[發明專利]一種表面增強拉曼散射基底及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 201710261949.0
• 申請日: 2017-04-20
• 公開（公告）號: CN107235471B
• 公開（公告）日: 2019-06-14
• 發明（設計）人: 易國斌;王建超;羅洪盛;俎喜紅;張銘海
• 申請（專利權）人: 廣東工業大學
• 主分類號: B82B1/00
• 分類號: B82B1/00;B82B3/00;B82Y15/00;B82Y30/00;B82Y40/00;G01N21/65
• 代理公司: 廣東廣信君達律師事務所 44329
• 代理人: 張燕玲;楊曉松

1.一種表面增強拉曼散射基底的制備方法，其特征在于包括以下步驟：

(1)通過刻蝕劑對銀納米線表面刻蝕處理，形成刻蝕銀納米線溶膠；

(2)通過界面自組裝法在三相界面處形成有序刻蝕銀納米線薄膜，具體按照以下步驟：在一廣口玻璃器皿中，將步驟(1)所得刻蝕銀納米線溶膠加入到油相溶液的表面，在互不相溶的兩液體及空氣三相之間形成接觸面，然后在刻蝕銀納米線溶膠表面加入第三種溶劑在油水界面處形成的取向銀納米線逐漸從油水界面向水氣界面遷移最終在水氣界面上形成取向銀納米線薄膜；

(3)將界面上自組裝的有序刻蝕銀納米線膜轉移到基底表面，形成表面增強拉曼散射基底；該基底的表面覆蓋有有序刻蝕銀納米線薄膜，該有序刻蝕銀納米線膜是由相互平行的刻蝕銀納米線有序排列而成，刻蝕銀納米線之間的平均間距0-15nm，單根刻蝕銀納米線表面的粗糙度在0-20nm。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于：步驟(1)所述刻蝕劑為體積比(10：1)-(1：1)的濃氨水和雙氧水混合物。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于：步驟(1)具體按照以下步驟：將新鮮配置的刻蝕劑加入到濃度為5mg/mL的PVP水溶液中，在3000轉/分-6000轉/分攪拌條件下加入銀納米線，溶液變色放出氣體，繼續攪拌，形成刻蝕銀納米線溶膠。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于：第三種溶劑與刻蝕銀納米線溶膠的體積比為1：1～1：20。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述油相溶液為氯仿、二氯甲烷或氯苯；所述第三種溶劑為乙醇、丙酮或四氫呋喃。