[發(fā)明專利]液體噴射頭的清潔方法以及液體噴射裝置

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201710241011.2
• 申請日: 2017-04-13
• 公開（公告）號: CN107297953A
• 公開（公告）日: 2017-10-27
• 發(fā)明（設計）人: 綠川雄
• 申請（專利權）人: 精工電子打印科技有限公司
• 主分類號: B41J2/165
• 分類號: B41J2/165;B41J2/01
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 嚴志軍,傅永霄

1.一種液體噴射頭的清潔方法，其特征在于，

具有對具備容納液體的壓力室的液體噴射頭之中，與所述壓力室連通的噴射孔開口的噴射面，通過刮板單元進行吸引且拂拭的拂拭工序，

在所述拂拭工序中，進行在不從所述噴射孔噴射所述液體的范圍內使所述壓力室的壓力反復波動的搔觸。

2.根據權利要求1所述的液體噴射頭的清潔方法，其特征在于，

在所述拂拭工序之后，進行利用罩部件覆蓋所述噴射孔的第一罩工序。

3.根據權利要求2所述的液體噴射頭的清潔方法，其特征在于，

在所述第一罩工序中，進行所述搔觸。

4.根據權利要求1至權利要求3中的任一項所述的液體噴射頭的清潔方法，其特征在于，

在所述搔觸的開始前以及結束后中的至少任一時刻，進行通過所述噴射孔間歇地噴射液體的噴濺。

5. 根據權利要求1至權利要求3中的任一項所述的液體噴射頭的清潔方法，其特征在于，

在所述拂拭工序之前，具有

對所述壓力室加壓以從所述噴射孔連續(xù)地排出液體的吹洗工序，以及，

在所述吹洗工序之后，使罩部件抵接于所述噴射面以吸收附著于所述噴射面的液體的第二罩工序。

6.根據權利要求5所述的液體噴射頭的清潔方法，其特征在于，

在所述吹洗工序與所述第二罩工序之間，進行所述搔觸，

在所述搔觸的結束之后進行所述第二罩工序。

7. 一種液體噴射裝置，其特征在于，具備：

液體噴射頭，其具有容納液體的壓力室、以及使所述壓力室內的壓力波動的壓力波動機構，以及

刮板單元，其對所述液體噴射頭之中連通于所述壓力室的噴射孔開口的噴射面進行吸引且拂拭，

在利用所述刮板單元拂拭所述噴射面時，所述壓力波動機構進行在不從所述噴射孔噴射所述液體的范圍內使所述壓力室的壓力反復波動的搔觸。