[發(fā)明專利]一種陣列基板、顯示面板及顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710261576.7 | 申請日: | 2017-04-20 |
| 公開(公告)號: | CN107068722B | 公開(公告)日: | 2020-06-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 侯文軍;劉則 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭潤湘 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 陣列 顯示 面板 顯示裝置 | ||
本申請公開了一種陣列基板、顯示面板及顯示裝置,用以減少像素界定層制備過程中對襯底造成的損傷,防止電極層邊緣塌陷,進而提高產(chǎn)品工作穩(wěn)定性。本申請實施例提供的一種陣列基板,該陣列基板包括:襯底、位于所述襯底之上呈陣列分布的電極層、位于所述襯底之上且與所述電極層相互間隔設(shè)置的墊高層、以及位于所述墊高層之上的像素界定層;所述電極層與所述墊高層接觸。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種陣列基板、顯示面板及顯示裝置。
背景技術(shù)
有機電致發(fā)光顯示器具有自發(fā)光、反應(yīng)快、視角廣、亮度高、色彩艷、輕薄等優(yōu)點,有機電致發(fā)光顯示技術(shù)已經(jīng)成為一種重要的顯示技術(shù)。
針對有機發(fā)光二極管(OLED)或高分子發(fā)光二極管(PLED)有機電致發(fā)光器件,有機薄膜的形成方法有真空蒸鍍和溶液制程兩種方法,真空蒸鍍方法,適用于有機小分子,其特點是有機薄膜的形成不需要溶劑,薄膜厚度均一,但是設(shè)備投資大、材料利用率低、不適用于大尺寸產(chǎn)品的生產(chǎn)。溶液制成包括旋涂、噴墨打印、噴嘴涂覆法等,適用于聚合物材料和可溶性小分子,其設(shè)備成本低,在大規(guī)模、大尺寸生產(chǎn)上優(yōu)勢突出?,F(xiàn)有技術(shù)中,像素界定層一般由兩層組成,第一層由無機材料組成的親液層,第二層由有機材料組成的疏液層,兩層浸潤性不同的材料組成的像素界定層能夠使溶液精準打印和形成厚度均一的有機薄膜。采用等離子氣相沉積工藝制備無機像素界定層時,制備過程中的物質(zhì)或者氣體會與平坦化層上殘留的蝕刻液發(fā)生化學(xué)反應(yīng),致使平坦化層產(chǎn)生孔洞,造成陽極邊緣塌陷,進而影響OLED器件性能。
綜上,現(xiàn)有技術(shù)中像素界定層制備過程容易對平坦化層造成損傷,造成陽極邊緣塌陷,影響產(chǎn)品工作穩(wěn)定性。
發(fā)明內(nèi)容
本申請實施例提供了一種陣列基板、顯示面板及顯示裝置,用以減少像素界定層制備過程中對襯底造成的損傷,防止電極層邊緣塌陷,進而提高產(chǎn)品工作穩(wěn)定性。
本申請實施例提供的一種陣列基板,該陣列基板包括:襯底、位于所述襯底之上呈陣列分布的電極層、位于所述襯底之上且與所述電極層相互間隔設(shè)置的墊高層、以及位于所述墊高層之上的像素界定層;所述電極層與所述墊高層接觸。
本申請實施例提供的陣列基板,由于所述墊高層位于所述襯底之上,所述像素界定層位于所述墊高層之上,即像素界定層和襯底之間設(shè)置墊高層,從而可以減少電極層蝕刻后蝕刻液的殘留,進而避免像素界定層直接設(shè)置在襯底上的制備過程中在襯底發(fā)生化學(xué)反應(yīng),即可以減少像素界定層制備過程中對襯底造成的損傷,進而可以減少電極層邊緣塌陷的情況,可以提高產(chǎn)品工作穩(wěn)定性。
較佳地,所述電極層與所述像素界定層接觸面為曲面。
本申請實施例提供的陣列基板,所述電極層與所述像素界定層接觸面為曲面,從而可以增大像素界定層覆蓋電極層邊緣的面積,即便電極層邊緣發(fā)生塌陷,在平行于襯底方向上,像素界定層覆蓋電極層邊緣的寬度不變,從而可以避免電極層邊緣塌陷導(dǎo)致的像素界定層無法覆蓋電極層邊緣,進而可以防止電極層邊緣出現(xiàn)尖端放電等問題對陣列基板工作穩(wěn)定性的影響。
較佳地,所述墊高層的材料包括下列材料之一或組合:聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯基乙胺、聚萘二甲酸乙二醇酯。
較佳地,所述像素界定層包括:無機像素界定層和位于所述無機像素界定層之上的有機像素界定層;所述無機像素界定層完全覆蓋所述電極層的曲面。
較佳地,所述有機像素界定層的材料包括下列材料之一或組合:聚硅氧烷、氟化聚酰亞胺、氟化甲基丙烯酸甲酯。
較佳地,所述無機像素界定層的材料包括:氧化硅或氮化硅。
較佳地,所述襯底為平坦化層。
較佳地,所述電極層為陽極層。
本申請實施例提供的一種顯示面板,所述顯示面板包括本申請實施例提供的陣列基板。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





