[發(fā)明專利]產線內晶粒大小監(jiān)控設備及晶粒大小監(jiān)控方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710237322.1
• 申請日: 2017-04-12
• 公開（公告）號: CN107039315B
• 公開（公告）日: 2019-11-08
• 發(fā)明（設計）人: 孟林
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/66
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所 44265
• 代理人: 林才桂

1.一種產線內晶粒大小監(jiān)控設備，其特征在于，包括：工作腔(1)、第一傳動裝置(2)、掃描電子顯微鏡(3)、處理液滴定裝置(4)、第二傳動裝置(5)、基板支撐柱(6)、供氣裝置(7)、分子泵(8)、以及真空泵(9)；

所述第一傳動裝置(2)與所述掃描電子顯微鏡(3)和處理液滴定裝置(4)相連，所述掃描電子顯微鏡(3)和處理液滴定裝置(4)均設于所述工作腔(1)的頂部，所述第二傳動裝置(5)和基板支撐柱(6)均設于所述工作腔(1)的底部，所述供氣裝置(7)和分子泵(8)均與所述工作腔(1)連通，所述真空泵(9)與所述分子泵(8)串聯(lián)；

所述第一傳動裝置(2)用于帶動所述掃描電子顯微鏡(3)和處理液滴定裝置(4)移動，所述處理液滴定裝置(4)用于向待檢測的陣列基板(12)滴加處理液，所述掃描電子顯微鏡(3)用于拍攝待檢測的陣列基板(12)的晶界畫面，所述第二傳動裝置(5)用于傳輸待檢測的陣列基板(12)，所述基板支撐柱(6)用于支撐待檢測的陣列基板(12)和對待檢測的陣列基板(12)進行加熱，所述供氣裝置(7)用于向所述工作腔(1)內通入保護氣體，所述分子泵(8)用于處理蒸發(fā)后的處理液，所述真空泵(9)用于對工作腔(1)進行抽真空。

2.如權利要求1所述的產線內晶粒大小監(jiān)控設備，其特征在于，所述掃描電子顯微鏡(3)包括：電磁透鏡(31)、以及與所述電磁透鏡(31)相連的電子發(fā)生裝置(32)。

3.如權利要求1所述的產線內晶粒大小監(jiān)控設備，其特征在于，還包括：連接于所述工作腔(1)和供氣裝置(7)之間的供氣管路(71)上的用于監(jiān)測保護氣體流速的流速測定裝置(10)。

4.如權利要求1所述的產線內晶粒大小監(jiān)控設備，其特征在于，還包括：設于所述工作腔(1)內的用于監(jiān)測工作腔(1)內氣壓的氣壓監(jiān)控裝置(11)。

5.如權利要求1所述的產線內晶粒大小監(jiān)控設備，其特征在于，所述基板支撐柱(6)中設有熱氣管(61)，通過向所述熱氣管(61)通入熱氣實現(xiàn)所述基板支撐柱(6)的加熱功能；或者所述基板支撐柱(6)的頂部設有電加熱設備(62)，通過所述電加熱設備(62)實現(xiàn)所述基板支撐柱(6)的加熱功能。