[發明專利]一種離子注入終端裝置

有效

• 申請號: 201710273867.8
• 申請日: 2017-04-25
• 公開（公告）號: CN108735563B
• 公開（公告）日: 2020-12-04
• 發明（設計）人: 李晨冉
• 申請（專利權）人: 北京中科信電子裝備有限公司
• 主分類號: H01J37/02
• 分類號: H01J37/02;H01J37/20;H01J37/244;H01J37/317
• 代理公司: 長沙正奇專利事務所有限責任公司 43113
• 代理人: 馬強

本發明公開了一種離子注入終端裝置，包括：靶室主腔體、旋轉靶臺、過渡腔體、移動屏蔽筒、多工位旋轉把盤，所述靶室主腔體能夠為旋轉靶臺提供支撐，能夠為整個系統提供真空的條件；所述旋轉靶臺能夠實現靶片的角度注入及軸線旋轉注入；所述過渡腔體能夠為移動屏蔽筒提供支撐；所述移動屏蔽筒能夠實現過掃板及屏蔽筒的垂直方向運動，能夠對位置進行精確控制；所述多工位旋轉把盤能夠實現不同工位的切換。本發明涉及離子注入裝置，隸屬于半導體制造領域。

技術領域

本發明涉及一種半導體器件制造設備，即離子注入機，特別是一種離子注入終端裝置，屬半導體設備領域。

背景技術

隨著集成電路工藝技術的提高，對離子注入設備提出了更高的要求，離子注入元素的種類更多，離子注入設備的應用范圍更廣，其可應用于各種材料改性、半導體器件制造以及大功率器件如SiC電子器件制造等領域，并要求離子注入設備自動化程度較高，操作簡單方便，工作穩定。

現有的離子注入靶臺系統不能滿足大角度注入、高均勻性注入及持續穩定工作的要求，存在設備成本高、注入工藝局限、靶臺系統運動不穩定等缺點，需要一種離子注入終端裝置既能滿足成本低，又能保證多自由度運動平穩的要求。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是，針對現有離子注入機靶臺系統成本高，運動控制不穩定，注入工藝菜單少等問題，提供了一種離子注入終端裝置，能夠實現多角度注入、靶盤旋轉運動、多工位不同注入樣式、冷卻效率高等。

為解決多角度注入及高均勻性注入，一種離子注入終端裝置，包括靶室主腔體(1)、旋轉靶臺(2)、過渡腔體(3)、移動屏蔽筒(4)、多工位旋轉把盤(5)，其主要通過靶室主腔體提供支撐和真空條件，通過旋轉靶臺提供不同角度工藝注入，通過移動屏蔽筒實現不同角度注入時的過掃檢測與二次電子抑制，能夠實現多工位、大角度注入滿足不同注入工藝需求。

所述靶室主腔體(1)能夠為旋轉靶臺提供支撐，能夠為整個注入終端系統提供真空的條件，能夠實時觀察束流形狀及束流檢測，便于整機調試。

所述旋轉靶臺(2)采用多自由度設計，每個自由度真空密封均采用旋轉磁流體，能夠實現不同角度注入、不同工位條件注入，并且該靶臺上設計有法拉第采集器，能夠校準束流到靶中心位置及束流形狀。

所述過渡腔體(3)主要是為移動屏蔽筒提供支撐，實現與注入前系統的連接。

所述移動屏蔽筒(4)主要包括過掃板、靶前抑制電極、屏蔽筒等組成，可滿足不同角度注入時的靶前電子抑制及過掃范圍的檢測。

所述多工位旋轉把盤(5)能夠實現不同注入工位間的切換，注入工位的定位精度高，操作方便。

與現有技術相比，本發明所具有的有益效果為：本發明結構緊湊，成本低廉；能夠實現多工位、不同角度、高均勻性注入，能夠滿足多種注入工藝要求。

附圖說明

圖1為本發明一實施例注入終端裝置結構示意圖；

圖2為本發明一實施例旋轉靶臺結構示意圖；

圖3為本發明一實施例旋轉靶盤結構示意圖；

圖4為本發明一實施例移動屏蔽筒結構示意圖；

具體實施方式