[發明專利]一種機械拋光工藝

在審

• 申請號: 201710260017.4
• 申請日: 2017-04-20
• 公開（公告）號: CN107116400A
• 公開（公告）日: 2017-09-01
• 發明（設計）人: 武行峰
• 申請（專利權）人: 合肥羿振電力設備有限公司
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00;C09G1/02;C23G1/14;C23G1/04;C23G1/24;C23C22/06
• 代理公司: 合肥道正企智知識產權代理有限公司34130
• 代理人: 張浩

技術領域

本發明涉及機械加工用具制造技術領域，特別是涉及一種機械拋光工藝。

背景技術

機械拋光是在專用的拋光機上進行拋光，靠極細的拋光粉和磨面間產生的相對磨削和滾壓作用來消除磨痕的，分為粗拋光和細拋光。

機械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸起部分而得到平滑面的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉體表面，可使用轉臺等輔助工具，表面質量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制的磨具，在含有磨料的工作液中，緊壓在工件被加工表面上，作高速旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模具常采用這種方法。

傳統的機械拋光工藝大多采用物理方法，拋光效果差，適用性不強，造成了材料的浪費嚴重，本發明采用化學拋光工藝簡單，拋光效率高。

發明內容

一種機械拋光工藝，其特征在于，包括機械拋光、堿洗、酸洗、水洗和干燥等步驟。

一種機械拋光工藝，其特征在于，包括機械拋光、堿洗、酸洗、水洗和干燥等步驟，具體工藝步驟如下：

（1）、機械拋光：利用拋光裝置對待拋光樣品進行機械拋光，形成拋光層；

（2）、堿洗：對上述拋光層采用堿性溶液的清洗；

（3）、酸洗：再采用酸性的緩沖劑去除拋光層表面的殘留物層,在去除殘留物層之后，形成覆蓋拋光層的鈍化層；

（4）、水洗：通過噴嘴噴淋超純水清洗拋光層；

（5）、干燥：對水洗后的拋光層進行干燥處理。

優選的，所述步驟（1）中機械拋光主要采用化學機械拋光方法，拋光液為水溶性性組合物，其化學成分百分含量為30-50%磨料、緩蝕成膜劑20-30%和氧化劑10-15%。

優選的，所述步驟（1）中磨料為二氧化硅、二氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦或者氧化鍺的一種或者兩種以上混合物。

優選的，所述步驟（1）中緩蝕成膜劑為分子含有選自-SO₃^-、-PO₄^2-、-CONH₂ 和-COO^-的一種活性基團或者兩種以上混合有機化合物。

優選的，所述步驟（2）和（3）中堿洗和酸洗試劑的pH值通過硫酸、鹽酸、硝酸、磷酸、氫氧化鉀、氨水、乙醇胺和三乙醇胺的至少一種來進行調節。

優選的，所述步驟（4）中水洗采用的是去離子水，清洗時間為3-5 min。

有益效果：本發明提供的一種機械拋光工藝，包括機械拋光、堿洗、酸洗、水洗和干燥等步驟，利用拋光裝置對待拋光樣品進行機械拋光，形成拋光層，采用堿性溶液的清洗拋光層，再采用酸性的緩沖劑去除拋光層表面的殘留物層,在去除殘留物層之后，形成覆蓋拋光層的鈍化層，然后，通過噴嘴噴淋超純水清洗拋光層，最后，對水洗后的拋光層進行干燥處理。本發明具有工藝簡單、適合工業化生產的優勢，拋光效率高，并且，拋光層表面的平整度高，長期穩定性好。

具體實施方式

為使本發明實現的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解，下面結合具體實施方式，進一步闡述本發明。

實施例1：

一種機械拋光工藝，其特征在于，包括機械拋光、堿洗、酸洗、水洗和干燥等步驟，具體工藝步驟如下：

（1）、機械拋光：利用拋光裝置對待拋光樣品進行機械拋光，形成拋光層；

（2）、堿洗：對上述拋光層采用堿性溶液的清洗；

（3）、酸洗：再采用酸性的緩沖劑去除拋光層表面的殘留物層,在去除殘留物層之后，形成覆蓋拋光層的鈍化層；

（4）、水洗：通過噴嘴噴淋超純水清洗拋光層；

（5）、干燥：對水洗后的拋光層進行干燥處理。

其中，所述步驟（1）中機械拋光主要采用化學機械拋光方法，拋光液為水溶性性組合物，其化學成分百分含量為30%磨料、緩蝕成膜劑20%和氧化劑10%；所述步驟（1）中磨料為二氧化硅和二氧化鋅中的一種或者兩種混合物；所述步驟（1）中緩蝕成膜劑為分子含有選自-SO₃^-或者-PO₄^2-的有機化合物；所述步驟（2）和（3）中堿洗和酸洗試劑的pH值通過硫酸和氫氧化鉀來進行調節；所述步驟（4）中水洗采用的是去離子水，清洗時間為3 min。

實施例2：