[發明專利]一種基于雙振鏡雙物鏡多模式寬場超分辨顯微成像系統

有效

• 申請號: 201710266879.8
• 申請日: 2017-04-21
• 公開（公告）號: CN107014793B
• 公開（公告）日: 2019-07-30
• 發明（設計）人: 匡翠方;劉文杰;陳友華;朱大釗;劉旭;李海峰;張克奇;毛磊
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64;G01N21/01
• 代理公司: 杭州天勤知識產權代理有限公司 33224
• 代理人: 胡紅娟

1.一種基于雙振鏡雙物鏡多模式寬場超分辨顯微成像系統，包括沿光路依次布置的激光器和分束鏡，由所述分束鏡分束為兩路激發光路，其特征在于，還包括：

沿第一激發光路依次布置的第一掃描振鏡系統和第一顯微物鏡，由所述第一顯微物鏡將光束入射至樣品的下表面并激發熒光；

沿第二激發光路依次布置的第二掃描振鏡系統和第二顯微物鏡，由所述第二顯微物鏡將光束入射至樣品的上表面并激發熒光；

用于收集兩路熒光信號的成像光路模塊；

和計算機，用于控制所述的第一掃描振鏡系統和第二掃描振鏡系統對樣品進行掃描，并根據收集的兩路熒光信號進行數據處理和圖像重構。

2.如權利要求1所述的基于雙振鏡雙物鏡多模式寬場超分辨顯微成像系統，其特征在于，所述激光器與分束鏡之間依次放置有單模光纖和起偏器。

3.如權利要求1所述的基于雙振鏡雙物鏡多模式寬場超分辨顯微成像系統，其特征在于，所述的第一掃描振鏡系統和第二掃描振鏡系統均為透射式4f透鏡結構，用于控制顯微物鏡后瞳面處的光束入射角在0°、小于全反射臨界角或大于全反射臨界角范圍內切換。

4.如權利要求1所述的基于雙振鏡雙物鏡多模式寬場超分辨顯微成像系統，其特征在于，所述的第一掃描振鏡系統和第二掃描振鏡系統其焦面位置處各放置有一個切向光偏振轉換器，用于將入射線偏振光轉換到切向偏振方向。

5.如權利要求1所述的基于雙振鏡雙物鏡多模式寬場超分辨顯微成像系統，其特征在于，所述的第一顯微物鏡和第二顯微物鏡均為全內反射式物鏡，NA＝1.49。

6.如權利要求1-5任一項所述的基于雙振鏡雙物鏡多模式寬場超分辨顯微成像系統，其特征在于，利用計算機控制第一掃描振鏡系統和第二掃描振鏡系統，使得兩束激發光從相反方向垂直入射樣品，在樣品軸向方向發生干涉，產生的熒光信號也分為兩路收集，實現駐波干涉顯微成像模式。

7.如權利要求1-5任一項所述的基于雙振鏡雙物鏡多模式寬場超分辨顯微成像系統，其特征在于，利用計算機控制第一掃描振鏡系統和第二掃描振鏡系統，使得兩束激發光從待測樣品兩側以小于全反射臨界角入射，在樣品同一位置處發生干涉，實現結構光照明顯微成像模式。

8.如權利要求1-5任一項所述的基于雙振鏡雙物鏡多模式寬場超分辨顯微成像系統，其特征在于，利用計算機控制第一掃描振鏡系統和第二掃描振鏡系統，使得兩束激發光從待測樣品兩側以大于全反射臨界角入射，分別在樣品兩側以倏逝波激發熒光信號，實現多角度環狀全內反射顯微成像模式。

9.如權利要求1-5任一項所述的基于雙振鏡雙物鏡多模式寬場超分辨顯微成像系統，其特征在于，所述的成像光路模塊包括：

用于透過激發光、反射顯微物鏡收集的熒光的二向色鏡；

用于濾去熒光信號中的雜散光的濾波片；

以及用于收集熒光信號的工業相機。