[發明專利]用于納米氧化鋅制備的噴霧干燥裝置

在審

• 申請號: 201710265969.5
• 申請日: 2017-04-21
• 公開（公告）號: CN106924982A
• 公開（公告）日: 2017-07-07
• 發明（設計）人: 曾翔
• 申請（專利權）人: 四川納諾科技有限公司
• 主分類號: B01D1/18
• 分類號: B01D1/18;C01G9/02;B82Y30/00;B82Y40/00
• 代理公司: 成都行之專利代理事務所(普通合伙)51220
• 代理人: 馬碧娜

技術領域

本發明涉及納米粉體制備領域，具體涉及一種用于納米氧化鋅制備的噴霧干燥裝置。

背景技術

納米粉體也叫納米顆粒，一般指尺寸在1-100nm之間的超細粒子，有人稱它是超微粒子。它的尺度大于原子簇而又小于一般的微粒。按照它的尺寸計算，假設每個原子尺寸為1埃，那么它所含原子數在1000個-10億個之間。它小于一般生物細胞，和病毒的尺寸相當。納米顆粒的形態有球形、板狀、棒狀、角狀、海綿狀等，制成納米顆粒的成分可以是金屬，可以是氧化物，還可以是其他各種化合物。

納米粉體由于粒徑小，非常容易團結集結在一起。在制備過程中時，容易沾染在制備裝置的內壁上。

發明內容

本發明的目的在于提供一種用于納米氧化鋅制備的噴霧干燥裝置，該噴霧干燥裝置能夠防止納米材料粘在干燥塔的內壁上，減少制備過程中納米材料的損失。

本發明通過下述技術方案實現：

用于納米氧化鋅制備的噴霧干燥裝置，包括干燥塔和霧化器，所述霧化器設置在干燥塔的上方，且霧化器的霧化噴嘴延伸入干燥塔的內部，霧化噴嘴上連接有氣流分布板，所述氣流分布板上均勻分布有多個氣流孔，多個所述氣流孔均為梯形或者倒錐形，干燥塔的上方入口處設置有第一氣管，第一氣管的出口設置在氣流分布板的上方，干燥塔的側壁上設置有第二氣管，第二氣管設置在干燥塔的三分之二～四分之三處。

本發明的構思在于：將氣流分布板上的氣流孔設置成梯形或倒錐形，提升氣流的流速，能夠確保從第一氣管出來的氣流到達第二氣管處，能夠和第二氣管出來的氣流混合稱為湍流氣流，形成的湍流氣流能夠充分吹散納米粉體，避免納米粉體粘附在干燥塔的內壁上。

當氣流孔為梯形時，氣流孔為上底大于下底的梯形。這種梯形結構的設置能夠提升氣流的速度，防止第一氣管噴出的氣流在到達第二氣管所在的位置處較大程度的被減弱。

氣流分布板為倒扣傘形。倒扣傘形的設置能夠給予第一氣管處出來的氣流更多的聚集在倒扣傘形的上部空間，能夠提升氣流從氣流分布板上出來的流速。

第一氣管上設置有多個連通的分管，分管均勻分布在氣流分布板的上方。

第二氣管處干燥塔內壁上設置有環形槽。環型槽的設置能夠改變第二氣管處出來的氣流流向，使得第二氣管處和第一氣管處的氣流交匯在橫向和縱向，發生交叉，使得氣流朝各個方向發散，從而避免納米粉在干燥塔內壁上粘附。

本發明與現有技術相比，具有如下的優點和有益效果：

本發明能夠防止納米材料粘在干燥塔的內壁上，減少制備過程中納米材料的損失。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本發明實施例的進一步理解，構成本申請的一部分，并不構成對本發明實施例的限定。在附圖中：

圖1為本發明結構示意圖。

附圖中標記及對應的零部件名稱：

1-干燥塔，2-第一氣管，3-氣流分布板，4-氣流孔，5-第二氣管，6-霧化器，61-噴嘴。

具體實施方式

為使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚明白，下面結合實施例和附圖，對本發明作進一步的詳細說明，本發明的示意性實施方式及其說明僅用于解釋本發明，并不作為對本發明的限定。

實施例1

如圖1所示，用于納米氧化鋅制備的噴霧干燥裝置，包括干燥塔1和霧化器6，所述霧化器6設置在干燥塔1的上方，且霧化器6的霧化噴嘴61延伸入干燥塔1的內部，霧化噴嘴61上連接有氣流分布板3，所述氣流分布板3上均勻分布有多個氣流孔4，多個所述氣流孔4均為梯形或者倒錐形，干燥塔1的上方入口處設置有第一氣管2，第一氣管2的出口設置在氣流分布板3的上方，干燥塔1的側壁上設置有第二氣管5，第二氣管5設置在干燥塔1的三分之二～四分之三處。

本發明的構思在于：將氣流分布板3上的氣流孔4設置成梯形或倒錐形，提升氣流的流速，能夠確保從第一氣管2出來的氣流到達第二氣管5處，能夠和第二氣管5出來的氣流混合稱為湍流氣流，形成的湍流氣流能夠充分吹散納米粉體，避免納米粉體粘附在干燥塔1的內壁上。

當氣流孔4為梯形時，氣流孔4為上底大于下底的梯形。這種梯形結構的設置能夠提升氣流的速度，防止第一氣管2噴出的氣流在到達第二氣管5所在的位置處較大程度的被減弱。

氣流分布板3為倒扣傘形。倒扣傘形的設置能夠給予第一氣管2處出來的氣流更多的聚集在倒扣傘形的上部空間，能夠提升氣流從氣流分布板3上出來的流速。

第一氣管2上設置有多個連通的分管，分管均勻分布在氣流分布板3的上方。