[發(fā)明專利]一種用于校準(zhǔn)不同示漏氣體真空漏孔漏率的系統(tǒng)及方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710251898.3
• 申請日: 2017-04-18
• 公開（公告）號: CN107036769B
• 公開（公告）日: 2019-01-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 葉小球;王維;陳長安;李芳芳;鐘博陽;饒詠初;楊蕊竹;李強;吳吉良;高濤
• 申請（專利權(quán)）人: 中國工程物理研究院材料研究所
• 主分類號: G01M3/20
• 分類號: G01M3/20;G01M3/26
• 代理公司: 成都眾恒智合專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51239
• 代理人: 王育信

1.一種用于校準(zhǔn)不同示漏氣體真空漏孔漏率的系統(tǒng)，其特征在于，包括氦質(zhì)譜檢漏儀(A)、標(biāo)準(zhǔn)容器(B)、氬氣氣源、待校準(zhǔn)真空漏孔(D)、示漏氣源、定容室(I)、渦旋分子泵(K)和渦輪機械泵(L)；所述渦旋分子泵和渦輪機械泵均通過第十閥門(10)與定容室的一端管道連接，所述定容室另一端依次通過第九閥門(9)和第三閥門(3)與標(biāo)準(zhǔn)容器管道連接；所述待校準(zhǔn)真空漏孔一端與示漏氣源管道連接，待校準(zhǔn)真空漏孔另一端依次通過第五閥門(5)和第四閥門(4)管道連接到第九閥門(9)與第三閥門(3)之間的管道上；所述氦質(zhì)譜檢漏儀通過第一閥門(1)管道連接到第五閥門與第四閥門之間的管道上，所述氬氣氣源通過第二閥門(2)管道連接到第五閥門與第四閥門之間的管道上；

所述待校準(zhǔn)真空漏孔與示漏氣源的連接管道上設(shè)有第一復(fù)合真空計(F)；所述定容室上設(shè)有一個薄膜電容規(guī)(H)，定容室與第十閥門的連接管道上設(shè)有第二復(fù)合真空計(J)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于校準(zhǔn)不同示漏氣體真空漏孔漏率的系統(tǒng)，其特征在于，所述氬氣氣源用于標(biāo)定定容室的容積，且該氬氣氣源為充滿氬氣的氬氣氣瓶(C)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于校準(zhǔn)不同示漏氣體真空漏孔漏率的系統(tǒng)，其特征在于，還包括一根調(diào)壓管道，所述調(diào)壓管道一端連接到待校準(zhǔn)真空漏孔(D)上與示漏氣源相連的一端，另一端連接到第十閥門(10)上、與渦輪機械泵(L)和渦旋分子泵(K)相連的一端；所述調(diào)壓管道上設(shè)有第八閥門(8)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于校準(zhǔn)不同示漏氣體真空漏孔漏率的系統(tǒng)，其特征在于，所述示漏氣源包括通過第六閥門(6)與待校準(zhǔn)真空漏孔(D)管道連接的氘氣氣瓶(E)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于校準(zhǔn)不同示漏氣體真空漏孔漏率的系統(tǒng)，其特征在于，所述示漏氣源包括通過第六閥門(6)與待校準(zhǔn)真空漏孔(D)管道連接的氘氣氣瓶(E)，以及通過第七閥門(7)與待校準(zhǔn)真空漏孔(D)管道連接的氦氣氣瓶(G)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種用于校準(zhǔn)不同示漏氣體真空漏孔漏率的系統(tǒng)，其特征在于，所述第一閥門(1)、第二閥門(2)、第三閥門(3)、第四閥門(4)、第五閥門(5)、第六閥門(6)、第七閥門(7)和第九閥門(9)均為全金屬超高真空角閥，所述第八閥門(8)和第十閥門(10)均為插板閥。