[發(fā)明專利]一種參數(shù)配置方法及電吸收調(diào)制激光器EML激光器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710254634.3 | 申請日: | 2017-04-18 |
| 公開(公告)號: | CN107046226B | 公開(公告)日: | 2021-09-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 武逶 | 申請(專利權(quán))人: | 青島海信寬帶多媒體技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/068 | 分類號: | H01S5/068 |
| 代理公司: | 北京睿博行遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11297 | 代理人: | 龔家驊 |
| 地址: | 266555 山東省青*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 參數(shù) 配置 方法 吸收 調(diào)制 激光器 eml | ||
本發(fā)明公開了一種參數(shù)配置方法,應(yīng)用于電吸收調(diào)制激光器EML激光器,該激光器根據(jù)最佳反向偏置電壓VEA對自身的工作參數(shù)進(jìn)行配置,其中最佳VEA是根據(jù)激光器的VEA與輸出光功率AOP的函數(shù)關(guān)系式的一階導(dǎo)數(shù)極大值點確定的。通過運用本發(fā)明提出的技術(shù)方案,能夠保證激光器工作運行時的各項達(dá)到優(yōu)良條件,提高了激光器的生產(chǎn)良率,以及減少了繁多的測試工作給技術(shù)人員帶來的負(fù)擔(dān)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及激光器領(lǐng)域,特別涉及一種參數(shù)配置方法。本發(fā)明同時還涉及一種電吸收調(diào)制激光器EML激光器。
背景技術(shù)
EML(Electlro-absorption Modulated Laser,電吸收調(diào)制激光器)激光器的VEA(Voltage Electro-absorption,反向偏置電壓)是影響激光器的啁啾和色散(通道代價)的關(guān)鍵參數(shù)。同時,VEA值對激光器的輸出光功率(AOP)、消光比(ER)、輸出光眼圖富裕量(MM,mask margin)、以及激光器偏置電流(Ibias)等有直接影響,而消光比、色散(DP)、輸出光眼圖富裕量、偏置電流則是針對EML激光器評價TOSA質(zhì)量的必要指標(biāo)。
舉例來說,如果VEA值過小,那么就會導(dǎo)致激光器的AOP變小和眼圖變差(maskmargin變小);如果VEA值過大,雖然激光器眼圖會變好,但會導(dǎo)致通道代價指標(biāo)變差,因此,VEA取值是否合理直接影響了EML激光器性能的優(yōu)劣。
目前,在基于EML激光器的長距離光模塊產(chǎn)品的生產(chǎn)調(diào)試中,VEA值的選取主要采用以下兩種方式,其各自的缺點如下:
1)固定VEA電壓調(diào)試方法
該方法采用光發(fā)射組件(TOSA)供應(yīng)商提供的數(shù)值或者采用實際生產(chǎn)過程的經(jīng)驗值作為VEA電壓,固定VEA電壓調(diào)試方法在調(diào)試過程中不在改變,如果光功率(AOP),眼圖模板裕量(mask margin),偏置電流(Ibias),通道代價(DP)等性能不達(dá)標(biāo)。就只能改變VEA值重新調(diào)試,然后測試,如果測試不達(dá)標(biāo),又要重新改變VEA值然后重新調(diào)試測試,如此往返,面對大規(guī)模生產(chǎn),非常浪費人力物力,并且需要操作員有很強(qiáng)的專業(yè)知識。
2)步進(jìn)式VEA電壓調(diào)試方法(最小色散法)。
步進(jìn)式VEA電壓調(diào)試方法將VEA電壓從最小值逐漸增大,直到偏置電流、光功率、消光比、光眼圖交叉點和光眼圖模板裕量等光眼圖核心參數(shù)均滿足設(shè)定的要求范圍,此時的VEA值即為使EML激光器取得長距離傳輸時最小色散的VEA值。該方法解決了固定VEA電壓調(diào)試方法重復(fù)測試的缺點,但VEA電壓每次步進(jìn),均要對光眼圖核心重新配置,增加了調(diào)測時間,同時導(dǎo)致偏置電流、輸出光功率、消光比、光眼圖交叉點和光眼圖富裕量光眼圖核心參數(shù)整體性能較差。
由此可見,如何在保證激光器的光眼圖等性能的前提下提高工作參數(shù)配置效率,進(jìn)而使激光器的性能達(dá)到優(yōu)良條件,成為本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種參數(shù)配置方法,用以解決現(xiàn)有技術(shù)中激光器參數(shù)配置過程長且需要不斷進(jìn)行測試的問題。該方法包括:
所述激光器根據(jù)最佳反向偏置電壓VEA對自身的工作參數(shù)進(jìn)行配置;
其中,所述最佳VEA根據(jù)所述激光器的VEA與輸出光功率AOP的函數(shù)關(guān)系式的一階導(dǎo)數(shù)極大值點確定。
相應(yīng)的,本發(fā)明還提出了一種電吸收調(diào)制激光器EML激光器,包括:
配置模塊,根據(jù)最佳反向偏置電壓VEA對自身的工作參數(shù)進(jìn)行配置;
其中,所述最佳VEA根據(jù)所述激光器的VEA與輸出光功率AOP的函數(shù)關(guān)系式的一階導(dǎo)數(shù)極大值點確定。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于青島海信寬帶多媒體技術(shù)有限公司,未經(jīng)青島海信寬帶多媒體技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710254634.3/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





