[發(fā)明專利]基于微透鏡陣列的高分辨并行顯微成像儀

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710266273.4
• 申請(qǐng)日: 2017-04-21
• 公開（公告）號(hào): CN106908942A
• 公開（公告）日: 2017-06-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐玉國(guó);肖昀;張運(yùn)海
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院蘇州生物醫(yī)學(xué)工程技術(shù)研究所
• 主分類號(hào): G02B21/00
• 分類號(hào): G02B21/00;G02B21/36
• 代理公司: 深圳市科進(jìn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)44316
• 代理人: 趙勍毅

1.一種基于微透鏡陣列的高分辨并行顯微成像儀，其特征在于，包括照明模塊、掃描模塊、探測(cè)模塊、控制模塊及圖像重建模塊，其中：

所述照明模塊包括激光器、第一透鏡、第二透鏡、微透鏡陣列及第三透鏡，所述微透鏡陣列由若干微透鏡組成，所述激光器出射的激光光束經(jīng)所述第一透鏡和第二透鏡準(zhǔn)直擴(kuò)束后形成擴(kuò)束光束，所述擴(kuò)束光束再入射到所述微透鏡陣列后形成多個(gè)陣列聚焦光斑，所述多個(gè)陣列聚焦光斑發(fā)出的光束再經(jīng)所述第三透鏡準(zhǔn)直后形成多束平行光束；

所述掃描模塊包括二色鏡、物鏡及納米位移臺(tái)，所述納米位移臺(tái)可在XYZ三維方向移動(dòng)，所述納米位移臺(tái)上承載有待檢測(cè)樣品，所述多束平行光束經(jīng)所述二色鏡后入射進(jìn)入所述物鏡，并在所述物鏡的焦面處發(fā)生干涉，形成具有光斑的干涉陣列光場(chǎng)，所述具有光斑的干涉陣列光場(chǎng)對(duì)所述樣品進(jìn)行并行照明，使得所述樣品產(chǎn)生并行光信號(hào)；

所述探測(cè)模塊包括帶通濾色片、探測(cè)透鏡以及面陣探測(cè)器，所述并行光信號(hào)經(jīng)所述物鏡及所述二色鏡后再依次進(jìn)入所述帶通濾色片、探測(cè)透鏡以及面陣探測(cè)器，并在所述面陣探測(cè)器的感光面形成陣列光斑，所述面陣探測(cè)器探測(cè)所述陣列光斑，并對(duì)所述陣列光斑進(jìn)行空間濾波及對(duì)所述陣列光斑的像素進(jìn)行再分配處理，以形成較小的陣列光斑，并將所述較小的陣列光斑轉(zhuǎn)化為電信號(hào)；

所述控制模塊電性連接于所述面陣探測(cè)器和所述納米位移臺(tái)，所述控制模塊用于采集所述電信號(hào)；

所述圖像重建模塊電性連接于所述控制模塊，所述圖像重建模塊根據(jù)所述控制模塊采集所述探測(cè)器與所述納米位移臺(tái)的所述電信號(hào)實(shí)現(xiàn)基于干涉陣列光場(chǎng)的高分辨率并行掃描成像圖像重建。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于微透鏡陣列的高分辨并行顯微成像儀，其特征在于，所述擴(kuò)束光束中的一束入射光束經(jīng)所述微透鏡陣列后形成陣列聚焦光斑，所述陣列聚焦光斑的數(shù)量與所述微透鏡陣列中微透鏡的數(shù)量相同。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于微透鏡陣列的高分辨并行顯微成像儀，其特征在于，所述面陣探測(cè)器為CCD或CMOS相機(jī)中的一種。