[發明專利]上電極裝置在審
| 申請號: | 201710236523.X | 申請日: | 2017-04-12 |
| 公開(公告)號: | CN107546092A | 公開(公告)日: | 2018-01-05 |
| 發明(設計)人: | 周峙丞 | 申請(專利權)人: | 周業投資股份有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/04 | 分類號: | H01J37/04;H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京泰吉知識產權代理有限公司11355 | 代理人: | 張雅軍,史瞳 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電極 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種蝕刻設備的組件,特別是涉及一種用于電漿蝕刻的上電極裝置。
背景技術
參閱圖1及圖2,一種現有的上電極裝置,適于設置在一個反應槽體100上,并位于一個下電極101的上方,且適用于進行電漿蝕刻。該上電極裝置包括一個電極板11,以及數個穿設在該電極板11中的陶瓷管12。該電極板11包括一個界定出數個連通于頂面及底面間的貫孔131的電極本體13。所述貫孔131沿兩個彼此垂直的方向,如圖1所示地間隔排列成數排及數列。每一陶瓷管12插設在相對應的貫孔131中。所述陶瓷管12能保護該電極本體13界定出所述貫孔131的部位,避免該電極本體13界定出所述貫孔131的部位受到電漿侵蝕而損壞,使所述貫孔131的寬度不會變大,而不會有所謂的擴孔現像。所述陶瓷管12如經久使用而有所損耗,也僅需要更換所述陶瓷管12即可,不用更換該電極本體13,因此能提高維修便利性及降低維護成本。雖然此種上電極裝置具有如前所述的諸多優點,但其蝕刻能力卻有待進一步地提升。
發明內容
本發明的目的,在于提供一種上電極裝置,具有較佳的蝕刻效果。
本發明上電極裝置,包含一個電極板,以及數個設置在該電極板的陶瓷管,該電極板包括一個界定出彼此間隔的數個第一貫孔與數個第二貫孔的電極本體,所述陶瓷管呈管狀并設置在所述第一貫孔中,該上電極裝置還包含數個設置在所述第二貫孔中并分別封閉所述第二貫孔的陶瓷塊。
本發明所述的上電極裝置,該電極本體具有一個位于中間的中間部,以及一個圍繞連接該中間部外圍的外圍部,該中間部界定出所述第一貫孔,該外圍部界定出所述第二貫孔。
本發明所述的上電極裝置,每一第一貫孔設置有一個對應的該陶瓷管,每一第二貫孔設置有一個對應的該陶瓷塊。
本發明所述的上電極裝置,以所述第一貫孔與所述第二貫孔的總數量為100%,所述第二貫孔的數量占40%~90%。
本發明所述的上電極裝置,該電極本體具有一個位于中間的中間部,以及一個圍繞連接該中間部外圍的外圍部,該中間部界定出所述第一貫孔,該外圍部界定出所述第二貫孔,以所述第一貫孔與所述第二貫孔的總數量為100%,所述第二貫孔的數量占40%~90%,每一第一貫孔設置有一個對應的該陶瓷管,每一第二貫孔設置有一個對應的該陶瓷塊。
本發明所述的上電極裝置,所述第一貫孔數個為一組地分成數組,數組的所述第一貫孔沿一個第一方向排成數排,每一組的所述第一貫孔沿一個不同于該第一方向的第二方向彼此間隔排列成一排,所述第二貫孔數個為一群地分為兩群,兩群的所述第二貫孔分別位于所述第一貫孔的兩相反側,每一群的所述第二貫孔數個為一組地分為數組,每一群的數組所述第二貫孔,沿該第一方向排成數排,每一組的所述第二貫孔,沿該第二方向彼此間隔排列成一排。
本發明所述的上電極裝置,該第一方向與該第二方向垂直。
本發明所述的上電極裝置,所述第一貫孔與所述第二貫孔彼此垂直交錯間隔排列。
本發明所述的上電極裝置,所述第一貫孔數個為一組地間隔排列,所述第二貫孔數個為一組地間隔排列,數組的所述第一貫孔與數組的所述第二貫孔彼此交錯設置。
本發明所述的上電極裝置,所述第一貫孔是數個為一組地排成一個方陣,每一方陣中的所述第一貫孔彼此垂直間隔排列,所述第二貫孔數個為一組地排成一個方陣,每一方陣中的所述第二貫孔彼此垂直間隔排列。
該上電極裝置的功效在于:所述陶瓷塊封閉了所述第二貫孔,使得該電極本體能供蝕刻氣體流動的孔洞數目變少,在相同的氣體流量下,因流經所述第一貫孔的蝕刻氣體的流速加快,沖擊待蝕刻物的力道加強,而具有較佳的蝕刻效果。
附圖說明
本發明其他的特征及功效,將于參照圖式的實施方式中清楚地呈現,其中:
圖1是一個現有的上電極裝置的一個部分分解的立體分解圖,圖中分解示意數個陶瓷管的其中一個;
圖2是該現有的上電極裝置安裝于一個反應槽體且部分組件剖切的一個局部剖視圖;
圖3是本發明上電極裝置的一個第一實施例的一個部分分解的立體分解圖,圖中分解示意數個陶瓷管的其中一個及數個陶瓷塊的其中一個;
圖4是該第一實施例安裝于一個反應槽體且部分組件剖切的一個局部剖視圖;
圖5是本發明上電極裝置的一個第二實施例的一個部分分解的立體分解圖,圖中分解示意所述陶瓷管的其中一個及所述陶瓷塊的其中一個;
圖6是該第二實施例安裝于一個反應槽體且部分組件剖切的一個局部剖視圖;
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