[發(fā)明專利]一種非接觸測量特征點(diǎn)的生成方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710245344.2 | 申請(qǐng)日： | 2017-04-14 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN107356209B | 公開（公告）日： | 2019-07-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 孟祥林;何萬濤;車向前;郭延艷;趙燦;周波 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 黑龍江科技大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | G01B11/24 | 分類號(hào)： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 深圳市智科友專利商標(biāo)事務(wù)所 44241 | 代理人： | 曲家彬 |
| 地址： | 150022 黑龍江*** | 國省代碼： | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 接觸 測量 特征 生成 方法 | ||
1.一種非接觸測量特征點(diǎn)的生成方法，其特征在于：該方法由以下步驟實(shí)現(xiàn)：
步驟1.將第一組激光光斑陣列投射到被測物表面的第一測量區(qū)域內(nèi)，同時(shí)將第二組激光光斑陣列投射與第一組激光光斑陣列相鄰區(qū)域上形成兩組具有近似尺寸和特征的激光光斑陣列，將每個(gè)激光光斑列為激光光斑特征點(diǎn)，第一測量區(qū)域內(nèi)的第一組激光光斑陣列與第二組激光光斑陣列中互相包含三個(gè)或三個(gè)以上非共線的激光光斑特征點(diǎn)；
步驟2.根據(jù)激光光斑分布位置不同，帶來的激光光斑圖像上的像點(diǎn)大小、形狀和灰度值的差異，根據(jù)SIFT算法，提取激光光斑特征點(diǎn)的中心，根據(jù)每個(gè)激光光斑特征點(diǎn)的位置、尺度以及方向信息，作為多個(gè)成像視角下唯一識(shí)別標(biāo)記；
步驟3.利用圓形約束算法，刪除步驟2中提取的激光光斑特征點(diǎn)算法的結(jié)果中，非激光光斑特征點(diǎn)的其他所有非法特征點(diǎn)，通過SIFT算法的特征匹配，完成激光光斑中心的同名點(diǎn)匹配；
步驟4.循環(huán)重復(fù)步驟1-3完成每次測量區(qū)域內(nèi)的測量特征點(diǎn)的生成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種非接觸測量特征點(diǎn)的生成方法，其特征在于：所述的激光光斑尺寸為5-15毫米的光斑特征。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種非接觸測量特征點(diǎn)的生成方法，其特征在于：所述的激光光斑的投影距離為8-10米。
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