[發明專利]共軛高分子熒光材料在指紋顯現中的應用及指紋顯現方法在審
| 申請號: | 201710237738.3 | 申請日: | 2017-04-12 |
| 公開(公告)號: | CN107049332A | 公開(公告)日: | 2017-08-18 |
| 發明(設計)人: | 范麗娟;陳紅;馬榮梁 | 申請(專利權)人: | 蘇州大學 |
| 主分類號: | A61B5/1172 | 分類號: | A61B5/1172;C08J3/03;C08L65/00 |
| 代理公司: | 蘇州創元專利商標事務所有限公司32103 | 代理人: | 陶海鋒 |
| 地址: | 215123 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 共軛 高分子 熒光 材料 指紋 顯現 中的 應用 方法 | ||
1.一種共軛高分子熒光材料在指紋顯現中的應用,所述共軛高分子熒光材料為聚對亞苯基亞乙烯共軛高分子熒光納米粒子膠體溶液,共軛高分子熒光納米粒子的結構式為:
其中,n和x為正整數,x為聚合物的有效共軛單元的個數,n為聚合物的重復單元數,且1≤x ≤n,70 ≤n。
2.一種共軛高分子熒光材料用作指紋顯現的方法,將負載有指紋的客體采用502膠水熏顯法,得到指紋樣本;以聚對亞苯基亞乙烯共軛高分子熒光納米粒子膠體溶液為顯影劑,將顯影劑涂抹于指紋樣本上,自然晾干后,在激發波長為330~400 nm的條件下,記錄得到顯現后的指紋圖像信息。
3.根據權利要求2所述的一種共軛高分子熒光材料用作指紋顯現的方法,其特征在于:激發波長為365 nm。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于蘇州大學,未經蘇州大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710237738.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





