[發(fā)明專利]一種LED蒸鍍工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710282115.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-04-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107217235A | 公開(公告)日: | 2017-09-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韓邦勇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 安徽歐瑞特照明有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24;C23C14/14;H01L33/00 |
| 代理公司: | 六安眾信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)34123 | 代理人: | 黎照西 |
| 地址: | 237200 安*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 led 工藝 | ||
1.一種LED蒸鍍工藝,其特征在于:包括以下步驟:
(1)選擇襯底,使用錫為鍍層將襯底進(jìn)行一次蒸鍍,蒸鍍溫度為160~180℃,蒸鍍時(shí)間為2~3分鐘,錫層厚度為1~2um;
(2)向一次蒸鍍后的襯底表面涂上強(qiáng)化劑,然后進(jìn)行烘烤,烘烤時(shí)間為45~55分鐘,烘烤溫度為75~85℃;
(3)對(duì)烘烤后的襯底進(jìn)行二次蒸鍍,二次蒸鍍?yōu)檎婵諣顟B(tài),真空度為10-4~10-5pa,二次蒸鍍溫度為480~500℃,二次蒸鍍時(shí)間為7~9分鐘,錫層厚度為9~10um;
(4)二次蒸鍍后將真空度調(diào)整為10-1~10-2pa,溫度調(diào)整為210~220℃,保持時(shí)間為10~15分鐘;
(5)將步驟(4)處理過(guò)的蒸鍍襯底用風(fēng)機(jī)冷卻至常溫,得到成品。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種LED蒸鍍工藝,其特征在于:所述強(qiáng)化劑是錫酸鈉和氫氧化鈉,錫酸鈉與氫氧化鈉的比例為9:1或11:1。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種LED蒸鍍工藝,其特征在于:包括以下步驟:
(1)選擇襯底,使用錫為鍍層將襯底進(jìn)行一次蒸鍍,蒸鍍溫度為160℃,蒸鍍時(shí)間為2分鐘,錫層厚度為1um;
(2)向一次蒸鍍后的襯底表面涂上強(qiáng)化劑,然后進(jìn)行烘烤,烘烤時(shí)間為45分鐘,烘烤溫度為75℃;
(3)對(duì)烘烤后的襯底進(jìn)行二次蒸鍍,二次蒸鍍?yōu)檎婵諣顟B(tài),真空度為10-4pa,二次蒸鍍溫度為480℃,二次蒸鍍時(shí)間為7分鐘,錫層厚度為9um;
(4)二次蒸鍍后將真空度調(diào)整為10-1pa,溫度調(diào)整為210℃,保持時(shí)間為10分鐘,使得蒸鍍后錫層的穩(wěn)定性高;
(5)將步驟(4)處理過(guò)的蒸鍍襯底用風(fēng)機(jī)冷卻至常溫,得到成品。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種LED蒸鍍工藝,其特征在于:包括以下步驟:
(1)選擇襯底,使用錫為鍍層將襯底進(jìn)行一次蒸鍍,蒸鍍溫度為170℃,蒸鍍時(shí)間為2分鐘,錫層厚度為1um;
(2)向一次蒸鍍后的襯底表面涂上強(qiáng)化劑,然后進(jìn)行烘烤,烘烤時(shí)間為50分鐘,烘烤溫度為80℃;
(3)對(duì)烘烤后的襯底進(jìn)行二次蒸鍍,二次蒸鍍?yōu)檎婵諣顟B(tài),真空度為10-4pa,二次蒸鍍溫度為490℃,二次蒸鍍時(shí)間為8分鐘,錫層厚度為10um;
(4)二次蒸鍍后將真空度調(diào)整為10-2pa,溫度調(diào)整為215℃,保持時(shí)間為13分鐘,使得蒸鍍后錫層的穩(wěn)定性高;
(5)將步驟(4)處理過(guò)的蒸鍍襯底用風(fēng)機(jī)冷卻至常溫,得到成品。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種LED蒸鍍工藝,其特征在于:包括以下步驟:
(1)選擇襯底,使用錫為鍍層將襯底進(jìn)行一次蒸鍍,蒸鍍溫度為180℃,蒸鍍時(shí)間為3分鐘,錫層厚度為2um;
(2)向一次蒸鍍后的襯底表面涂上強(qiáng)化劑,然后進(jìn)行烘烤,烘烤時(shí)間為55分鐘,烘烤溫度為85℃;
(3)對(duì)烘烤后的襯底進(jìn)行二次蒸鍍,二次蒸鍍?yōu)檎婵諣顟B(tài),真空度為10-5pa,二次蒸鍍溫度為500℃,二次蒸鍍時(shí)間為9分鐘,錫層厚度為10um;
(4)二次蒸鍍后將真空度調(diào)整為10-2pa,溫度調(diào)整為220℃,保持時(shí)間為15分鐘,使得蒸鍍后錫層的穩(wěn)定性高;
(5)將步驟(4)處理過(guò)的蒸鍍襯底用風(fēng)機(jī)冷卻至常溫,得到成品。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





