[發明專利]包括回旋環的等離子體電弧切割系統和有關運行方法

有效

• 申請號: 201710232507.3
• 申請日: 2017-04-11
• 公開（公告）號: CN107454730B
• 公開（公告）日: 2020-03-03
• 發明（設計）人: J.彼得斯
• 申請（專利權）人: 海別得公司
• 主分類號: H05H1/28
• 分類號: H05H1/28;H05H1/34;B23K10/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 楊忠;鄧雪萌

1.一種用于液體冷卻式等離子體電弧噴槍的等離子氣體回旋環，所述回旋環包括：

空心本體，其具有遠側端、近側端、由內表面限定的內部區域和外表面，所述本體的所述遠側端和所述近側端限定延伸通過其中的縱向軸線，其中，所述本體的所述內部區域構造成接收所述等離子體電弧噴槍的電極；

設置在所述本體的所述近側端的一部分內的第一開口，所述第一開口構造成提供從所述本體的所述內部區域到所述外表面的流體連通；

圍繞所述本體的中心部分設置的第二開口，所述第二開口構造成提供從所述本體的所述外表面到所述內部區域的流體連通;以及

第三開口，其包括設置在所述本體的所述遠側端的一部分內的至少一個回旋端口，所述第三開口定向成平行于所述縱向軸線，所述第三開口將所述本體的所述內部區域流通地連接到外部區域，所述第三開口構造成圍繞所述電極在所述本體的所述遠側端處提供等離子氣體的回旋流。

2.根據權利要求1所述的回旋環，其特征在于，所述第一開口定向成垂直于所述縱向軸線。

3.根據權利要求1所述的回旋環，其特征在于，所述第二開口定向成垂直于所述縱向軸線。

4.根據權利要求1所述的回旋環，其特征在于，所述內表面的至少一部分限定在所述第三開口的近側且與所述第三開口處于流體連通的回旋氣體腔室的一部分，其中，所述回旋氣體腔室為由所述回旋環的所述內表面和位于所述回旋環的所述內部區域內的電極的外表面限定的腔室。

5.根據權利要求4所述的回旋環，其特征在于，所述回旋氣體腔室進一步由所述電極的外表面限定。

6.根據權利要求5所述的回旋環，其特征在于，所述第二開口包括通往所述回旋氣體腔室的入口。

7.根據權利要求5所述的回旋環，其特征在于，所述第三開口包括離開所述回旋氣體腔室的出口。

8.根據權利要求1所述的回旋環，其特征在于，所述回旋環進一步包括在所述回旋環的所述內表面和所述電極的外表面之間的第一密封部件，所述第一密封部件沿軸向位于所述第一開口和所述第二開口之間。

9.根據權利要求1所述的回旋環，其特征在于，所述回旋環進一步包括在所述回旋環的所述內表面和所述電極的外表面之間的第二密封部件，所述第二密封部件沿軸向位于所述第二開口和所述第三開口之間。

10.根據權利要求1所述的回旋環，其特征在于，所述回旋環進一步包括在所述本體的所述近側端處的環形供應通路，所述環形供應通路由所述回旋環的所述內表面和所述電極的外表面限定，并且構造成將氣體流傳導到所述回旋環的所述內部區域中。

11.根據權利要求1所述的回旋環，其特征在于，所述第二開口包括至少一個測定端口。

12.一種用于控制通過等離子體電弧噴槍中的回旋環的等離子氣體流的方法，所述回旋環具有空心本體，所述空心本體具有遠側端、近側端、由內表面限定的內部區域和外表面，所述回旋環的所述遠側端和所述近側端限定延伸通過其中的縱向軸線，所述方法包括：

在所述本體的所述近側端處，將等離子氣體流供應到所述回旋環的所述內部區域中；

通過設置在所述本體的所述近側端的一部分內的第一開口，將來自所述內部區域的等離子氣體流傳導到所述回旋環的所述外表面；

通過位于所述本體的中心部分中的第二開口，將來自所述外表面的等離子氣體流傳導到所述回旋環的所述內部區域中的回旋氣體腔室，其中，所述回旋氣體腔室為由所述回旋環的所述內表面和位于所述回旋環的所述內部區域內的電極的外表面限定的腔室；

通過設置在所述本體的所述遠側端的一部分內的第三開口，將來自所述回旋氣體腔室的等離子氣體流傳導到外部區域;以及

通過所述第三開口，圍繞所述電極在所述本體的所述遠側端處對等離子氣體流施加回旋運動。