[發明專利]Nb2O5摻雜AZO的制備在審
| 申請號: | 201710250083.3 | 申請日: | 2017-04-17 |
| 公開(公告)號: | CN108727011A | 公開(公告)日: | 2018-11-02 |
| 發明(設計)人: | 尚福亮;王晨;肖超;董磊;朱佐祥;彭偉;高玲;楊海濤 | 申請(專利權)人: | 楊海濤 |
| 主分類號: | C04B35/453 | 分類號: | C04B35/453;C04B35/622;C04B35/64;C23C14/08;C23C14/34 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 透明導電氧化物材料 薄膜太陽能電池 材料制備技術 濺射鍍膜靶材 非金屬元素 充分混合 燒結 電阻率 成型 摻雜 應用 | ||
一種透明導電氧化物材料的制備。本發明屬于非金屬元素及其化合物。本發明公開了一種新的Nb?AZO材料制備技術。把(0.005?1at%)的Nb2O5、(0.5?5at%)的Al2O3與ZnO粉末經過充分混合、成型、燒結可制備出致密度超過99.4%,強度超過140MPa,電阻率小于9×10?4Ω·cm的Nb?AZO材料。這種Nb?AZO材料,可制成濺射鍍膜靶材,在顯示、薄膜太陽能電池、low?E玻璃等領域有極其廣泛的應用。
技術領域
本發明屬于無機非金屬元素及其化合物。
背景技術
AZO薄膜作為透明導電氧化物薄膜是一種被廣泛研究的功能材料。AZO透明導電膜性能穩定、制備簡單、成本低廉,是新一代透明導電膜,有可能替代昂貴的ITO,在薄膜,在平板顯示、太陽能電池、節能玻璃、智能玻璃等領域有廣泛的應用前景。
透明導電AZO薄膜的制備方法主要有:物理氣相沉積、化學氣相沉積、溶膠-凝膠等各種方法。由于物理氣相沉積制備的薄膜與基體的結合強度高、沉積效率高、工藝成熟穩定而被廣泛應用。而用物理氣相沉積制備薄膜需要使用高密度靶材,通過能量束轟擊靶材將其氣化,再沉積到基體表面形成透明導電膜。Nb2O5摻雜AZO能大幅度降低AZO靶材的燒結溫度,促進其燒結的致密化,提高靶材的密度、強度及導電性,從而提高鍍膜質量。
發明內容
本發明公開了一種Nb2O5摻雜AZO靶材的制備。把(0.005-1at%)的Nb2O5、(0.5-5at%)的Al2O3與ZnO粉末,按水:料比為3:1制成混合料漿,濕磨72h,干燥過篩,粉末預燒后加入5wt%的PEG-2000溶液,繼續濕磨2h后,干燥過篩,然后造粒、成型、燒結。在1100℃-1250℃溫度下燒結,可制備出致密度超過99.4%,強度超過140MPa, 電阻率小于9×10-4Ω·cm的Nb-AZO靶材,這種摻雜Nb-AZO靶材,可經濟、高效的制成各種復雜形狀。Nb-AZO透明導電薄膜有性能穩定、制備簡單、成本低廉等優勢,在光電學性能平板顯示領域得到了極其廣泛的應用,是新一代透明導電膜,最有可能替代昂貴的ITO,在薄膜太陽能電池和low-E玻璃等領域,正顯示出巨大的應用前景和市場,是一種被廣泛研究的功能材料。
本發明詳細研究并掌握了摻雜比、球磨參數、燒結溫度等對Nb-AZO燒結致密化過程的變化規律,從而可制備出高性能的燒結Nb-AZO材料。這種材料可經濟、高效的制成各種復雜形狀的產品,主要是濺射鍍膜用的靶材(包括平面靶和旋轉靶),也可用于制造多種導電零部件。
附圖說明
下面結合附圖對本發明作進一步說明:
附圖1: Nb-AZO材料的制備工藝流程圖。
下面結合附圖對本發明作進一步說明:
如附圖1所示,本發明的Nb-AZO粉體的制備工藝流程圖:先將Nb2O5、ZnO、Al2O3粉末和成型劑加入到球磨機中于水溶液中濕磨混合,充分混合均勻后,經干燥過篩得到充分混合的Nb-AZO粉體,
然后成型(干壓、冷等靜壓、注射成型等),得到生坯,經脫成型劑后,即可進行常壓燒結或氣壓燒結,得到高強度高密度的Nb摻雜AZO燒結材料。
本發明的優點在于用微量Nb2O5摻雜,即可大幅度降低Nb-AZO靶材的燒結溫度,提高Nb-AZO靶材致密度,通過對Nb-AZO粉體進行燒結,可制備出高性能燒結Nb摻雜AZO材料。
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