[發(fā)明專利]一種電子設(shè)備機(jī)殼有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710253445.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-04-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107072117B | 公開(公告)日: | 2020-06-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱偉華;方磊;楊立尚;王雙禮;王先爐 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京一數(shù)科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H05K7/20 | 分類號(hào): | H05K7/20 |
| 代理公司: | 北京柏杉松知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 劉繼富;王春偉 |
| 地址: | 100013 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電子設(shè)備 機(jī)殼 | ||
1.一種電子設(shè)備機(jī)殼,其特征在于,電子設(shè)備機(jī)殼本體(01)圍合形成空腔,所述空腔用于放置電子設(shè)備的原器件;所述電子設(shè)備機(jī)殼本體(01)內(nèi)具有一個(gè)或多個(gè)閉環(huán)毛細(xì)管道(02),所述閉環(huán)毛細(xì)管道(02)內(nèi)填充有低沸點(diǎn)工質(zhì);所述閉環(huán)毛細(xì)管道(02)和所述低沸點(diǎn)工質(zhì)用于為所述電子設(shè)備的原器件散熱;所述閉環(huán)毛細(xì)管道(02)的口徑為100-300μm;所述電子設(shè)備機(jī)殼本體(01)內(nèi)設(shè)置工質(zhì)池(03),所述工質(zhì)池(03)內(nèi)填充有所述低沸點(diǎn)工質(zhì),所述工質(zhì)池(03)與所述閉環(huán)毛細(xì)管道(02)連通,在每個(gè)閉環(huán)毛細(xì)管道(02)上形成兩個(gè)連接口;在所述連接口處設(shè)置單向膜;所述單向膜與所述連接口半連接;
當(dāng)所述閉環(huán)毛細(xì)管道(02)的數(shù)量為多個(gè)時(shí),則所述閉環(huán)毛細(xì)管道(02)相互獨(dú)立。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)殼,其特征在于,一個(gè)閉環(huán)毛細(xì)管道(02)連接工質(zhì)池(03)的所述兩個(gè)連接口分別是第一連接口(021)和第二連接口(022);則還包括:將所述第一連接口(021)和第二連接口(022)設(shè)置成不同的口徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)殼,其特征在于,還包括:在所述閉環(huán)毛細(xì)管道(02)內(nèi)設(shè)置單向膜。
4.如權(quán)利要求1所述的機(jī)殼,其特征在于,所述工質(zhì)池(03)設(shè)置于與電子設(shè)備發(fā)熱源對(duì)應(yīng)的位置。
5.如權(quán)利要求1或2所述的機(jī)殼,其特征在于,所述低沸點(diǎn)工質(zhì)包括:氟利昂、丙酮及甲醇中的一種或幾種。
6.如權(quán)利要求5所述的機(jī)殼,其特征在于,所述低沸點(diǎn)工質(zhì)通過真空填充、蒸汽驅(qū)逐及加熱驅(qū)逐中的一種或幾種方式進(jìn)行填充。
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