[發明專利]滅菌方法和滅菌裝置

有效

• 申請號: 201710230693.7
• 申請日: 2017-04-10
• 公開（公告）號: CN108686241B
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 安樂大輝;板良敷朝將;張海軍;屈國強;楊敏
• 申請（專利權）人: 山東新華醫療器械股份有限公司
• 主分類號: A61L2/22
• 分類號: A61L2/22;A61L2/26;A61L2/20;A61L101/22;A61L101/36
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王學強

本發明提供滅菌方法和滅菌裝置。滅菌裝置具有：滅菌室；氣化室；將所述氣化室分隔成第1房間和第2房間的壁；連接所述第1房間和第2房間的第1通路；配置在所述第1房間內的工作臺；朝向所述工作臺配置且朝向所述工作臺噴霧所述滅菌劑的噴嘴；對朝向所述工作臺噴霧的所述滅菌劑的液體成分進行貯存的液體貯存部；連接所述第2房間和所述滅菌室的第2通路；以及對所述滅菌室進行減壓、并且經由所述第1通路和所述第2通路對所述氣化室的第1房間和第2房間進行減壓的單元，所述第1通路由厚度較小且寬度較寬的帶狀的間隙形成。

技術領域

本發明涉及滅菌方法和滅菌裝置。

背景技術

以往，為了對醫療器具進行滅菌處理，采用干熱滅菌法和高壓水蒸氣滅菌法。這些滅菌方法是在比較高溫的環境下對醫療設備進行加熱處理。但是，伴隨醫療設備的多樣化，一部分使用無法耐受高溫的材料的醫療設備增加，針對這種醫療設備需要新的滅菌方法。另外，關于如內窺鏡那樣具有長條且較細的中空管的醫療設備，需要到中空管的末端為止完全實施滅菌處理。

作為能夠滿足這種要求的滅菌方法，提出了向減壓后的環境注入滅菌處理用的藥劑而生成滅菌氣體、利用該滅菌氣體對減壓環境下的滅菌對象進行滅菌的方法，根據該滅菌方法，能夠到較細的中空管的角部為止進行滅菌處理而不依賴于高溫。

然而，在該滅菌方法中，一般利用過氧化氫作為滅菌劑，但是，在需要高度滅菌處理的醫療設備的滅菌中，僅利用過氧化氫，有時很難進行充分的滅菌。因此，作為比較少量也能夠得到較高滅菌效果的滅菌劑，還已知使用包含過氧乙酸的強氧化劑。

在先技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特許第2780228號公報

專利文獻2：日本特許第4526649號公報

但是，當直接將過氧化氫、過氧乙酸以液體形式供給到滅菌室時，引起構成滅菌室的構件的腐蝕。因此，在將這種滅菌劑供給到滅菌室時，首先向滅菌室導入負壓，向該負壓下的滅菌室噴霧滅菌劑。但是，當一次性將大量滅菌劑注入到滅菌室時，全部滅菌劑未完全氣化，一部分未氣化滅菌劑殘留在滅菌室內，有時成為腐蝕的原因。

發明內容

發明要解決的課題

本發明的目的在于消除這種腐蝕的問題。

用于解決課題的手段

為了實現該目的，本發明的滅菌裝置的實施方式具有：滅菌室；氣化室；將所述氣化室分隔成第1房間和第2房間的壁；連接所述第1房間和第2房間的第1通路；配置在所述第1房間內的工作臺；朝向所述工作臺配置且朝向所述工作臺噴霧所述滅菌劑的噴嘴；對朝向所述工作臺噴霧的所述滅菌劑的液體成分進行貯存的液體貯存部；連接所述第2房間和所述滅菌室的第2通路；以及對所述滅菌室進行減壓、并且經由所述第1通路和所述第2通路對所述氣化室的第1房間和第2房間進行減壓的單元，所述第1通路由厚度較小且寬度較寬的帶狀的間隙形成。

在本發明的其他實施方式的滅菌裝置中，所述壁具有從所述氣化室的底部立起的分隔壁，所述滅菌裝置具有在所述分隔壁的上端面與所述氣化室的頂面之間形成的帶狀的間隙。

在本發明的其他實施方式的滅菌裝置中，所述壁具有從所述氣化室的底部立起的第1壁和從所述氣化室的頂部垂下的第2壁，在所述第1壁與第2壁之間形成有所述帶狀的間隙。

在本發明的其他實施方式的滅菌裝置中，在所述第2通路的與所述滅菌室連接的端部的下方配置有托盤。

發明效果

根據本發明的實施方式的滅菌裝置，從第1房間向第2房間移動的滅菌氣體與帶狀的壁接觸。因此，滅菌氣體內含有的液體成分(特別是沸點較高的磷酸或硫酸)通過與壁的接觸而被捕捉，不會運送到滅菌室。

附圖說明