光源具有從真空紫外到紅外的光譜(160nm-3500nm)，由于儀器的結構要求必須采用光柵分光與多個反光鏡組成的光路系統，如圖2所示。但目前所有的復制光柵與反光鏡的紫外線光都很弱，如圖3所示的反射光譜曲線，在200nm的反射率有60％。在圖2的光路系統中共有六個反光鏡，經過六次反射后達到目標的總能量為(0.6)⁶＝4.7％，這必然影響儀器的質量。為此，必須提高反光鏡的反射率，以提高儀器的質量。

發明內容

本發明的目的在于解決上述問題，提供一種寬光譜高反光鏡，可以提高反光鏡在190nm～1100nm波長光線的反射率，使其經過多次反射后輸出綜合能量損失很小，進而提高儀器的質量。

為了達到上述目的，本發明是通過以下技術方案實現的：

本發明提供一種寬光譜高反光鏡，其特征在于：所述反光鏡包括由玻璃基片構成的基板，在所述玻璃基板上設有反射層，所述反射層可以提高波長在190-1100nm之間光線的反射率。

進一步地，所述反射層由五層材料膜組成。

進一步地，所述五層材料膜的第二層材料膜與第四層材料膜的材質相同。

進一步地，所述材料膜通過物理鍍膜的方法鍍在玻璃基板上。

進一步地，所述反射層的厚度小于玻璃基板的厚度。

進一步地，所述材料膜為無機材料膜，由二氧化硅、三氧化二鋁、氟化鎂、氧化鎂、氧化鉿、金屬鋁或者兩種以上這些物質的混合物構成。

本發明的有益效果是：本發明是采用金屬與介質膜組合，通過精心設計與特殊的制造工藝，鍍制的反光鏡其反射率從190nm～1100nm平均反射率大于88％，有意提高紫外與紅外的反射，并根據接收器的光譜光電效應來調整反光鏡的反射光譜，使得光譜儀器的整個的輸出綜合能量達到平衡，提高儀器的質量。圖4是根據用戶要求設計的反光鏡的反射光譜曲線，圖5是實際鍍制的反射光譜曲線。從圖4和圖5中可見在200nm處的反射率約為93％。經過六次反射后達到目標的總能量為(0.93)⁶＝64.7％。從圖3與圖5相比可看到能量提高很大，提高了儀器的質量。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明反光鏡結構示意圖；

圖2為現有的分光光度計的整體光路系統示意圖；

圖3為現有的反光鏡入射角為45°時的光譜反射曲線圖；

圖4為本發明反光鏡入射角為45°時的計算的光譜反射曲線圖；

圖5為本發明反光鏡入射角為45°時的實際光譜反射曲線圖。

圖1中：1-玻璃基板，2-第一材料膜，3-第二材料膜，4-第三材料膜，5-第四材料膜，6-第五材料膜。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例，對本發明的具體實施方式作進一步描述。以下實施例僅用于更加清楚地說明本發明的技術方案，而不能以此來限制本發明的保護范圍。

如圖1所示，本發明提供一種寬光譜高反光鏡，其特征在于：所述反光鏡包括由玻璃基片構成的基板1，在所述玻璃基板1上設有由五層材料膜2、3、4、5、6組成的反射層，其中第二層材料膜3與第四層材料膜5的材質相同，所述材料膜通過物理鍍膜的方法鍍在玻璃基板1上，所述反射層可以提高波長在190-1100nm之間光線的反射率。

進一步地，所述材料膜為無機材料膜，由二氧化硅、三氧化二鋁、氟化鎂、氧化鎂、氧化鉿、金屬鋁或者兩種以上這些物質的混合物構成。