[發(fā)明專利]半導(dǎo)體級硅單晶爐主加熱器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710245370.5 | 申請日: | 2017-04-14 |
| 公開(公告)號: | CN107059111A | 公開(公告)日: | 2017-08-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 潘清躍;吳春生 | 申請(專利權(quán))人: | 南京晶能半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 主分類號: | C30B15/14 | 分類號: | C30B15/14;C30B29/06 |
| 代理公司: | 江蘇圣典律師事務(wù)所32237 | 代理人: | 楊文晰,孫忠浩 |
| 地址: | 210046 江蘇省南京市經(jīng)*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 級硅單晶爐主 加熱器 | ||
1.一種半導(dǎo)體級硅單晶爐的主加熱器,包括主發(fā)熱體、主加熱器腿、輔助支撐柱和連接螺栓,其特征在于:
主發(fā)熱體為筒狀結(jié)構(gòu),其筒壁設(shè)有由上而下的應(yīng)力緩沖槽和由下而上的應(yīng)力緩沖槽的應(yīng)力緩沖槽,它們均勻分布且相間設(shè)置,各應(yīng)力緩沖槽末端均設(shè)有應(yīng)力圓孔,主發(fā)熱體還對稱設(shè)有電接觸安裝面和一對輔助支撐安裝面,其中,一對電接觸安裝面相距180弧度,一對輔助支撐安裝面相距180弧度,電接觸安裝面與相鄰的輔助支撐安裝面相距90弧度;
兩個主加熱器腿上均設(shè)置有定位臺階、定位銷孔和三個連接螺栓孔,它們通過定位臺階和定位銷孔的定位銷與主發(fā)熱體的電接觸安裝面定位后,通過三個連接螺栓與電接觸安裝面緊固連接;
兩個圓柱形輔助支撐柱上均設(shè)置有定位臺階、定位銷孔和一個連接螺栓孔,它們通過定位臺階和定位銷孔的定位銷與輔助支撐安裝面定位后,通過一個連接螺栓與輔助支撐安裝面緊固連接;
兩個主加熱器腿分別主發(fā)熱體的直流電源的陽極和陰極輸入端。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體級硅單晶爐主加熱器,其特征在于:輔助支撐柱的圓柱形內(nèi)設(shè)置有盲孔,支撐柱絕熱子裝配于輔助支撐柱的盲孔中,輔助支撐柱的底端配有絕緣塊。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體級硅單晶爐主加熱器,其特征在于:所述的支撐柱絕熱子采用固化碳?xì)种谱鳎龅墓袒細(xì)中杞?jīng)高溫純化處理,其純度要求為20 ppm;所述的絕緣塊的材料為氮化硼。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體級硅單晶爐主加熱器,其特征在于:主加熱器腿與主發(fā)熱體的電接觸安裝面之間配有導(dǎo)電墊片。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體級硅單晶爐主加熱器,其特征在于:所述的導(dǎo)電墊片為石墨紙,所述的石墨紙需經(jīng)高溫純化處理,其純度為5 ppm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5之一所述的半導(dǎo)體級硅單晶爐主加熱器,其特征在于:所述的主發(fā)熱體、主加熱器腿、輔助支撐柱、連接螺栓和定位銷均采用高強度等靜壓石墨制作。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的半導(dǎo)體級硅單晶爐底部加熱器,其特征在于:所述的石墨需經(jīng)高溫純化處理,其純度要求為5 ppm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于南京晶能半導(dǎo)體科技有限公司,未經(jīng)南京晶能半導(dǎo)體科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710245370.5/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





