[發明專利]頂發射有機電致發光顯示面板、其制作方法及顯示裝置

有效

• 申請號: 201710243869.2
• 申請日: 2017-04-14
• 公開（公告）號: CN106816558B
• 公開（公告）日: 2019-09-03
• 發明（設計）人: 王輝鋒
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 郭潤湘

1.一種頂發射有機電致發光顯示面板的制作方法，其特征在于，包括：

在襯底基板上依次形成多個膜層以構成表面具有多個凸起結構的薄膜晶體管；

在所述薄膜晶體管上形成平坦層；

根據平坦層各個位置的高度分布確定掩膜版中透光區域的透光率；

采用具有與多個所述凸起結構相匹配圖形的掩模板，對所述平坦層進行曝光、顯影工藝，以平坦化所述平坦層；

在所述薄膜晶體管上形成平坦層之后，還包括：

對所述平坦層進行曝光、顯影工藝，以在非顯示區域形成多個過孔；

平坦化所述平坦層的曝光、顯影工藝，與形成多個所述過孔的曝光、顯影工藝為同一次曝光、顯影工藝；其中，

所述曝光、顯影工藝采用的掩模板包括透光區域和非透光區域；

與所述凸起結構對應的透光區域和與所述過孔對應的透光區域的透光率不同。

2.如權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述平坦層的材料為正性光刻膠；

所述采用具有與多個所述凸起結構相匹配圖形的掩模板，對所述平坦層進行曝光、顯影工藝，以平坦化所述平坦層，具體包括：

采用具有與多個所述凸起結構相同圖形的掩模板，對所述平坦層進行曝光、顯影工藝，以平坦化所述平坦層。

3.如權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述平坦層的材料為負性光刻膠；

所述采用具有與多個所述凸起結構相匹配圖形的掩模板，對所述平坦層進行曝光、顯影工藝，以平坦化所述平坦層，具體包括：

采用具有與多個所述凸起結構互補圖形的掩模板，對所述平坦層進行曝光、顯影工藝，以平坦化所述平坦層。

4.如權利要求1-3任一項所述的制作方法，其特征在于，在所述采用具有與多個所述凸起結構相匹配圖形的掩模板，對所述平坦層進行曝光、顯影工藝，以平坦化所述平坦層之前，還包括：

測量各所述凸起結構的高度，根據各所述凸起結構的高度確定對所述平坦層進行曝光、顯影工藝的曝光量、曝光時間以及顯影時間。

5.如權利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述凸起結構的高度在10nm-1μm之間；

所述曝光量為10mJ/cm²-500mJ/cm²，所述曝光時間為30s-150s，所述顯影時間為10s-200s。

6.如權利要求1所述的制作方法，其特征在于，還包括：

對曝光、顯影工藝后的所述平坦層進行烘烤。

7.一種頂發射有機電致發光顯示面板，其特征在于，所述頂發射有機電致發光顯示面板采用如權利要求1-6任一項所述的制作方法制作。

8.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求7所述的頂發射有機電致發光顯示面板。