[發(fā)明專利]用于檢查和校正的方法和系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710260273.3
• 申請日: 2017-04-20
• 公開（公告）號: CN107457996B
• 公開（公告）日: 2021-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: J·D·威廉斯;A·Y·莫舍;P·T·布希
• 申請（專利權(quán)）人: 波音公司
• 主分類號: B29C64/393
• 分類號: B29C64/393;B29C64/118;B33Y50/02
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 呂俊剛;楊薇

1.一種用于檢查和校正的方法，該方法包括以下步驟：

操作直接寫入裝置(104)，該直接寫入裝置(104)被配置成通過尖端(206)將材料(208)沉積在基板(209)上，以根據(jù)初始參數(shù)值提供產(chǎn)品(106)的一部分；

接收由高光譜攝像機(108)獲取的高光譜圖像幀(306)，該高光譜圖像幀(306)包括所述尖端和所沉積的材料的多個光譜圖像；

處理所接收的高光譜圖像幀，以確定所沉積的材料的特性，其中，所述高光譜圖像幀中的所述尖端的尺寸用于確定和校正所沉積的材料的尺寸，并且所述高光譜攝像機(108)指向所述尖端(206)；

比較所確定的特性與目標(biāo)特性(331、332、333、334)；

確定至少一個校正參數(shù)值，以使所確定的特性符合所述目標(biāo)特性；

利用所述校正參數(shù)值來更新所述初始參數(shù)值中的至少一個；以及

操作所述直接寫入裝置，以根據(jù)所述校正參數(shù)值在所述基板上沉積添加材料。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述直接寫入裝置(104) 是添加制造裝置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中：

所述處理的步驟包括以下步驟：對一個或更多個所述光譜圖像執(zhí)行邊緣檢測和線段檢測，以測量所沉積的材料的寬度和高度中的至少一個；以及

所述比較的步驟包括以下步驟：將寬度和高度中的所測量的所述至少一個與存儲在尺寸數(shù)據(jù)庫(331)中的寬度和高度中的預(yù)定的至少一個進(jìn)行比較。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，所述校正參數(shù)值與所述尖端的高度、通過所述尖端的源材料的流速、以及所述尖端的平移速度中的至少一個對應(yīng)，以調(diào)節(jié)所沉積的添加材料的寬度和高度中的至少一個。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中：

所述處理的步驟包括以下步驟：利用兩個或更多個所述光譜圖像來執(zhí)行算術(shù)運算，以生成所沉積的材料的孔隙度分布圖和表面粗糙度分布圖中的至少一個；以及

所述比較的步驟包括以下步驟：將孔隙度分布圖和表面粗糙度分布圖中的所生成的所述至少一個與存儲在孔隙度數(shù)據(jù)庫(332)和表面粗糙度數(shù)據(jù)庫(333)中的至少一個中的孔隙度分布圖和表面粗糙度分布圖中的至少一個進(jìn)行比較。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中，所述方法包括下列各項特征中的至少一個：

所述算術(shù)運算包括：重疊與不同光譜帶相關(guān)聯(lián)的多個光譜圖像，并減去在所述不同光譜帶處捕獲的兩個或更多個所述光譜圖像之間的差異；

所述校正參數(shù)值與通過所述尖端的所述添加材料的流速和所述基板的溫度中的至少一個對應(yīng)，以調(diào)節(jié)所沉積的添加材料的表面粗糙度；以及

所述校正參數(shù)值與選自由以下各項組成的組中的一個或更多個對應(yīng)：通過所述尖端的所述添加材料的流速、空氣壓力、溶劑含量、化學(xué)釋放速率、等離子體共振、光學(xué)折射率、可測量高度、機械應(yīng)力、以及表面張力，以調(diào)節(jié)所沉積的添加材料的孔隙度。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，所述方法還包括以下步驟：

基于一個或更多個所述光譜圖像，來生成所沉積的材料的吸光度分布圖；

比較所生成的吸光度分布圖與存儲在吸光度分布圖數(shù)據(jù)庫(334)中的吸光度分布圖；以及

基于所述吸光度分布圖，來執(zhí)行對所沉積的材料的化學(xué)分析，以標(biāo)識所沉積的材料的化學(xué)組成。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，所述方法還包括以下步驟：接收相對于所述高光譜圖像幀按不同時間捕獲的至少一個附加高光譜圖像幀，所述附加高光譜圖像包括按不同時間的、所沉積的材料的多個附加光譜圖像，其中：

所述處理的步驟包括以下步驟：基于所述光譜圖像和所述附加光譜圖像，按不同時間生成所沉積的材料的多個吸光度分布圖；

所述比較的步驟包括以下步驟：比較每個所述吸光度分布圖與存儲在吸光度數(shù)據(jù)庫中的基準(zhǔn)吸光度分布圖，以確定所沉積的材料中的溶劑含量；以及

所述校正參數(shù)值與基板的溫度和通過所述尖端的所述添加材料的流速中的至少一個對應(yīng)，以調(diào)節(jié)所沉積的材料的干燥時間。