[發(fā)明專利]一種基板曝邊設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710280310.7
• 申請日: 2017-04-26
• 公開（公告）號: CN107121892B
• 公開（公告）日: 2018-12-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 龔成波
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/683
• 代理公司: 北京聿宏知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11372
• 代理人: 吳大建;王浩

本發(fā)明提出了顯示技術(shù)領(lǐng)域中的一種基板曝邊設(shè)備，該曝邊設(shè)備的承載臺包括外圍的固定裝置、設(shè)置在固定裝置上用于承載基板的透明支撐部和被透明支撐部包圍的中間支撐部，在基板的曝邊制程中，透明支撐部能夠使曝邊光線穿過而不會形成反射光。從而避免了反射光對基板的損傷和由此產(chǎn)生的缺陷。尤其當(dāng)透明支撐部由玻璃制成時，進(jìn)一步保證了支撐的性能，提高了產(chǎn)品品質(zhì)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種基板曝邊設(shè)備。

背景技術(shù)

光刻工藝是現(xiàn)代顯示器生產(chǎn)的核心工藝之一，其主要包括涂布、曝光和顯影等制程。曝邊制程是曝光之后、顯影之前的輔助制程，主要目的是對位于基板邊緣區(qū)域的厚度異常的光阻進(jìn)行充分曝光，以便在顯影制程中能夠?qū)⑵剡叢糠值墓庾枞咳芙獾簦瑥亩欣谖g刻制程中將邊緣的膜全部去除，避免后續(xù)制程和工藝上的不良。

現(xiàn)有技術(shù)中，曝邊設(shè)備的承載臺采用支撐柱設(shè)計(jì)，在基板的周向邊緣處同樣設(shè)置有用于支撐的支撐柱，如圖1、圖2所示。在基板11的非邊緣區(qū)域112設(shè)置有用于支撐基板11的支撐柱12和用于固定基板11的真空吸盤13。在曝邊制程中，基板11的周向邊緣區(qū)域111的光阻113膜厚很厚，為了保證在曝邊制程中基板11的穩(wěn)定性和曝邊品質(zhì)，沿基板11的周向邊緣區(qū)域111同樣設(shè)置有支撐柱12。為了確保后續(xù)制程中能夠?qū)⑽挥谥芟蜻吘墔^(qū)域111內(nèi)的光阻113去除，需要采用較強(qiáng)的曝光能量。然而，過強(qiáng)的曝邊光線14能夠穿過光阻113和基板11，直接抵達(dá)位于基板11下方的支撐柱12。支撐柱12表面會有反射光15反射回基板11，從而造成基板缺陷，如圖3所示。此缺陷的形狀與支撐柱和基板接觸的表面形狀大體相當(dāng)。為了防止該缺陷的產(chǎn)生，無論是挪動支撐柱的位置或減小支撐柱和基板接觸的表面大小都會帶來支撐不穩(wěn)的風(fēng)險。

發(fā)明內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本發(fā)明提出了一種基板曝邊設(shè)備。

本發(fā)明提出的基板曝邊設(shè)備，包括用于承載基板的承載臺，所述承載臺包括外圍的固定裝置、設(shè)置在所述固定裝置上用于承載基板的透明支撐部和被所述透明支撐部包圍的中間支撐部，在基板的曝邊制程中，所述透明支撐部能夠使曝邊光線穿過而不會形成反射光。

曝邊光線穿過透明支撐部、不形成反射光，就避免了反射光對基板的損傷，避免了由此產(chǎn)生的缺陷。本發(fā)明中的透明支撐部能夠完全替代現(xiàn)有技術(shù)中的用于支撐基板周向邊緣的支撐柱，也就不需要為了防止缺陷的產(chǎn)生而另外更換與基板接觸面積較小的支撐柱，進(jìn)一步節(jié)省了機(jī)臺升級的成本。

作為對透明支撐部的改進(jìn)，所述透明支撐部的材料為玻璃。玻璃不僅具有良好的透光性，而且還具有很高的強(qiáng)度，保證了支撐的性能。

作為對透明支撐部的改進(jìn)，所述透明支撐部包括在基板法線方向上與基板重合的支撐區(qū)域和將所述支撐區(qū)域固定在所述固定裝置上的固定區(qū)域，所述支撐區(qū)域的朝向基板的一側(cè)與基板緊密貼合。支撐區(qū)域的朝向基板的一側(cè)與基板緊密貼合使得支撐板與基板結(jié)合為一體，因此，曝邊的光線在穿過基板的同時也穿過了透明支撐部，不會再產(chǎn)生反射光線。

作為對透明支撐部的支撐區(qū)域的改進(jìn)，所述支撐區(qū)域在基板的法線方向上的厚度均勻。厚度均勻的支撐區(qū)域，就限定了在支撐區(qū)域的背離基板的一側(cè)不存在凸點(diǎn)，因此，當(dāng)光線由靠近基板的一側(cè)進(jìn)入支撐區(qū)域并射入到背離基板的一側(cè)時就不會產(chǎn)生由于凸點(diǎn)導(dǎo)致的散射，避免了光線反射回基板造成缺陷。

作為對透明支撐部的固定區(qū)域的改進(jìn)，所述固定區(qū)域在基板的法線方向上的厚度自所述支撐區(qū)域向所述固定裝置方向逐漸增加。這樣的固定區(qū)域具有更高的強(qiáng)度，能夠更好地對支撐區(qū)域進(jìn)行支撐，以便更好地支撐基板。