[發明專利]反應腔室的進氣機構、反應腔室及外延生長設備

在審

• 申請號: 201710233212.8
• 申請日: 2017-04-11
• 公開（公告）號: CN108691008A
• 公開（公告）日: 2018-10-23
• 發明（設計）人: 袁福順
• 申請（專利權）人: 北京北方華創微電子裝備有限公司
• 主分類號: C30B25/14
• 分類號: C30B25/14;C30B25/08;C23C16/455
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;張天舒

1.一種反應腔室的進氣機構，其特征在于，包括進氣腔體和勻流板，所述進氣腔體包括朝向所述反應腔室的進氣端面，所述勻流板設置在所述進氣腔體的進氣端面上；

在所述進氣腔體中形成有沿水平方向依次排列的多個進氣腔，每個進氣腔均延伸至所述進氣端面；并且，在所述進氣腔體中還設置有多個進氣管路，所述多個進氣管路的出氣端一一對應地與所述多個進氣腔連通；所述多個進氣管路的進氣端延伸至所述進氣腔體的外部；

在所述勻流板中設置有多組進氣孔組，每個所述進氣腔對應一組所述進氣孔組，并且每組所述進氣孔組包括多個進氣孔，所述進氣孔的進氣端和所述進氣腔連通，所述進氣孔的出氣端與所述反應腔室相連通。

2.根據權利要求1所述的反應腔室的進氣機構，其特征在于，所述進氣腔為三個，分別為中心進氣腔和位于該中心進氣腔兩側的兩個邊緣進氣腔；其中，

所述中心進氣腔與所述反應腔室的中心區域相對應；

所述兩個邊緣進氣腔分別與所述反應腔室的位于所述中心區域兩側的邊緣區域相對應。

3.根據權利要求2所述的反應腔室的進氣機構，其特征在于，所述進氣管路為三個，分別為中心進氣管路和兩個邊緣進氣管路，其中，

所述中心進氣管路位于所述中心進氣腔的下方，且所述中心進氣管路的出氣端與所述中心進氣腔連通，所述中心進氣管路的進氣端豎直向下延伸至所述進氣腔體的外部；

所述兩個邊緣進氣管路分別位于所述兩個邊緣進氣腔的背離所述進氣端面的一側，且所述兩個邊緣進氣管路的出氣端分別與所述兩個邊緣進氣腔連通，每個所述邊緣進氣管路的進氣端延伸至所述進氣腔體的外部。

4.根據權利要求3所述的反應腔室的進氣機構，其特征在于，在所述進氣腔體中還設置有兩條直線通道，所述兩條直線通道分別位于兩個所述邊緣進氣腔的上方，且每條直線通道沿水平方向延伸；

每條直線通道具有入口和出口，所述入口朝向遠離所述進氣端面的方向延伸，并與所述邊緣進氣管路的出氣端連通，所述出口豎直向下延伸，并與所述邊緣進氣腔連通。

5.根據權利要求4所述的反應腔室的進氣機構，其特征在于，所述入口位于靠近所述進氣端面的中心的位置處；所述出口位于靠近所述邊緣進氣腔的中心的位置處。

6.根據權利要求4所述的反應腔室的進氣機構，其特征在于，每組進氣孔組中的多個所述進氣孔沿所述水平方向依次排列，且相對于與該進氣孔組對應的進氣腔均勻分布。

7.根據權利要求1所述的反應腔室的進氣機構，其特征在于，每個所述進氣孔的橫截面形狀包括圓形、橢圓形或者長圓形。

8.根據權利要求1所述的反應腔室的進氣機構，其特征在于，所述勻流板所采用的材料包括石英或者碳化硅。

9.一種反應腔室，其包括反應腔和設置在所述反應腔一側的進氣機構，其特征在于，所述進氣機構采用權利要求1-8任意一項所述的進氣機構。

10.一種外延生長設備，其特征在于，包括權利要求9所述的反應腔室。