[發明專利]掩模和掩模組件

在審

• 申請號: 201710265404.7
• 申請日: 2017-04-21
• 公開（公告）號: CN107385390A
• 公開（公告）日: 2017-11-24
• 發明（設計）人: 安范模;樸勝浩;邊圣鉉
• 申請（專利權）人: 普因特工程有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;H01L51/56
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司11262
• 代理人: 張瑞,王漪

技術領域

本發明涉及一種掩模和掩模組件。本發明的掩模包括但不限于在形成有機發光二極管的發光層時所使用的用于有機發光二極管的掩模。

背景技術

有機發光二極管(OLED)，是平板顯示器的一種，是一種利用掩模(蔭罩)的典型電子元件。近年來，有機發光二極管得到了廣泛發展并用作為諸如手機等的個人移動通信設備的顯示器。有機發光二極管極薄并具有以下優勢，有機發光二極管能以矩陣形式尋址，并且即使在15伏或以下的低電壓也能驅動。

當制造這種有機發光二極管時，掩模(障板)通常用于形成有機材料沉積區域和第二電極。特別是，當制造包括RGB像素的全彩有機發光二極管時，使用掩模形成各個RGB像素的區域。因此，理所當然的是，掩模的分辨率是很高的?；搴脱谀５膶适菦Q定有機發光二極管的圖像質量的一個非常重要的因素。

通常，當制造用于有機發光二極管的掩模時，在金屬片上涂覆光致抗蝕劑(PR)。通過使用光掩模的曝光和顯影過程形成圖案(或圖案無需任何掩模直接由曝光裝置形成)。此后，通過蝕刻將圖案轉移到金屬片上，從而制造掩模。

作為用于制造掩模的金屬片，可使用銅、鎳、不銹鋼等。然而，一般使用屬于鎳鐵合金的因瓦合金作為金屬片。與用作基板的玻璃的線性熱膨脹系數(3.20×10^-6/℃)相比，因瓦合金具有極低的線性熱膨脹系數(1至2×10^-6/℃)。因此，掩模相對于基板的尺寸不太可能受高溫沉積過程中的熱影響而發生改變。因此，因瓦合金的優勢在于，其能夠避免在基板對準掩模時的沉積位置與在高溫沉積時沉積材料的沉積位置之間的錯位。

然而，因瓦合金存在不易通過處理或蝕刻形成圖案的問題。圖1(a)是示出一種狀態的剖視圖，其中不能確保蝕刻時所形成的透射孔10的內壁的平直度并且在用于形成圖案的蝕刻過程中未均勻形成透射孔10的內部寬度(d1≠d2)。如果如圖1(a)所示沉積有機發光材料20，則有機發光材料20將以大于設計沉積區域的寬度d1的實際沉積區域22的寬度d2沉積在基板30上。有機發光材料20的邊緣部分的高度比具有寬度d2的實際沉積區域22的中心部分的高度低。因此，會產生在發光時邊緣部分看起來比中央部分暗的副作用。這樣，由因瓦合金制成的掩模受到難以獲得比特定分辨率高的分辨率的圖案的限制。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

專利文獻1：韓國專利申請公開No.2014-0106986

專利文獻2：日本專利申請公開No.

發明內容

鑒于上述問題，本發明的目的在于提供一種掩模和掩模組件，使得能夠獲得高分辨率圖案，以及在不用單獨的磁性構件支撐的情況下能容易地且獨立地使其與基板接觸。

根據本發明的一方面，提供了一種用于在基板上形成圖案的掩模，該掩模包括：通過陽極氧化金屬形成的陽極氧化膜；配置為垂直穿過陽極氧化膜并且以與圖案對應的關系形成的至少一個透射孔；形成在陽極氧化膜中的具有小于透射孔的直徑的多個孔；和提供在每個孔中的磁性材料。

在掩模中，陽極氧化膜可包括配置為封閉每個孔的一端的阻擋層，并且至少部分磁性材料可提供在每個孔的底部中。

在掩模中，透射孔可具有在垂直方向均勻的直徑。

在掩模中，磁性材料可由鎳制成。

在掩模中，該圖案可通過在覆蓋有掩模的基板上沉積有機發光材料形成。

根據本公開的另一方面，提供了一種用于在基板上形成圖案的掩模組件，該掩模組件包括：掩模；和配置為使掩模與基板緊密接觸的磁板，其中該掩模包括通過陽極氧化金屬形成的陽極氧化膜，配置為垂直穿過陽極氧化膜并且以與圖案對應的關系形成的至少一個透射孔，形成在陽極氧化膜中的具有小于透射孔的直徑的多個孔，和提供在每個孔中的磁性材料，其中磁板和磁性材料具有磁性，當將基板插在掩模和磁板之間時，通過磁性材料和磁板之間產生的磁力將基板壓在掩模上。

在掩模組件中，陽極氧化膜可包括配置為封閉每個孔的一端的阻擋層，并且至少部分磁性材料可提供在每個孔的底部中。

在掩模組件中，透射孔可具有在垂直方向均勻的直徑。

在掩模組件中，磁性材料可由鎳制成。

在掩模組件中，該圖案可通過在覆蓋有掩模的基板上沉積有機發光材料形成。

根據本發明，可實現以下效果。

使用通過陽極氧化金屬形成的陽極氧化膜，能容易地獲得高分辨率圖案。

可單獨使陽極氧化膜與基板接觸，而無需用因瓦合金等制成的磁性構件支撐。因此容易使用陽極氧化膜。