[發明專利]圖像形成裝置和處理盒

在審

• 申請號: 201710274219.4
• 申請日: 2017-04-25
• 公開（公告）號: CN107870536A
• 公開（公告）日: 2018-04-03
• 發明（設計）人: 山下敬之
• 申請（專利權）人: 富士施樂株式會社
• 主分類號: G03G15/02
• 分類號: G03G15/02;G03G21/18
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 龐東成,解延雷

1.一種圖像形成裝置，其特征在于，包括：

電子照相感光體，其具備

導電性基體，以及

設置在所述導電性基體上的感光層；

充電裝置，其對所述電子照相感光體的表面充電；

曝光裝置，其通過用光照射已充電的所述電子照相感光體的表面而在所述電子照相感光體的帶電表面上形成靜電潛像，所述曝光裝置包括沿所述電子照相感光體的軸向排列的多個光源；

顯影裝置，其包括包含色調劑的顯影劑，所述顯影裝置通過用所述顯影劑使形成在所述電子照相感光體的表面上的所述靜電潛像顯影而在所述電子照相感光體的表面上形成色調劑圖像；以及

轉印裝置，其將形成在所述電子照相感光體的表面上的所述色調劑圖像轉印到記錄介質的表面上，

其中，所述導電性基體的外周面的波紋度輪廓的平均寬度WSm小于所述光源沿所述電子照相感光體的軸向排列的間隔，所述平均寬度WSm根據JIS B0601(2001)測定。

2.根據權利要求1所述的圖像形成裝置，其中，

所述導電性基體的外周面的波紋度輪廓的平均寬度WSm為所述光源沿所述電子照相感光體的軸向排列的間隔的0.9倍以下。

3.根據權利要求2所述的圖像形成裝置，其中，

所述導電性基體的外周面的波紋度輪廓的平均寬度WSm為所述光源沿所述電子照相感光體的軸向排列的間隔的0.7倍以上且0.8倍以下。

4.根據權利要求1所述的圖像形成裝置，其中，

所述導電性基體的外周面的波紋度輪廓的平均寬度WSm為300μm以上且550μm以下。

5.根據權利要求1所述的圖像形成裝置，其中，

所述導電性基體的外周面的波紋度輪廓的算術平均高度Wa為0.4以下。

6.根據權利要求1所述的圖像形成裝置，其中，

所述曝光裝置包括具有多個發光元件的發光元件陣列。

7.一種可拆卸地附接到圖像形成裝置的處理盒，所述處理盒的特征在于，包括：

電子照相感光體，其具備

導電性基體，以及

設置在所述導電性基體上的感光層；以及

曝光裝置，其通過用光照射已充電的所述電子照相感光體的表面而在所述電子照相感光體的帶電表面上形成靜電潛像，所述曝光裝置包括沿所述電子照相感光體的軸向排列的多個光源，

其中，所述導電性基體的外周面的波紋度輪廓的平均寬度WSm小于所述光源沿所述電子照相感光體的軸向排列的間隔，所述平均寬度WSm根據JIS B0601(2001)測定。

8.根據權利要求7所述的處理盒，其中，

所述導電性基體的外周面的波紋度輪廓的平均寬度WSm為所述光源沿所述電子照相感光體的軸向排列的間隔的0.9倍以下。

9.根據權利要求8所述的處理盒，其中，

所述導電性基體的外周面的波紋度輪廓的平均寬度WSm為所述光源沿所述電子照相感光體的軸向排列的間隔的0.7倍以上且0.8倍以下。

10.根據權利要求7所述的處理盒，其中，

所述導電性基體的外周面的波紋度輪廓的平均寬度WSm為300μm以上且550μm以下。

11.根據權利要求7所述的處理盒，其中，

所述導電性基體的外周面的波紋度輪廓的算術平均高度Wa為0.4以下。

12.根據權利要求7所述的處理盒，其中，

所述曝光裝置包括具有多個發光元件的發光元件陣列。