[發(fā)明專利]溶劑分離方法以及裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710238181.5
• 申請(qǐng)日: 2017-04-12
• 公開（公告）號(hào): CN107457079B
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宇治野智大;永井耕一;日野直文
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): B03C3/40
• 分類號(hào): B03C3/40;B03C3/38;B03C3/34;F27D17/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 齊秀鳳

本發(fā)明提供一種對(duì)于已汽化的溶劑既能抑制其與電極接觸又能在由電場(chǎng)吸引的同時(shí)使其集中于溶劑分離部?jī)?nèi)的單側(cè)來(lái)分離后排出的溶劑分離方法以及裝置。對(duì)于四角型筒狀的溶劑分離部(103)的兩側(cè)的第1電極(116)和第2電極(117)，交替地施加如溶劑(114)被吸引至各個(gè)第2電極(117)側(cè)的電場(chǎng)(120、130)，由此使排氣氛圍氣體(108)中的已汽化的溶劑(114)在振動(dòng)運(yùn)動(dòng)的同時(shí)集中于溶劑分離部(103)內(nèi)的一對(duì)第2電極(117)間的空間，將該溶劑(114)與周邊的一部分排氣氛圍氣體一起排出至分離裝置外。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及從包含已汽化的溶劑的氣體之中除去溶劑來(lái)凈化的溶劑分離方法以及裝置。

背景技術(shù)

近年來(lái)，在各種工業(yè)產(chǎn)品或家電的組裝制造工序、或成為這些產(chǎn)品的構(gòu)成部件的各種電子部件、各種電池、或者基板等的設(shè)備制造工序中，也在涂敷了具有各種功能的膏狀的材料之后，通過(guò)各種熱處理裝置來(lái)進(jìn)行加熱處理。在此，各種熱處理裝置例如有干燥爐、燒成爐、固化爐、或在電子部件的安裝工序等中用于焊接的回流焊爐等。在各自的膏狀的材料中，除了最終產(chǎn)品所需的固體成分等之外，為了將它們涂于各種基板或者基材等，還根據(jù)各自的目的或者需要而混入水或者有機(jī)溶劑等各種溶劑來(lái)實(shí)施粘度調(diào)整或者性能調(diào)整。

這些溶劑在熱處理裝置中的加熱工序之中，經(jīng)由汽化以及脫溶劑的工序，從膏狀的材料釋放到裝置內(nèi)。由此，在連續(xù)性地實(shí)施加熱處理的情況下，在裝置內(nèi)溶劑連續(xù)性地汽化并釋放，其結(jié)果，裝置內(nèi)氛圍氣體中的溶劑濃度上升，有可能導(dǎo)致各種不良狀況。例如，隨著裝置內(nèi)氛圍氣體中的溶劑濃度變高而裝置內(nèi)溫度下的氛圍氣體中能夠存在的溶劑的量接近飽和狀態(tài)，從而難以實(shí)現(xiàn)熱處理對(duì)象物的干燥，或者，在是具有爆炸性的溶劑的情況下，即便未達(dá)到飽和蒸汽壓，也有可能會(huì)超過(guò)汽化溶劑濃度的爆炸界限。因而，需要從裝置外向裝置內(nèi)定期或者連續(xù)地供給外部氣體，或者在需要氮?dú)饣蚱渌諊鷼怏w(氛圍氣的氣體)的情況下，需要從裝置外供給這些氛圍氣體。進(jìn)而，同時(shí)采用將溶劑濃度上升后的裝置內(nèi)的氛圍氣體釋放到裝置外的機(jī)構(gòu)。

圖8是說(shuō)明氛圍氣體的供給和排氣的圖。通過(guò)送風(fēng)鼓風(fēng)機(jī)2向熱處理裝置1的內(nèi)部供給外部氣體。通過(guò)排氣鼓風(fēng)機(jī)3將包括在熱處理裝置1內(nèi)汽化的溶劑的熱處理裝置1內(nèi)的氛圍氣體的一部分排出到裝置外。包含在排氣中且已汽化的溶劑除去方式例如已知有專利文獻(xiàn)1的方式。

圖9是專利文獻(xiàn)1的簡(jiǎn)要構(gòu)成圖。專利文獻(xiàn)1中公開的構(gòu)成是如下的構(gòu)成。在溶劑分離部4的第1壁面5a設(shè)置有電極6，能夠從電壓施加裝置7施加電壓。此外，關(guān)于與第1壁面5a相對(duì)的第2壁面5b，與電極6絕緣且被接地。而且，溶劑分離部4的出口側(cè)構(gòu)成為分支成第1排氣導(dǎo)管8和第2排氣導(dǎo)管9，第1排氣導(dǎo)管8配置為在第1壁面5a延伸。通過(guò)如此構(gòu)成，從而第2壁面5b和與第2壁面5b對(duì)置的第1壁面5a配置的電極6之間產(chǎn)生電位差，在溶劑分離部4內(nèi)產(chǎn)生電場(chǎng)10。由此，若從熱處理裝置1排出并供給到溶劑分離部4內(nèi)的排氣氛圍氣體12中包含的溶劑11到達(dá)電場(chǎng)10的影響區(qū)域內(nèi)，則通過(guò)靜電吸引而朝著電極6的方向被吸引。由此，包括集中于電極6側(cè)的溶劑11的第1排氣氛圍氣體13從第1排氣導(dǎo)管8排出，另一方面，不含溶劑11的被凈化的第2排氣氛圍氣體14從第2排氣導(dǎo)管9排出。

在先技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2015-142898號(hào)公報(bào)

然而，在上述專利文獻(xiàn)1的構(gòu)成中，由于在一個(gè)方向上施加電場(chǎng)，因此溶劑會(huì)與電極接觸而不從溶劑分離部?jī)?nèi)排出，從而會(huì)污染電極。若電極的污染發(fā)展下去，則會(huì)導(dǎo)致溶劑的捕獲效率下降，因此需要定期地實(shí)施電極的維護(hù)。

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的課題

本發(fā)明鑒于上述點(diǎn)，其目的在于，提供一種對(duì)于已汽化的溶劑既能抑制其與電極接觸又能在由電場(chǎng)吸引的同時(shí)使其集中于溶劑分離部?jī)?nèi)的單側(cè)來(lái)分離后排出的溶劑分離方法以及裝置。

用于解決課題的手段