[發明專利]真空排水裝置在審
| 申請號： | 201710281447.4 | 申請日： | 2017-04-26 |
| 公開（公告）號： | CN108807137A | 公開（公告）日： | 2018-11-13 |
| 發明（設計）人： | 謝晶偉;劉豫東;劉雅茹;邊曉東;劉玉倩;高榮榮 | 申請（專利權）人： | 北京半導體專用設備研究所（中國電子科技集團公司第四十五研究所） |
| 主分類號： | H01L21/02 | 分類號： | H01L21/02;H01L21/67;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京中建聯合知識產權代理事務所(普通合伙) 11004 | 代理人： | 朱麗巖;葉民生 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空排水裝置 排液 過濾器 真空發生器 隔膜閥 晶圓 排水電磁閥 單向活門 排液效率 陶瓷吸盤 吸附 正壓 壓力表 濕法清洗設備 過濾減壓閥 化學清洗液 壓力傳感器 真空電磁閥 真空隔膜閥 晶圓清洗 排水裝置 生產安全 使用壽命 真空壓力 真空泵 負壓 破碎 流出 保證 | ||
1.一種真空排水裝置，包括氣源（14）以及傳統濕法清洗設備中的陶瓷吸盤（15），其特征在于：所述氣源（14）出口分為兩路，一路通過PFA軟管依次連接正壓隔膜閥（10）、真空發生器（9）、負壓隔膜閥（8）、過濾器（7）、單向活門（6）以及陶瓷吸盤（15），另一路通過PFA軟管與過濾減壓閥（1）連接，所述過濾器（7）還連接排液隔膜閥（4），所述單向活門（6）與陶瓷吸盤（15）之間的真空管路上設有帶壓力傳感器的壓力表（5）；所述過濾減壓閥（1）的出口分為兩路，一路通過PFA軟管與真空電磁閥（2）的進氣接頭連接，另一路與排水電磁閥（3）的進氣接頭連接，所述真空電磁閥（2）的出氣口分為兩路，一路與正壓隔膜閥（10）受控端連接，另一路與負壓隔膜閥（8）受控端連接，所述排水電磁閥（3）的出氣口分為兩路，一路與排液隔膜閥（4）的受控端連接，另一路與負壓隔膜閥（8）和過濾器（7）之間的真空管路連接。
2.根據權利要求1所述的真空排水裝置，其特征在于：所述過濾器（7）上設有高液位傳感器（11）、低液位傳感器（12）和排放口（13），所述排放口（13）連接排液隔膜閥（4），所述過濾器（7）上的高液位傳感器（11）、低液位傳感器（12）以及帶壓力傳感器的壓力表（5）均與程控系統有線連接，所述真空電磁閥（2）和排水電磁閥（3）均與程控系統有線連接，且工作狀態互為相反。
3.根據權利要求1或2所述的真空排水裝置，其特征在于：所述真空電磁閥（2）在通電狀態下排水電磁閥電磁（3）處在斷電狀態，真空電磁閥（2）在斷電狀態下排水電磁閥電磁（3）處在通電狀態，所述真空電磁閥（2）在通電狀態下，正壓隔膜閥（10）和負壓隔膜閥（8）處在打開狀態，真空電磁閥（2）處在斷電狀態下，正壓隔膜閥（10）和負壓隔膜閥（8）處在關閉狀態，所述排水電磁閥（3）在通電狀態下，排液隔膜閥（4）處在打開狀態，過濾器（7）處在正壓狀態，排水電磁閥（3）在斷電狀態下，排液隔膜閥（4）處在關閉狀態。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
