[發明專利]顯影液供應系統及顯影液填充方法

有效

• 申請號: 201710242987.1
• 申請日: 2017-04-14
• 公開（公告）號: CN108732873B
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發明（設計）人: 王忠誠
• 申請（專利權）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30;G03F7/32
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 馮志云;王芝艷

本公開提供一種顯影液填充方法，該方法包括在一第一預設時間內，將一顯影液填入一顯影液供應系統的儲存槽中。該方法還包括在接續第一預設時間的一第二預設時間內，停止將顯影液填入儲存槽中。該方法又包括判斷儲存槽是否被顯影液填滿，若否則重復執行上述等步驟。

技術領域

本發明實施例關于一種半導體制造技術，特別關于一種微影制程使用的顯影液供應系統以及將顯影液填充至顯影液供應系統的儲存槽中的方法。

背景技術

在半導體元件制造中，微影制程(lithography)扮演了相當重要的角色，其用于在晶片上形成所需的特定圖案。微影制程的基本步驟包括，形成光阻層于晶片表面上，刻印或曝光例如具特定電路布局的圖案于該光阻層上，以及通過供應顯影液至該光阻層上以去除該層的不需要的部分，進而能在晶片上形成所需的特定圖案。此外，在通過例如一噴灑裝置將顯影液供應至晶片的光阻層上之前，顯影液透過一連串的管路系統由廠務端被輸送至噴灑裝置的一儲存槽以進行暫存。

雖然現有的顯影液供應系統(包括管路系統及噴灑裝置)已可符合上述一般的目的，但仍無法滿足所有的方面。

發明內容

本公開的一目的在于提供一種微影制程使用的顯影液供應系統以及將顯影液填充至顯影液供應系統的儲存槽中的方法，可以減少輸送顯影液時其與管路系統因摩擦產生的靜電，進而避免管路系統受到靜電放電(electrostatic discharge，ESD)的火花的傷害。

本公開一些實施例提供一種顯影液填充方法，包括在一第一預設時間內，將一顯影液填入一顯影液供應系統的儲存槽中。該方法還包括在接續第一預設時間的一第二預設時間內，停止將顯影液填入儲存槽中。該方法又包括判斷該儲存槽是否被該顯影液填滿，若否則重復執行上述該等步驟。

本公開一些實施例提供一種顯影液填充方法，包括通過多次填充周期將一顯影液填入一顯影液供應系統的一儲存槽中，直到儲存槽被填滿為止。該方法還包括在相鄰的填充周期之間，停止將顯影液填入儲存槽中，且持續一預設時間。

本公開一些實施例提供一種顯影液供應系統，包括一噴灑裝置以及一控制裝置。噴灑裝置用于供應一顯影液至一晶片，且噴灑裝置具有一儲存槽，用于儲存顯影液。控制裝置用于控制顯影液通過多次填充周期被填入儲存槽中，直到儲存槽被填滿為止，以及用于控制顯影液在相鄰的填充周期之間被停止填入儲存槽中，且持續一預設時間。

附圖說明

圖1顯示根據一些實施例的在微影制程中供應顯影液至晶片上的方法示意圖。

圖2顯示根據一些實施例的一顯影液供應系統的方塊圖。

圖3顯示根據一些實施例的將一顯影液填充至儲存槽中的流程示意圖。

圖4A及4B顯示經由不同顯影液填充方法所量測到的穩壓閥表面的靜電電壓結果。

圖5顯示根據一些實施例的儲存單元所儲存的不同顯影液的第一、第二預設時間的查找表的部分。

圖6顯示根據另一些實施例的將一顯影液填充至儲存槽中的流程示意圖。

圖7顯示根據一些實施例的顯影液填充方法的流程圖。

【符號說明】

1～噴灑裝置；

2～管路系統；

3～控制裝置；

10～噴嘴；

11～旋轉臺；

12～晶片；

13～儲存槽；

14～管路；

15～開關閥；