[發明專利]一種地下室防水基坑結構及其施工方法

有效

• 申請號: 201710253029.4
• 申請日: 2017-04-18
• 公開（公告）號: CN107178088B
• 公開（公告）日: 2019-02-15
• 發明（設計）人: 胡濤;彭道艷;袁國新;李冬
• 申請（專利權）人: 武漢正遠巖土科技有限公司
• 主分類號: E02D19/18
• 分類號: E02D19/18;E02D19/12;E02D31/02
• 代理公司: 杭州千克知識產權代理有限公司 33246
• 代理人: 裴金華

1.一種地下室防水基坑結構，其特征在于，包括：地下室主體（5）、基坑圍護墻（1）、地下室加固防滲層（2）和基坑內的多根立柱樁（3）與工程樁（4），一根所述立柱樁（3）與一根所述工程樁（4）連接成一個柱樁，所述柱樁中工程樁（4）設置在立柱樁（3）下方，所述工程樁（4）底部嵌入隔水層或巖層，所述立柱樁（3）頂部與基坑頂部標高平齊；所述基坑圍護墻（1）設置在地下室主體（5）側面，所述地下室主體（5）底部設置有地下室底板（6）；所述基坑圍護墻（1）為采用多塊拼接式預制墻板（100）相互拼接的方式形成地下連續墻；所述地下室加固防滲層（2）設置在所述地下室底板（6）的下方，其側面與所述基坑圍護墻（1）相連接，形成截面為“H”形的結構。

2.根據權利要求1所述的一種地下室防水基坑結構，其特征在于，所述拼接式預制墻板（100）的兩側設置有拼裝部（110），所述拼接式預制墻板（100）之間通過拼裝部（110）相連接，所述拼裝部（110）內設置有灌漿半口（113），相鄰兩塊所述拼接式預制墻板（100）的灌漿半口（113）在拼接后，形成灌漿腔（114）。

3.根據權利要求2所述的一種地下室防水基坑結構，其特征在于，所述拼裝部（110）上設置有相互匹配的拼接條（111）和拼接槽（112）。

4.根據權利要求3所述的一種地下室防水基坑結構，其特征在于，所述灌漿腔（114）內設置有鋼筋（115）和混凝土。

5.根據權利要求4所述的一種地下室防水基坑結構，其特征在于，所述拼接式預制墻板（100）的長度方向上設置有開孔（120）。

6.根據權利要求5所述的一種地下室防水基坑結構，其特征在于，所述開孔（120）內設置有鋼筋（115）和混凝土。

7.根據權利要求1所述的一種地下室防水基坑結構，其特征在于，所述立柱樁（3）樁底與工程樁（4）樁頂之間設置與有注漿層。

8.一種地下室防水基坑結構的施工方法，其特征在于，包括以下步驟，

（一）基樁工程施工：對基坑內采用一柱一樁方式進行施工，所述一柱一樁指的是，基坑內立柱樁（3）與工程樁（4）的連接成的柱樁，工程樁（4）為灌注樁，立柱樁（3）為鋼管混凝土立柱樁，工程樁（4）設置在立柱樁（3）下方，工程樁（4）底部嵌入隔水層或巖層，立柱樁（4）頂部一次施工到設計標高；施工中保證立柱樁（3）的垂直度，對樁底與樁側中部進行后注漿工序，以保證立柱樁（3）的承載力并減少沉降；

（二）控制地下水壓力，在基坑圍護墻（1）、地下室加固防滲層（2）搭建之前，控制地下水的壓力，防止坑底隆起及突涌發生；

（三）基坑開槽，開設用以基坑圍護墻（1）安裝的支護墻槽；

（四）安裝地下連續墻，拼接式預制墻板（100）拼接安裝到支護墻槽內后，采用灌漿方式將灌漿腔（114）和開孔（120）填滿，保證地下連續墻牢固不滲水；

（五）地下室加固防滲層（2）構建，采用注漿材料高壓灌漿的方式將地下室底部的土質改性，形成一塊與基坑圍護（1）相連接的防水層，作為地下室加固防滲層（2）；地下室加固防滲層（2）與基坑圍護（1）在軟土層內形成一個縱向截面為“H”型的結構，即地下室加固防滲層（2）深度大于地下室底板（6）的深度小于基坑圍護（1）的深度；

（六）土方開挖，挖出地下室主體（5）內的土方，并進行地下室樓板的搭建施工。

9.根據權利要求8所述的一種地下室防水基坑結構的施工方法，其特征在于，所述步驟五中，在高壓灌漿時，在基坑圍護（1）外同時灌注防滲延伸層（21）。

10.根據權利要求8所述的一種地下室防水基坑結構的施工方法，其特征在于，所述步驟五中，注漿材料通過灌漿孔（201）從基坑頂部高壓注入到地下室加固防滲層（2）位置，所述灌漿孔（201）的開孔深度位于地下室底板下方2~4米，灌漿孔（201）內進行壓漿后在地下室的底部形成地下室加固防滲層（2）。