[發明專利]一種從大氣量氣體流中去除雜質的除雜裝置

在審

• 申請號: 201710271159.0
• 申請日: 2017-04-24
• 公開（公告）號: CN107008135A
• 公開（公告）日: 2017-08-04
• 發明（設計）人: 卜振民;丁湘華;程陽;崔喜江;郭曉璐;劉民
• 申請（專利權）人: 克拉瑪依市杰德科技有限責任公司
• 主分類號: B01D53/78
• 分類號: B01D53/78;B01D53/52;B01D53/96;B01D45/08
• 代理公司: 石河子恒智專利商標代理事務所(普通合伙)65102
• 代理人: 李靖

1.一種從大氣量氣體流中去除雜質的除雜裝置，其特征在于：包含至少一組臥式罐體(1)和至少一組立式罐體(3)，所述臥式罐體(1)和立式罐體(3)上均設有進氣口(7)和出氣口(8)，所述臥式罐體(1)和立式罐體(3)之間設有回流管(5)和連接管(11)，所述連接管(11)一端與臥式罐體(1)出氣口(8)連接，另一端與立式罐體(3)進氣口(7)連接，所述臥式罐體(1)內設有若干阻隔板A(2)，所述阻隔板A(2)為板狀體，且一端固定在臥式罐體(1)內壁，另一端為自由端，所述立式罐體(3)內壁上設有若干阻隔板B(4)，所述阻隔板B(4)為板狀體，且一端固定在立式罐體(3)內壁，另一端為自由端。

2.如權利要求1所述的從大氣量氣體流中去除雜質的除雜裝置，其特征在于：所述相鄰的阻隔板A(2)在臥式罐體(1)內以自由端相互交錯的方式設置和/或相鄰的阻隔板A(2)在臥式罐體(1)內以“品”字形方式依次排列設置。

3.如權利要求1所述的從大氣量氣體流中去除雜質的除雜裝置，其特征在于：所述阻隔板B(4)在立式罐體(3)內呈“//”和/或“//”相互交錯設置，且呈“//”時，阻隔板B(4)上設有回流孔(41)。

4.如權利要求1、2或3所述的從大氣量氣體流中去除雜質的除雜裝置，其特征在于：所述立式罐體(3)內設有擋板(10)，所述擋板(10)設置在進氣口(7)和阻隔板B(4)之間，所述擋板(10)通過固定桿(12)固定在立式罐體(3)內壁。

5.如權利要求4所述的從大氣量氣體流中去除雜質的除雜裝置，其特征在于：所述擋板(10)為直板狀或弧形狀。

6.如權利要求1、2或3所述的從大氣量氣體流中去除雜質的除雜裝置，其特征在于：所述立式罐體(3)內設有分隔板(6)，所述分隔板(6)將立式罐體(3)分隔為上下兩個腔室，即上層的阻隔腔(34)和下層的回流腔(35)，所述分隔板(6)上設有通孔(9)，所述阻隔板B(4)設于阻隔腔(34)內，所述連接管(11)一端與臥式罐體(1)的出氣口(8)連接，另一端從進氣口(7)并穿過回流腔(35)和分隔板(6)伸入阻隔腔(34)，所述回流管(5)一端與回流腔(35)連接，另一端與臥式罐體(1)連接。

7.如權利要求4所述的從大氣量氣體流中去除雜質的除雜裝置，其特征在于：所述立式罐體(3)內設有分隔板(6)，所述分隔板(6)將立式罐體(3)分隔為上下兩個腔室，即上層的阻隔腔(34)和下層的回流腔(35)，所述分隔板(6)上設有通孔(9)，所述阻隔板B(4)設于阻隔腔(34)內，所述連接管(11)一端與臥式罐體(1)的出氣口(8)連接，另一端從進氣口(7)并穿過回流腔(35)和分隔板(6)伸入阻隔腔(34)，所述回流管(5)一端與回流腔(35)連接，另一端與臥式罐體(1)連接。

8.如權利要求1、2或3所述的從大氣量氣體流中去除雜質的除雜裝置，其特征在于：所述立式罐體(3)包含內層罐體(31)和外層罐體(32)，所述內層罐體(31)設于外層罐體(32)內且內層罐體(31)和外層罐體(32)之間形成一定的空腔(33)，所述阻隔板B(4)設于內層罐體(31)內，所述內層罐體(31)底部設有通孔(9)，所述通孔(9)與空腔(6)相通，所述連接管(11)的與臥式罐體(1)的出氣口(8)連接，另一端穿過外層罐體(32)和內層罐體(31)與內層罐體(31)內腔連通，所述回流管(5)一端穿過外層罐體(32)與空腔(33)連通，另一端與臥式罐體(3)連接。

9.如權利要求4所述的從大氣量氣體流中去除雜質的除雜裝置，其特征在于：所述立式罐體(3)包含內層罐體(31)和外層罐體(32)，所述內層罐體(31)設于外層罐體(32)內且內層罐體(31)和外層罐體(32)之間形成一定的空腔(33)，所述阻隔板B(4)設于內層罐體(31)內，所述內層罐體(31)底部設有通孔(9)，所述通孔(9)與空腔(6)相通，所述連接管(11)的與臥式罐體(1)的出氣口(8)連接，另一端穿過外層罐體(32)和內層罐體(31)與內層罐體(31)內腔連通，所述回流管(5)一端穿過外層罐體(32)與空腔(33)連通，另一端與臥式罐體(3)連接。

10.如權利要求8所述的從大氣量氣體流中去除雜質的除雜裝置，其特征在于：所述內層罐體(31)側壁上設有側流孔(311)，所述側流孔(311)設于阻隔板B(4)與內層罐體(31)側壁的交接處的阻隔板B(4)上方。