[發明專利]多壁碳納米管/聚L-組氨酸復合材料修飾玻碳電極及其制備方法

有效

• 申請號: 201710271333.1
• 申請日: 2017-04-20
• 公開（公告）號: CN107037097B
• 公開（公告）日: 2019-05-28
• 發明（設計）人: 宋力;許春萱;榮憲舉;董高麗;何永;楊吉;劉彩蝶
• 申請（專利權）人: 信陽師范學院
• 主分類號: G01N27/30
• 分類號: G01N27/30
• 代理公司: 鄭州德勤知識產權代理有限公司 41128
• 代理人: 黃軍委

1.一種多壁碳納米管/聚L-組氨酸復合材料修飾玻碳電極，包括玻碳電極，其特征在于，所述玻碳電極的表面依次沉積有聚L-組氨酸和多壁碳納米管；

其中，所述的多壁碳納米管/聚L-組氨酸復合材料修飾玻碳電極的制備方法，包括以下步驟：

制備聚L-組氨酸修飾電極， 采用循環伏安法在玻碳電極表面沉積聚L-組氨酸，制得聚L-組氨酸修飾電極；

制備成品， 將多壁碳納米管和蒸餾水混合，超聲分散均勻，制得多壁碳納米管懸浮液，將多壁碳納米管懸浮液涂覆于所述聚L-組氨酸修飾電極的表面，然后干燥，制得所述多壁碳納米管/聚L-組氨酸復合材料修飾玻碳電極成品。

2.根據權利要求1所述的多壁碳納米管/聚L-組氨酸復合材料修飾玻碳電極，其特征在于，所述多壁碳納米管/聚L-組氨酸修飾電極的有效面積為（4～5）×10^-2 cm²。

3.根據權利要求2所述的多壁碳納米管/聚L-組氨酸復合材料修飾玻碳電極，其特征在于，所述玻碳電極是依次經過打磨、拋光、清洗處理的裸玻碳電極。

4.根據權利要求3所述的多壁碳納米管/聚L-組氨酸復合材料修飾玻碳電極，其特征在于，所述制備聚L-組氨酸修飾電極的步驟包括：將所述玻碳電極置于L-組氨酸溶液中，在電位范圍為-1.0～2.0 V，掃描速率為0.03～0.09 V/s的條件下，采用循環伏安法聚合10～20圈，使所述L-組氨酸溶液中的L-組氨酸聚合形成所述聚L-組氨酸，并沉積在所述玻碳電極的表面，制得所述聚L-組氨酸修飾電極。

5.根據權利要求4所述的多壁碳納米管/聚L-組氨酸復合材料修飾玻碳電極，其特征在于，所述L-組氨酸溶液是濃度為0.0020～0.0030 mol/L的L-組氨酸-PBS溶液，且所述L-組氨酸溶液的pH值為6.5～7.5。

6.根據權利要求5所述的多壁碳納米管/聚L-組氨酸復合材料修飾玻碳電極，其特征在于，所述多壁碳納米管懸浮液的濃度為0.2～0.4 mg/L。