[發明專利]一種無機-無機納米疊層復合膜的制備方法有效
| 申請號： | 201710265519.6 | 申請日： | 2017-04-21 |
| 公開（公告）號： | CN107053784B | 公開（公告）日： | 2019-11-05 |
| 發明（設計）人： | 王建鋒 | 申請（專利權）人： | 王建鋒 |
| 主分類號： | B32B9/04 | 分類號： | B32B9/04;B32B9/00;B32B37/24;B32B38/18 |
| 代理公司： | 北京冠和權律師事務所 11399 | 代理人： | 李建華 |
| 地址： | 100191*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 無機 納米 復合 制備 方法 | ||
1.一種無機-無機納米疊層復合膜的制備方法，其特征在于，所述無機-無機納米疊層復合膜由在水表面形成的不同無機納米材料超薄膜交替堆疊而成；具體制備步驟如下：
（1）將一種無機納米材料分散在能與水互溶的有機溶劑中，形成均勻的分散液，將分散液緩慢注射到水表面，無機納米材料在水表面形成一層均勻透明的超薄膜；
（2）將另一種無機納米材料分散在能與水互溶的有機溶劑中，形成均勻的分散液，將分散液緩慢注射到水表面，另一種無機納米材料在水表面形成一層均勻透明的超薄膜；
（3）將水表面形成的不同無機納米材料超薄膜交替轉移到基底上，得到無機-無機納米疊層復合膜；
所述的無機納米材料選自二硫化鉬（MoS2）、氮化硼(BN)、硫化鎢（WS2）、硒化鉬（MoSe2）、碲化鉬（MoTe2）、硒化鉭（TaSe2）、硒化鈮（NbSe）、碲化鎳（NiTe2）、碲化鉍(Bi2Te3)、二硒化鎢(WSe2)、二碲化鎢(WTe2)、硫化鎵(GaS)、硫化鉿、硒化銦(In2Se3)、硫錫鉛(PbSnS2)、硒化鉑(PtSe2)、硫化錸(ReS2)、硫化錫(SnS2)、硒化錫(SnSe2)、硫化鉭(TaS2)、硫化鈦(TiS2)、硒化鈦(TiSe2)、硒化釩(VSe2)、碳納米管、碳納米纖維。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所用的分散無機納米材料的有機溶劑包括甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、N-甲基吡咯烷酮、N-乙烯基吡咯烷酮、N, N-二甲基甲酰胺、二甲基亞砜、N, N-二甲基乙酰胺中的一種或者幾種。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，無機納米材料在水表面形成均勻透明的超薄膜，超薄膜的厚度在0.34納米到100納米范圍內。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所用的基底材料包括：玻璃、石英、硅片、塑料或金屬。
5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，塑料基底經過親水處理。
6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述的親水處理包括等離子體或紫外臭氧清洗處理。
7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，得到的納米雜化疊層復合薄膜由水表面形成的兩種或兩種以上無機納米材料超薄膜交替堆疊而成。
8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，分散液的濃度為0.001-2 mg/ml。
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