[發(fā)明專(zhuān)利]一種主動(dòng)開(kāi)關(guān)陣列基板及其制造方法、顯示面板

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710270695.9
• 申請(qǐng)日: 2017-04-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107086220A
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-08-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳猷仁
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 惠科股份有限公司;重慶惠科金渝光電科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L27/12
• 分類(lèi)號(hào): H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1343;G02F1/1362
• 代理公司: 深圳市恒申知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙)44312
• 代理人: 王利彬

1.一種主動(dòng)開(kāi)關(guān)陣列基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以下步驟：

在一基板上形成主動(dòng)開(kāi)關(guān)的柵極、絕緣層、主動(dòng)層以及歐姆接觸層；

于所述歐姆接觸層以及所述絕緣層上形成所述主動(dòng)開(kāi)關(guān)的源極與漏極；

于所述源極、漏極以及所述絕緣層上沉積一保護(hù)層；

于所述保護(hù)層上沉積一彩色濾光層并進(jìn)行曝光及顯影；

于所述彩色濾光層及保護(hù)層上沉積一層可被可見(jiàn)光穿透過(guò)的光刻膠層；

于所述光刻膠層上直接沉積一透明導(dǎo)電層，并蝕刻所述透明導(dǎo)電層，以形成像素電極層。

2.如權(quán)利要求1所述的主動(dòng)開(kāi)關(guān)陣列基板的制造方法，其特征在于，所述在一形成主動(dòng)開(kāi)關(guān)的柵極的具體步驟包括：

基板清洗，去除異物；

成膜工藝，在干凈的基板表面，通過(guò)濺射沉積形成金屬薄膜；

上光阻，在已形成的金屬薄膜上面均勻涂覆一層光刻膠；

曝光，紫外線(xiàn)透過(guò)掩模板照射光刻膠，進(jìn)行曝光；

顯影，光刻膠曝光部分被顯影液溶解，留下部分圖案呈現(xiàn)所需形狀；

蝕刻，把基板放入對(duì)應(yīng)腐蝕液或腐蝕氣體中，腐蝕掉無(wú)光刻膠覆蓋的薄膜；

去光阻，去除殘余的光刻膠，留下所需形狀的金屬薄膜，以形成掃描線(xiàn)、包含主動(dòng)開(kāi)關(guān)的柵極以及共通電極。

3.如權(quán)利要求1所述的主動(dòng)開(kāi)關(guān)陣列基板的制造方法，其特征在于，所述于所述歐姆接觸層以及所述絕緣層上形成所述主動(dòng)開(kāi)關(guān)的源極與漏極的步驟具體包括：

成膜工藝，在所述歐姆接觸層以及所述絕緣層上，通過(guò)濺射沉積形成金屬薄膜；

上光阻，在已形成的金屬薄膜上面均勻涂覆一層光刻膠；

曝光，紫外線(xiàn)透過(guò)掩模板照射光刻膠，進(jìn)行曝光；

顯影，光刻膠曝光部分被顯影液溶解，留下部分圖案呈現(xiàn)所需形狀；

蝕刻，把基板放入對(duì)應(yīng)腐蝕液或腐蝕氣體中，腐蝕掉無(wú)光刻膠覆蓋的薄膜；

去光阻，去除殘余的光刻膠，留下所需形狀的金屬薄膜，以形成數(shù)據(jù)線(xiàn)、并于歐姆接觸層上定義出主動(dòng)開(kāi)關(guān)的源極及漏極。

4.如權(quán)利要求1所述的主動(dòng)開(kāi)關(guān)陣列基板的制造方法，其特征在于，所述于所述保護(hù)層上沉積一彩色濾光層并進(jìn)行曝光及顯影的步驟具體包括：

在所述絕緣層上涂覆一層感光的第一有機(jī)感光層，掩模曝光、顯影，形成與像素對(duì)應(yīng)的第一濾光層；

在所述絕緣層上涂覆一層感光的第二有機(jī)感光層，掩模曝光、顯影，形成與像素對(duì)應(yīng)的第二濾光層；

在所述絕緣層上涂覆一層感光的第三有機(jī)感光層，掩模曝光、顯影，形成與像素對(duì)應(yīng)的第三濾光層。

5.如權(quán)利要求1所述的主動(dòng)開(kāi)關(guān)陣列基板的制造方法，其特征在于，沉積的所述光刻膠具有流平性。

6.一種主動(dòng)開(kāi)關(guān)陣列基板，其特征在于，包含：

基板；

主動(dòng)開(kāi)關(guān)的柵極，位于所述基板上；

絕緣層，位于所述基板及所述柵極上；

主動(dòng)層，位于所述絕緣層上，用來(lái)作為所述主動(dòng)開(kāi)關(guān)的通道；

歐姆接觸層，位于所述主動(dòng)層上；

主動(dòng)開(kāi)關(guān)的源極與漏極，位于所述歐姆接觸層及所述絕緣層上；

保護(hù)層，位于所述源極、漏極及絕緣層上；

彩色濾光層，位于所述保護(hù)層上，包含多個(gè)濾光單元；

光刻膠層，位于所述彩色濾光層及保護(hù)層上；其中，所述光刻膠層使用可被可見(jiàn)光穿透過(guò)的光刻膠沉積而成；

像素電極層，直接沉積于所述光刻膠層上。