[發明專利]氣體供應線組件

在審

• 申請號: 201710277189.2
• 申請日: 2017-04-25
• 公開（公告）號: CN107447203A
• 公開（公告）日: 2017-12-08
• 發明（設計）人: 大平·姚;海曼·W·H·拉姆;江·呂;迪-業·吳;參·許;馬伯方;梅·常
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司11006
• 代理人: 徐金國,趙靜

1.一種氣體供應線組件，包含：

電介質主體；

至少一個通道，所述通道延伸穿過所述電介質主體；以及

電介質管，所述電介質管設置在所述至少一個通道中，其中所述通道的內直徑大于所述電介質管的外直徑使得在所述電介質管的外壁和所述通道的內壁之間形成間隙。

2.如權利要求1所述的氣體供應線組件，其中所述電介質管的內壁具有在約5Ra至約10Ra之間的表面粗糙度。

3.如權利要求1所述的氣體供應線組件，其中所述電介質主體由氧化鋁形成。

4.如權利要求1所述的氣體供應線組件，其中所述電介質管由石英、聚四氟乙烯、氮化硅、或氮化鋁形成。

5.如權利要求1至4中任一項所述的氣體供應線組件，其中所述電介質管的所述外直徑是約20.066毫米且所述通道的所述內直徑是約20.32毫米。

6.如權利要求1至4中任一項所述的氣體供應線組件，其中所述間隙是約5毫米厚。

7.如權利要求1至4中任一項所述的氣體供應線組件，其中進一步包含：

第一管道，所述第一管道穿過所述電介質管設置；以及

第二管道，所述第二管道穿過所述電介質主體設置。

8.一種處理腔室，包含：

腔室主體，所述腔室主體具有設置在處理容積中的基板支撐件；

蓋子，所述蓋子可移動地耦接至所述腔室主體；

蓋子歧管，所述蓋子歧管可移動地耦接至所述蓋子的上表面并具有中央通道和流體耦接至所述中央通道的至少一個氣體供應入口；

氣體板，所述氣體板通過至少一個氣體管線流體耦接至所述蓋子歧管并具有至少一個氣體源和氣體入口歧管；以及

氣體供應線組件，所述氣體供應線組件設置在所述氣體入口歧管與所述蓋子歧管之間，所述氣體供應線組件如權利要求1至4中任一項所述，其中所述電介質管包括第一管道，所述第一管道流體耦接至并對應于所述至少一個氣體管線。

9.如權利要求8所述的處理腔室，其中所述氣體板通過第一氣體管線和第二氣體管線流體耦接至所述蓋子歧管，其中所述第一管道流體耦接至所述第一氣體管線，并且其中所述氣體供應線組件進一步包含第二管道，所述第二管道穿過所述電介質主體設置并流體耦接至所述第二氣體管線。

10.如權利要求9所述的處理腔室，其中所述第一氣體管線被耦接至金屬有機前驅物氣體源，并且其中所述第二氣體管線被耦接至還原性氣體源。

11.如權利要求9所述的處理腔室，進一步包含：

第一對O形環，所述第一對O形環設置在所述電介質管與所述蓋子歧管的第一界面處和所述電介質管與所述氣體入口歧管的第二界面處，其中所述第一對O形環與所述第一管道同心；以及

第二對O形環，所述第二對O形環設置在所述電介質主體與所述蓋子歧管的第一界面處和所述電介質主體與所述氣體入口歧管的第二界面處，其中所述第二對O形環與所述第二管道同心。

12.如權利要求11所述的處理腔室，其中所述第一對O形環和所述第二對O形環由熱絕緣材料形成。

13.如權利要求8所述的處理腔室，其中所述電介質管的所述外直徑是約20.066毫米且所述通道的所述內直徑是20.2毫米。

14.如權利要求8所述的處理腔室，其中所述間隙是約5毫米厚。

15.如權利要求8所述的處理腔室，進一步包含：

一或多個對準銷，所述對準銷設置在所述蓋子歧管中并且于所述蓋子歧管與所述氣體供應線組件的界面處從所述蓋子歧管的表面突出；以及

一或多個對準孔，所述一或多個對準孔對應于所述一或多個對準銷并設置在所述電介質主體中。