[發(fā)明專利]缺陷檢查方法和缺陷檢查系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710240030.3 | 申請日: | 2017-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN107305190B | 公開(公告)日: | 2020-08-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 安藤雄太 | 申請(專利權(quán))人: | 東京威爾斯股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/88 | 分類號: | G01N21/88 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人: | 萬利軍;段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 缺陷 檢查 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種缺陷檢查方法,其特征在于,包括:
照明工序,將光照射到被檢查物的表面;
拍攝工序,對被檢查物的表面進行拍攝從而得到拍攝圖像;
配置工序,從拍攝圖像中提取出應(yīng)該檢測缺陷的缺陷分布區(qū)域和不需要檢測缺陷的噪聲分布區(qū)域,并將處于各區(qū)域的像素的顏色分量配置于將紅、綠和藍中的兩種顏色分量作為縱軸及橫軸的二維分布圖上;
分割工序,在二維分布圖上由分割直線將構(gòu)成缺陷分布區(qū)域的像素和構(gòu)成噪聲分布區(qū)域的像素分割開,該分割直線是利用基于圖像處理軟件的判別分析的統(tǒng)計、或與錯誤判斷相關(guān)的概率而決定的分割直線;
選拔工序,選拔出在二維分布圖上被分割直線分割開的兩個區(qū)域中的屬于位于缺陷分布區(qū)域側(cè)的區(qū)域的像素;
限定工序,將在選拔工序中選拔出的像素應(yīng)用到拍攝圖像中該像素原來所處的位置而生成限定拍攝圖像;以及
檢查執(zhí)行工序,使用限定拍攝圖像來執(zhí)行缺陷檢查。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢查方法,其特征在于,
光是白色光。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢查方法,其特征在于,
光是不同的兩種以上顏色的光。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢查方法,其特征在于,
光是不同顏色的第1色光、第2色光和第3色光。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的缺陷檢查方法,其特征在于,
第1色光、第2色光和第3色光分別是紅、綠和藍中的任意一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的缺陷檢查方法,其特征在于,
在照明工序中,對被檢查物照射第1色光、第2色光和第3色光的位置的高度不同。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢查方法,其特征在于,
在將二維分布圖的縱軸設(shè)為y、橫軸設(shè)為x且a和b設(shè)為實數(shù)時,分割直線由一次式y(tǒng)=ax+b表示。
8.一種缺陷檢查系統(tǒng),其特征在于,具備:
照明裝置,將光照射到被檢查物的表面;
拍攝裝置,對被檢查物的表面進行拍攝從而得到拍攝圖像;以及
缺陷檢查裝置,對來自拍攝裝置的拍攝圖像實施圖像處理來進行缺陷檢查,
缺陷檢查裝置具備:
配置部,從拍攝圖像中提取出應(yīng)該檢測缺陷的缺陷分布區(qū)域和不需要檢測缺陷的噪聲分布區(qū)域,并將處于各區(qū)域的像素的顏色分量配置于將紅、綠和藍中的兩種顏色分量作為縱軸及橫軸的二維分布圖上;
分割部,在二維分布圖上通過分割直線將構(gòu)成缺陷分布區(qū)域的像素和構(gòu)成噪聲分布區(qū)域的像素分割開,該分割直線是利用基于圖像處理軟件的判別分析的統(tǒng)計、或與錯誤判斷相關(guān)的概率而決定的分割直線;
選拔部,選拔出在二維分布圖上被分割直線分割開的兩個區(qū)域中的屬于位于缺陷分布區(qū)域側(cè)的區(qū)域的像素;
限定部,將在選拔工序中選拔出的像素應(yīng)用到拍攝圖像中該像素原來所處的位置而生成限定拍攝圖像;以及
檢查執(zhí)行部,使用限定拍攝圖像來執(zhí)行缺陷檢查。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的缺陷檢查系統(tǒng),其特征在于,
光是白色光。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的缺陷檢查系統(tǒng),其特征在于,
光是不同的兩種以上顏色的光。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的缺陷檢查系統(tǒng),其特征在于,
光是不同顏色的第1色光、第2色光和第3色光。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的缺陷檢查系統(tǒng),其特征在于,
第1色光、第2色光和第3色光分別是紅、綠和藍中的任意一種。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的缺陷檢查系統(tǒng),其特征在于,
在照明工序中,對被檢查物照射第1色光、第2色光和第3色光的位置的高度不同。
14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的缺陷檢查系統(tǒng),其特征在于,
在將二維分布圖的縱軸設(shè)為y、橫軸設(shè)為x且a和b設(shè)為實數(shù)時,分割直線由一次式y(tǒng)=ax+b表示。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





