[發(fā)明專利]一種陣列基板制程

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710270720.3
• 申請(qǐng)日: 2017-04-24
• 公開（公告）號(hào): CN107134432B
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳猷仁
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 惠科股份有限公司;重慶惠科金渝光電科技有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/77
• 分類號(hào): H01L21/77
• 代理公司: 44312 深圳市恒申知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 王利彬

本發(fā)明提供了一種陣列基板制程，包括：在一基板上形成一第一金屬層，蝕刻第一金屬層；沉積一絕緣層與基板及所述第一金屬層上；于絕緣層上，沉積一主動(dòng)層以及以歐姆接觸層；蝕刻主動(dòng)層及歐姆接觸層；于歐姆接觸層以及絕緣層上沉積一第二金屬層，并蝕刻第二金屬層；于第二金屬層以及絕緣層上沉積一保護(hù)層；于保護(hù)層上沉積一光阻層并進(jìn)行曝光及顯影；于彩色光阻層上直接沉積一透明導(dǎo)電層，并蝕刻所述透明導(dǎo)電層，以形成像素電極層。本發(fā)明的陣列基板制程通過簡(jiǎn)化其結(jié)構(gòu)以及生產(chǎn)流程，提高了生產(chǎn)線的效率與產(chǎn)能；并可節(jié)省生產(chǎn)設(shè)備以及掩膜板費(fèi)用，降低生產(chǎn)成本。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于顯示屏技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種陣列基板制程。

背景技術(shù)

越來(lái)越多的液晶面板需要使用在薄膜晶體管(Thin-film transistor，簡(jiǎn)稱TFT)的陣列上制作彩色濾光膜(Color Filter on Array，簡(jiǎn)稱COA)的工藝來(lái)提升液晶面板曲面畫質(zhì)或藉此簡(jiǎn)化上板的結(jié)構(gòu)(例如:簡(jiǎn)化平面轉(zhuǎn)換(In-Plane Switching，簡(jiǎn)稱IPS)液晶模式上板的平坦化層(Over Coat，簡(jiǎn)稱OC)結(jié)構(gòu))。

傳統(tǒng)COA結(jié)構(gòu)的液晶面板的陣列制程(Array)工藝流程如下：傳統(tǒng)COA結(jié)構(gòu)在柵極與源極制程完成之后，先進(jìn)行第一絕緣層的成型工序；而后再完成彩色光阻層C包括紅色光阻、綠色光阻以及藍(lán)色光阻)的涂布、曝光與顯影步驟；如果是搭配了白、紅、綠以及藍(lán)四色(white,red,green,blue，簡(jiǎn)稱WRGB)技術(shù)的液晶面板，則還需要進(jìn)行透明光阻層的涂布、曝光與顯影步驟。彩色光阻層或透明光阻層結(jié)構(gòu)完成之后再進(jìn)行第二絕緣層的成型工序，然后涂布光刻膠層(也叫光阻)，并利用帶有通孔的掩膜板進(jìn)行曝光操作，之后再顯影與蝕刻以除去對(duì)應(yīng)于通孔處的位于陣列上方的第一絕緣層以及第二絕緣層，后續(xù)再除去光刻膠層以接續(xù)后面的像素電極(Pixel Electrode，簡(jiǎn)稱PE)制程。

薄膜晶體管液晶顯示器產(chǎn)業(yè)由于工藝復(fù)雜且設(shè)備投資巨大，所以生產(chǎn)的成本很高，隨著市場(chǎng)的激烈競(jìng)爭(zhēng)，降低顯示屏的生產(chǎn)成本已是平板顯示行業(yè)必然的發(fā)展方向。因此，需要研發(fā)一種新的顯示面板的生產(chǎn)技術(shù)，以進(jìn)一步降低生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于提供一種陣列基板制程，旨在進(jìn)一步降低顯示面板的生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)效率。

本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的，一種陣列基板的制程，包括以下步驟：

在一基板上形成一第一金屬層，蝕刻所述第一金屬層，以形成晶體管的柵極；

沉積一絕緣層于所述基板及所述柵極上；

于所述絕緣層上，沉積一主動(dòng)層及歐姆接觸層；

蝕刻所述主動(dòng)層及歐姆接觸層，以形成所述晶體管的通道；

于所述歐姆接觸層以及所述絕緣層上沉積一第二金屬層，并蝕刻所述第二金屬層以形成所述晶體管的源極與漏極；

于所述第二金屬層以及所述絕緣層上沉積一保護(hù)層；

于所述保護(hù)層上沉積一彩色光阻層并進(jìn)行曝光及顯影；

于所述彩色光阻層上直接沉積一透明導(dǎo)電層，并蝕刻所述透明導(dǎo)電層，以形成像素電極層，其中所述彩色光阻層是直接接觸所述透明導(dǎo)電層。

進(jìn)一步地，所述在一玻璃基板上形成一金屬層，蝕刻所述第一金屬層，以形成晶體管柵極的具體步驟包括：

基板清洗，去除異物；

成膜工藝，在干凈的基板表面，通過濺射沉積形成金屬薄膜；

上光阻，在已形成的金屬薄膜上面均勻涂覆一層光刻膠；

曝光，紫外線透過掩模板照射基板上的光刻膠，進(jìn)行曝光；