[發(fā)明專利]一種用于半定量測定安培力影響因素的教學(xué)裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710255816.2 | 申請日: | 2017-04-19 |
| 公開(公告)號: | CN106875795A | 公開(公告)日: | 2017-06-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王仁泉 | 申請(專利權(quán))人: | 王仁泉 |
| 主分類號: | G09B23/18 | 分類號: | G09B23/18 |
| 代理公司: | 南京正聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司32243 | 代理人: | 吳惠松 |
| 地址: | 226001 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 定量 測定 安培力 影響 因素 教學(xué) 裝置 | ||
1.一種用于半定量測定安培力影響因素的教學(xué)裝置,其特征在于:包括底座(1),所述底座(1)上設(shè)有立柱(2),所述立柱(2)表面設(shè)有刻度線,所述立柱(2)一側(cè)設(shè)有第一滑塊(3),所述第一滑塊(3)設(shè)置在底座(1)表面的縱向滑軌(4)上,包括止位塊,所述止位塊位于第一滑塊(3)與立柱(2)之間的縱向滑軌(4)上,所述第一滑塊(3)下表面設(shè)有與縱向滑軌(4)相配合的凸起,所述第一滑塊(3)上設(shè)有凹槽(5),所述凹槽(5)兩邊設(shè)有擋板(6),所述凹槽(5)內(nèi)放有磁鐵塊(7),所述底座(1)上設(shè)有電路系統(tǒng),所述電路系統(tǒng)包括電源(8)、電鍵(9)、滑動變阻器(10)、安培表(11)和金屬棒(12),所述電源(8)、電鍵(9)、滑動變阻器(10)、安培表(11)和金屬棒(12)通過導(dǎo)線串聯(lián)連接,所述金屬棒(12)彎折后的兩端插入第一滑塊(3)兩側(cè)面的圓孔(13)內(nèi),所述圓孔(13)的大小與金屬棒(12)的直徑相配合來保證金屬棒(12)轉(zhuǎn)動不打滑,所述立柱(2)頂端設(shè)有收線器(14),所述收線器(14)上卷繞復(fù)合線,所述復(fù)合線包括棉線(16)和橡皮筋(17),所述橡皮筋(17)一端連接在金屬棒(12)中部、另一端與棉線(16)連接,所述復(fù)合線上設(shè)有浮標(biāo)(18)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于半定量測定安培力影響因素的教學(xué)裝置,其特征在于:所述立柱(2)一側(cè)的底座(1)上固定設(shè)有第二滑塊(15),所述第二滑塊(15)上設(shè)有凹槽(5),所述凹槽(5)兩邊設(shè)有擋板(6),所述凹槽(5)內(nèi)放有磁鐵塊(7),所述第二滑塊(15)與金屬棒(12)的距離和第一滑塊(3)與金屬棒(12)的距離相等。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于半定量測定安培力影響因素的教學(xué)裝置,其特征在于:所述第二滑塊(15)兩側(cè)面底部設(shè)有固定座(20),所述固定座(20)上設(shè)有螺栓孔與底座(1)上的螺栓孔相對應(yīng)使第二滑塊(15)與底座(1)固定。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于半定量測定安培力影響因素的教學(xué)裝置,其特征在于:所述第二滑塊(15)的凹槽(5)內(nèi)表面上設(shè)有螺栓孔且與立柱(2)上的螺栓孔相對應(yīng)使第二滑塊(15)與立柱(2)固定。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于半定量測定安培力影響因素的教學(xué)裝置,其特征在于:所述第二滑塊(15)設(shè)置在底座(1)表面的橫向滑軌(21)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的一種用于半定量測定安培力影響因素的教學(xué)裝置,其特征在于:所述縱向滑軌(4)為燕尾槽導(dǎo)軌,所述第一滑塊(3)下表面設(shè)有與燕尾槽導(dǎo)軌相配合的凸起。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的一種用于半定量測定安培力影響因素的教學(xué)裝置,其特征在于:所述第一滑塊(3)下表面設(shè)有與縱向滑軌(4)相配合的滾輪。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的一種用于半定量測定安培力影響因素的教學(xué)裝置,其特征在于:所述金屬棒(12)為純銅棒或合金棒。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的一種用于半定量測定安培力影響因素的教學(xué)裝置,其特征在于:所述收線器(14)為旋鈕調(diào)速器。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的一種用于半定量測定安培力影響因素的教學(xué)裝置,其特征在于:所述磁鐵塊(7)放置在磁鐵盒(19)中。
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