[發明專利]一種刻蝕銅鋅錫硫薄膜表面二次相的方法有效
| 申請號: | 201710256059.0 | 申請日: | 2017-04-19 |
| 公開(公告)號: | CN107086251B | 公開(公告)日: | 2019-02-15 |
| 發明(設計)人: | 范建東;麥耀華;陳榮榮;劉沖 | 申請(專利權)人: | 河北大學 |
| 主分類號: | H01L31/032 | 分類號: | H01L31/032;H01L31/18 |
| 代理公司: | 石家莊國域專利商標事務所有限公司 13112 | 代理人: | 胡素梅;胡澎 |
| 地址: | 071002 河北*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 刻蝕 銅鋅錫硫 薄膜 表面 二次 方法 | ||
本發明提供了一種刻蝕銅鋅錫硫薄膜表面二次相的方法。該方法使濃鹽酸(質量分數為37.5%)與去離子水按預定體積比進行混合以對濃鹽酸進行稀釋,稀釋后的鹽酸溶液置于恒溫的水浴鍋中,將待刻蝕的薄膜樣品置于稀釋后的鹽酸溶液中,使薄膜樣品與鹽酸反應一段時間后,再將樣品取出,最后用去離子水將薄膜表面沖洗干凈,再用氮氣槍吹干,則可得到比較單一的純相CZTS薄膜。本發明采用鹽酸溶液浸泡銅鋅錫硫薄膜,可有效去除銅鋅錫硫薄膜表面的ZnS二次雜相,后續可制得光電性能較好的CZTS太陽電池。本發明相比傳統的KCN刻蝕方法簡單易操作,成本低且對人的危害性較小。
技術領域
本發明涉及薄膜刻蝕技術領域,具體地說是一種刻蝕銅鋅錫硫薄膜表面二次相的方法。
背景技術
目前,銅鋅錫硫(Cu2ZnSnS,簡寫:CZTS)材料用比較廉價且儲量豐富的鋅與錫元素替代銅銦鎵硒(CIGS)中的銦與鎵,從而大大降低成本,更適用于大規模應用。CZTS具有與太陽光譜相匹配的禁帶寬度(1.5 eV)和在可見光范圍內超過104 cm-1的吸收系數,理論的光電轉換效率超過30%,是一種良好的吸收層材料。但由于CZTS是多元化合物,化學計量比較難控制,化學計量比控制不好就易生成二元雜相,例如:Cu2S、ZnS等,不利于電池的光電性能。
為了去除CZTS表面的雜相,現在一般選用氰化鉀(KCN)溶液進行刻蝕薄膜表面,通過KCN刻蝕后的薄膜能夠得到比較單一的純相CZTS,提高CZTS太陽電池的效率。但是由于KCN是一種劇毒藥品,長期接觸氰化物會出現神經衰弱綜合征、眼及上呼吸道刺激,對人體造成重大傷害,并且它本身易潮解,與水反應生成HCN,也是一種高毒藥品。
發明內容
本發明的目的就是提供一種刻蝕銅鋅錫硫薄膜表面二次相的方法,該方法采用鹽酸溶液刻蝕銅鋅錫硫薄膜,相比傳統的KCN刻蝕簡單易操作,成本低且對人的危害性較小。
本發明的目的是這樣實現的:一種刻蝕銅鋅錫硫薄膜表面二次相的方法,包括如下步驟:
a、將質量分數為37.5%的濃鹽酸和去離子水按體積比為0%~5%的比例混合,制成鹽酸溶液;
b、將待刻蝕的銅鋅錫硫薄膜置于步驟a中制成的鹽酸溶液中;
c、將步驟b中的溶液置于水浴鍋中,水浴鍋內的溫度為70℃~90℃;
d、鹽酸與銅鋅錫硫薄膜表面的ZnS二次相反應,生成ZnCl2溶于水中;
e、將銅鋅錫硫薄膜從鹽酸溶液中取出,用去離子水沖洗并用氮氣槍吹干。
優選的,步驟a中濃鹽酸和去離子水的體積比為1%~3%。更優選的,步驟a中濃鹽酸和去離子水的體積比為1%。
優選的,步驟c中水浴鍋為恒溫的水浴鍋。更優選的,步驟c中水浴鍋內的溫度為75℃。
步驟e中使鹽酸與銅鋅錫硫薄膜表面的ZnS二次相反應1min~10min后,再將銅鋅錫硫薄膜從鹽酸溶液中取出。
步驟b中,將待刻蝕的銅鋅錫硫薄膜置于步驟a中制成的鹽酸溶液中,且鹽酸溶液過量。
為減少劇毒藥品對人的傷害,本發明使用鹽酸溶液代替劇毒的KCN,使濃鹽酸(質量分數為37.5%)與去離子水按不同體積比進行混合以對濃鹽酸進行稀釋,稀釋后的鹽酸溶液置于恒溫的水浴鍋中,將待刻蝕的薄膜樣品置于稀釋后的鹽酸溶液中,使薄膜樣品與鹽酸反應一段時間后,再將樣品取出,最后用去離子水將薄膜表面沖洗干凈,再用氮氣槍吹干,則可得到比較單一的純相CZTS薄膜。
本發明中的銅鋅錫硫薄膜為硫化退火后的薄膜,采用鹽酸溶液浸泡硫化退火后的銅鋅錫硫薄膜來去除薄膜表面的ZnS二次雜相,后續可制得光電性能較好的CZTS太陽電池。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





