[發明專利]自動補水式納米水離子發生裝置及方法

在審

• 申請號: 201710238071.9
• 申請日: 2017-04-10
• 公開（公告）號: CN106936073A
• 公開（公告）日: 2017-07-07
• 發明（設計）人: 唐峰;姜峰;周琪;陳海波
• 申請（專利權）人: 杭州大湛機電科技有限公司
• 主分類號: H01T23/00
• 分類號: H01T23/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種自動補水式納米水離子發生裝置，包括補水裝置和納米水離子發生裝置，其特征在于：

所述補水裝置包括連通器；

所述連通器兩端分別設置納米水離子發生裝置和補水箱(13)；

所述補水箱(13)上設置有自動排液機構。

2.按照權利要求1所述的一種自動補水式納米水離子發生裝置，其特征在于：所述自動排液機構為水箱蓋(14)；

所述補水箱(13)通過水箱蓋(14)密封后倒扣在連通器一端形成的水箱槽(12)內；

所述水箱蓋(14)包括供水密封板(141)、彈簧(142)、蓋子密封件(143)和蓋子銷(144)；

所述供水密封板(141)上設置有出水通道；

所述蓋子銷(144)的上端設置有直徑大于出水通道的蓋子密封件(143)；

所述蓋子銷(144)上套裝彈簧(142)，所述彈簧(142)的一段抵住蓋子銷(144)下端的凸起，所述彈簧(142)的另外一端抵住供水密封板(141)的下側面；

所述蓋子銷(144)的下端設置有位置固定的補水棒(15)。

3.按照權利要求2所述的一種自動補水式納米水離子發生裝置，其特征在于：所述納米水離子發生裝置包括分別與高壓放電模塊(8)電連接的放電電極(6)和對置電極(10)；

所述放電電極(6)的外側面設置有吸水件(7)，其通過固定件(5)固定在連通器另外一端形成的供水槽(4)內；

所述固定件(5)低于連通器內液位線所在的水平面。

4.按照權利要求3所述的一種自動補水式納米水離子發生裝置，其特征在于：所述供水槽(4)上端設置有擋水蓋板(9)；

所述放電電極(6)的上端貫穿擋水蓋板(9)；

所述擋水蓋板(9)的位置高于連通器內液位線所在的水平面。

5.按照權利要求4所述的一種自動補水式納米水離子發生裝置，其特征在于：所述放電電極(6)和對置電極(10)設置在風道系統內。

6.按照權利要求5所述的一種自動補水式納米水離子發生裝置，其特征在于：所述風道系統包括殼體(2)；

所述殼體(2)內設置有貫穿殼體(2)側壁的進風口(16)，所述進風口(16)上設置有風機(1)；

相對于該進風口(16)，在殼體(2)內設置有貫穿殼體(2)側壁的出風口(11)；

所述進風口(16)和出風口(11)之間的空間構成風道；

所述補水棒(15)的下端與殼體(2)的底端相互固定。

7.按照權利要求6所述的一種自動補水式納米水離子發生裝置，其特征在于：所述對置電極(10)采用環狀設計，設置在放電電極(6)的正上方，所述對置電極(10)的圓心在放電電極(6)的中心線上。

8.按照權利要求7所述的一種自動補水式納米水離子發生裝置，其特征在于：所述吸水件(7)為吸水性材料制成；

所述擋水蓋板(9)采用絕緣材料制成；

所述放電電極(6)和對置電極(10)均采用導電材料制成。

9.基于權利要求1所述的一種自動補水式納米水離子發生方法，其特征在于：包括補水步驟和納米水離子發生步驟；

所述自動補水步驟如下：

內置液體的補水箱(13)以水箱蓋(14)密封后，倒置放入水箱槽(12)內；

補水棒(15)抵住蓋子銷(144)的下端，蓋子密封件(143)與出水通道的密封狀態解除；

放電電極(6)通過吸水件(7)吸附供水槽(4)內的水分；

隨著放電電極(6)制造納米水離子不斷消耗水分，供水槽(4)內的液位線從初始狀態開始下降，帶動水箱槽(12)內的液位線下降；

空氣通過水箱槽(12)與補水箱(13)之間的空隙進入，并進入補水箱(13)內，將內置的液體排出；

水箱槽(12)的液位線回復到初始狀態，蓋子密封件(143)與出水通道之間重新完成密封。

10.基于權利要求9所述的一種自動補水式納米水離子發生方法，其特征在于：所述納米水離子發生方法步驟如下：

高壓放電模塊(8)，對放電電極(6)和對置電極(10)之間施加高壓電，驅動放電電極(6)放電，放電電極(6)表面的水向著對置電極(10)的方向凸起而形成泰勒錐，隨著泰勒錐電荷密度的增加，放電電極(6)尖端的水被分解生成納米粒徑的帶電水粒子。