[發明專利]針對低幅度構造畸變的速度校正方法有效
| 申請號: | 201710237118.X | 申請日: | 2017-04-12 |
| 公開(公告)號: | CN107688200B | 公開(公告)日: | 2019-09-03 |
| 發明(設計)人: | 劉玉娟;李梅;邱津;張志讓;張夢縈 | 申請(專利權)人: | 恒泰艾普集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G01V1/36 | 分類號: | G01V1/36 |
| 代理公司: | 北京中企鴻陽知識產權代理事務所(普通合伙) 11487 | 代理人: | 郭鴻雁 |
| 地址: | 100094 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 針對 幅度 構造 畸變 速度 校正 方法 | ||
本發明提出了一種針對低幅度構造畸變的速度校正方法,包括:根據井上精確的時深標定關系和處理得到的疊加速度構建初始的空變速度場;通過對井上實測速度曲線的分析,通過敏感地震屬性的優選勾勒高速含鈣砂巖異常體的平面分布邊界;進行純砂巖段速度和含鈣后整體巖性速度的統計;擬合構建高速含鈣砂巖校正量隨時間的變化關系的速度校正關系式;利用擬合的速度校正關系式得到相應的速度校正量體,與初始的空變速度場相結合得到異常體范圍內的校正后的速度場;對初始的空變速度場進行相應異常體范圍內的速度替換,形成高速含鈣砂巖異常速度校正后的空變速度場。本發明解決了因特殊速度體存在導致的低幅度構造特征不真實的現象。
技術領域
本發明涉及HSE管理技術領域,特別涉及一種針對低幅度構造畸變的速度校正方法。
背景技術
低幅度構造,即在地震資料上表現為反射同相軸平直而變化幅度很小,一般在幾米到幾十米左右。在低幅度構造主體部位上實施的兩口鉆井A和B,對同一目的層頂部,在時間剖面上A井的時間小于B井(即,理論上該目的層頂部在A井的實鉆深度要淺于B井),如果在A井附近出現局部速度異常(砂巖儲層內出現含鈣砂巖,含鈣砂巖速度高于砂巖速度),將造成下伏構造形態產生畸變,出現B井實鉆深度要小于A井的反轉現象,這種速度異常引起的構造畸變尤其對低幅度構造的影響是非常大的。
基于地震剖面解釋得到的構造圖屬于時間域,新鉆井用到的構造圖實為深度域,這就需要構建精細的速度場將時間域構造轉成深度域構造。準確的速度求取,一直是勘探和開發的核心問題。最常用的速度場構建信息來源于井上時深標定關系以及地震處理得到的層速度。
如果速度異常體分布范圍較廣,在常規的地震速度分析中就能識別,能夠通過地震資料得出大致的速度異常體的平面分布范圍。但往往這種特殊的速度異常體在空間上局部發育,呈現橫向上延展范圍小,縱向上厚度薄的特點。受限于地震速度的分辨率,這種異常體是很難在地震資料處理過程中識別出來。與地震資料相比,井上速度信息分辨率高,能夠較好的指示出井點處速度異常體的縱向分布,但缺乏速度異常體平面展布的認識。因此可看出,地震資料和井資料在識別異常體上各有優缺點,單憑任一資料都很難相對準確的勾勒出速度異常體的空間展布。
井震結合構建速度場技術,即以井上標定的速度為硬數據控制,以地震處理得到的平均速度(層速度經DIX公式轉換)為軟數據作為橫向趨勢約束,該技術較傳統的單純基于井上速度和基于地震速度的構建方法在準確度上有了較大的提高。該方法在地下構造相對簡單、地層橫向速度變化不大的情況下能夠很好的滿足勘探和開發的需求,但在發育特殊地質體而導致的速度橫向變化,尤其對低幅度構造地區,該方法仍具有一定的缺陷。因為,在實際地震資料處理中,拾取的速度譜在橫、縱向上一般間隔較大,難以反映疊加速度的橫向變化細節。即便是采用縮小速度譜間隔的方法,盡管橫向分辨率有所提高,但缺乏針對性,也會產生大量的工作量。
發明內容
本發明的目的旨在至少解決所述技術缺陷之一。
為此,本發明的目的在于提出一種針對低幅度構造畸變的速度校正方法,解決因特殊速度體存在導致的低幅度構造特征不真實的現象。
為了實現上述目的,本發明的實施例提供一種針對低幅度構造畸變的速度校正方法,包括如下步驟:
步驟S101,根據井上精確的時深標定關系和處理得到的疊加速度構建初始的空變速度場,其中,所述初始的空變速度場包括:井上高縱向分辨精度和地震橫向分辨率;
步驟S102,通過對井上實測速度曲線的分析,確定高速含鈣砂巖異常體在縱向上發育的層段及個數,獲取含鈣砂巖體對應的地震反射特征,并通過敏感地震屬性勾勒高速含鈣砂巖異常體的平面分布邊界;
步驟S103,以井上的實測速度曲線為分析對象,針對整套目的層選取多個含鈣砂巖發育段,進行純砂巖段速度和含鈣后整體巖性速度的統計;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于恒泰艾普集團股份有限公司,未經恒泰艾普集團股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710237118.X/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種激光測距裝置及其測距方法
- 下一篇:一種地敏機





