[發明專利]微結構基板及制造方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201710271727.7
• 申請日: 2017-04-24
• 公開（公告）號: CN107132599B
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發明（設計）人: 楊勇
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02B5/02
• 分類號: G02B5/02;G02B1/18
• 代理公司: 44280 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 鐘子敏

本發明公開了一種微結構基板及制造方法、顯示裝置，方法包括：在襯底基板上涂布一層耐指紋膜層；在耐指紋膜層上濺射二氧化硅層；對二氧化硅層進行蝕刻，以制備出具有多個圓弧凹陷微結構的二氧化硅層。通過上述方式，本發明能夠改善微結構對高解析度面板畫質的影響，減少畫質的模糊程度，使得基板在高解析度面板上使用成為可能。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種微結構基板及制造方法、顯示裝置。

背景技術

目前，面板廠商常用的抗眩(ant i-glare)處理方式是在玻璃或塑膠基板表面制備凹凸不平的形貌，而此種抗眩基板貼合高解析度基板之后會顯示的畫質模糊，造成面板實際解析度的下降。因此，此種抗眩基板多數情況下僅用于對解析度要求不高的面板上。

發明內容

本發明提供一種微結構基板及制造方法、顯示裝置，能夠改善微結構對高解析度面板畫質的影響，減少畫質的模糊程度，使得基板在高解析度面板上使用成為可能。

為解決上述技術問題，本發明采用的一種技術方案是：提供一種微結構基板的制造方法，所述方法包括：在襯底基板上涂布一層耐指紋膜層；在所述耐指紋膜層上濺射二氧化硅層；對所述二氧化硅層進行濕蝕刻，以制備出具有多個圓弧凹陷微結構的二氧化硅層。

為解決上述技術問題，本發明采用的另一種技術方案是：提供一種微結構基板，所述微結構基板包括：襯底基板；耐指紋膜層，所述耐指紋膜層涂布于所述襯底基板上；二氧化硅層，所述二氧化硅層覆蓋于所述耐指紋膜層，包括多個圓弧凹陷微結構。

為解決上述技術問題，本發明采用的又一種技術方案是：提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括上述所述的微結構基板。

本發明的有益效果是：區別于現有技術的情況，本發明通過采用蝕刻的工藝方式，在襯底基板上制備出具有圓弧凹陷的抗眩微結構，能夠改善微結構對高解析度面板畫質的影響，減少畫質的模糊程度，使得基板在高解析度面板上使用成為可能。

附圖說明

圖1為本發明微結構基板制造方法一實施例的流程示意圖；

圖2為本發明微結構基板制備過程一實施方式的結構示意圖；

圖3為本發明二氧化硅與襯底基板的濺射方向一實施方式的示意圖；

圖4為本發明微結構弧面的切線與水平方向的夾角一實施方式的結構示意圖；

圖5為本發明微結構一實施方式的結構示意圖；

圖6為本發明微結構基板一仿真模擬示意圖；

圖7為本發明顯示裝置一實施方式的結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發明的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。

請參閱圖1，圖1為本發明微結構基板制造方法一實施例的流程示意圖，圖2為本發明微結構基板制備過程一實施方式的結構示意圖，且該方法包括如下步驟：

S1，在襯底基板上涂布一層耐指紋膜層。

可進一步參見圖2中a)，其中，所述襯底基板可以為透明材質，具體可以是玻璃、陶瓷基板或者透明塑料等任意形式的基板，此處本發明不做具體限定。且在開始該工藝之前，需將該襯底基板清洗干凈。