[發明專利]基于干涉陣列光場的共聚焦并行顯微成像儀

有效

• 申請號: 201710265780.6
• 申請日: 2017-04-21
• 公開（公告）號: CN107678151B
• 公開（公告）日: 2020-04-10
• 發明（設計）人: 唐玉國;肖昀;張運海
• 申請（專利權）人: 中國科學院蘇州生物醫學工程技術研究所
• 主分類號: G02B21/00
• 分類號: G02B21/00;G02B21/06;G02B21/36
• 代理公司: 深圳市科進知識產權代理事務所(普通合伙) 44316
• 代理人: 趙勍毅

1.一種基于干涉陣列光場的共聚焦并行顯微成像儀，其特征在于，包括照明模塊、共聚焦掃描模塊、探測模塊、控制模塊及圖像重建模塊，其中：

所述照明模塊包括激光器、二維光柵、光闌、波片及透鏡；所述激光器用于出射線偏振激光，所述二維光柵用于將入射的線偏振激光衍射后形成兩組±1級衍射光及0級衍射光，且所述兩組±1級衍射光及0級衍射光的偏振方向與所述線偏振激光的偏振方向相同，所述光闌用于遮擋0級衍射光，且只允許±1衍射光通過，所述波片用于調制入射的兩組±1級衍射光，并將其中一組±1級衍射光的偏振方向旋轉90度，而使另一組±1級衍射光的偏振方向保持不變，得到相鄰光束偏振方向互相垂直的四束偏振光，所述四束偏振光經過所述透鏡聚焦后再進入所述共聚焦掃描模塊；

所述共聚焦掃描模塊包括二色鏡、物鏡及納米位移臺，所述納米位移臺可在XYZ三維方向移動，所述納米位移臺上承載有待檢測樣品，所述四束偏振光經所述二色鏡后入射進入所述物鏡，并在所述物鏡的焦面處發生干涉，形成具有光斑的干涉陣列光場，所述具有光斑的干涉陣列光場對所述樣品進行并行照明，使得所述樣品產生并行光信號；

所述探測模塊包括帶通濾色片、探測透鏡以及面陣探測器，所述面陣探測器中的像素可形成虛擬針孔，所述并行光信號經所述物鏡及所述二色鏡后再依次進入所述帶通濾色片、探測透鏡以及面陣探測器，并在所述面陣探測器的感光面形成陣列光斑，所述面陣探測器探測所述陣列光斑，且所述面陣探測器形成的虛擬針孔對所述陣列光斑進行空間濾波，使所述陣列光斑與所述虛擬針孔的中心重合，并將濾波后的陣列光斑轉化為電信號；

所述控制模塊電性連接于所述面陣探測器和所述納米位移臺，所述控制模塊采集所述電信號；

所述圖像重建模塊電性連接于所述控制模塊，所述圖像重建模塊根據所述控制模塊采集所述探測器與所述納米位移臺的所述電信號實現基于干涉陣列光場的共聚焦并行掃描成像圖像重建。

2.根據權利要求1所述的基于干涉陣列光場的共聚焦并行顯微成像儀，其特征在于，所述光闌為中心為實心的光闌。

3.根據權利要求1所述的基于干涉陣列光場的共聚焦并行顯微成像儀，其特征在于，所述面陣探測器為CCD或CMOS相機中的一種。